專利名稱：一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，應(yīng)用于大，中，小尺寸電容式觸摸屏。
背景技術(shù)：
氧化銦錫(Indium-Tin Oxide，ΙΤ0)透明導(dǎo)電薄膜應(yīng)用于電容式觸摸屏?xí)r，要求成膜的ITO膜蝕刻并形成特別電極圖案，蝕刻前后顏色差或反射差(▽ R)較小，即相對于人眼無法辨別差異。常見電容式觸摸屏結(jié)構(gòu)有表面電容式觸摸屏及投射電容式觸摸屏，表面電容式觸摸屏只采用單層ITO薄膜，從四個角感應(yīng)由手指在表層靜電區(qū)域帶走的電荷，從而推算出觸電位置。投射電容式觸摸屏采用兩層ITO薄膜，由每一層ITO層感應(yīng)與手指間互電容帶走電荷，相對于表面電容式，投射電容式能穿透較厚覆蓋層。目前，對于中小尺寸電容屏而言，投射電容式觸摸屏比較流行。結(jié)構(gòu)如下覆蓋層，掩膜層(標不層)，光學(xué)膠，第一層感應(yīng)單兀與基底，光學(xué)膠，第二層感應(yīng)單兀與基底，光學(xué)膠或空氣層，8LCD.第四層感應(yīng)單元與襯底，ITO層厚度小于lOOnm，ITO涂層基底可以為 10(^111-1_的玻璃(11 1.52)或是25 4 111-30(^111 PET (IR 1· 65)薄膜，ITO 越厚，方阻越低，信噪比越好，ITO越薄，光學(xué)透光率越好；第六層感應(yīng)單元與基底與第四層材料相同，但玻璃與PET薄膜不能混合使用，若ITO在基底上表面，厚的基底可以獲得更高的信噪t匕，若ITO在基底下表面，則薄的基底可以獲得較高的信噪比。目前，電容式觸摸屏ITOfilm導(dǎo)電薄膜結(jié)構(gòu)如該結(jié)構(gòu)由四層膜組成，基材，基材上表面粘接層，高折射率層，絕緣層及導(dǎo)電層，基材上下表面加硬層?；腜ET，厚度20-200 μ m,粘接層為Si02或Si02與SiO混合物，厚度5_20nm，高折射率層為Nb205或Ti02，厚度5-15nm，絕緣層為Si02，厚度40-65nm，導(dǎo)電層為IT0，厚度15_25nm。加硬層厚度20-60 μ m，加硬層不影響整體透過曲線，起到保護PET的作用。目前現(xiàn)有的投射式電容屏絕大多數(shù)外掛式即采用承載感測線路(sensorpattern)的基板與面板相貼合，基板通常為玻璃或者薄膜(PET)，玻璃式阻抗較好，薄膜式重量，厚度優(yōu)勢較明顯。在觸摸屏工藝中，堆疊的層與層之間需要進行貼合，因此觸控模組的最終成本除了材料成本外，就跟貼合的良率息息相關(guān)，特別是進行全貼合的方式。因此，若是能夠提高貼合良率、甚至減少貼合次數(shù)，就會成為觸控制程技術(shù)的發(fā)展方向。
發(fā)明內(nèi)容為克服以上缺陷，本實用新型目的在于提供一種雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜結(jié)構(gòu)，本膜系相對于現(xiàn)有技術(shù)而言，較少了貼合次數(shù)，可使產(chǎn)能提高，工藝過程較易掌握，觸摸屏生產(chǎn)產(chǎn)品良率上升。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，此導(dǎo)電薄膜的中間層為柔性透明基材，在柔性透明基材的上下表面分別設(shè)置有加硬層，在所述加硬層的另一側(cè)依次向外設(shè)置有粘接層、透明導(dǎo)電層。所述粘接層的折射率為I. 47-1. 6。所述粘接層的厚度為530nm。所述粘接層的材料為SiOx或SixNyO。所述透明導(dǎo)電層的折射率為I. 7。所述透明導(dǎo)電層的厚度為15—25nm。本實用新型的有益效果本實用新型所獲得的透明導(dǎo)電薄膜可見光透過率高于 85%，方阻為150-260歐姆。柔性基材上下表面加硬層起到保護PET的作用。較少了貼合次數(shù)，可使產(chǎn)能提高，工藝過程較易掌握，觸摸屏生產(chǎn)產(chǎn)品良率上升。
圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖I對本實用新型進行詳細說明一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，此導(dǎo)電薄膜的中間層為柔性透明基材3，在柔性透明基材3的上下表面分別設(shè)置有加硬層4，在所述加硬層4的另一側(cè)依次向外設(shè)置有粘接層2、透明導(dǎo)電層I。所述粘接層2的折射率為L 47-1. 6。所述粘接層2的厚度為530nm。所述粘接層2的材料為SiOx或SixNyO。所述透明導(dǎo)電層I的折射率為I. 7。所述透明導(dǎo)電層I的厚度為15 — 25nm。鍍治該膜層結(jié)構(gòu)采用卷繞系統(tǒng)，基材3放入卷繞系統(tǒng)放卷室內(nèi)，待真空度達到要求時進行鍍治，本底真空度要求10-7mbar-10-6mbar?；木砝@過程中依次經(jīng)過中頻交流磁控反應(yīng)濺射室及直流磁控反應(yīng)濺射室，中頻交流磁控反應(yīng)濺射室內(nèi)置Si靶，氣體氛圍為氬氣，氮氣，及氧氬混合氣。基材卷繞過程中,對靶材施加中頻交流電并沖入適當氬氣,壓強范圍10-lmbar-10-3mbar,利用気氣輝光放電產(chǎn)生等離子體，Si祀在該氛圍內(nèi)沉積至基材3表面，沉積過程中與氣體氛圍內(nèi)氧氣，氮氣結(jié)合產(chǎn)生SiOx或SixNyO,直流磁控反應(yīng)派射室內(nèi)置ITO祀,氣體氛圍為気氣,気氧混合氣。壓強范圍10-lmbar-10-3mbar,基材3卷繞至該濺射室內(nèi)時，ITO靶被濺射至基材3表面，充入適當氧氣得到Ho透明導(dǎo)電薄膜。雙層透明導(dǎo)電薄膜鍍完后，卷繞系統(tǒng)收卷室得到單層透明導(dǎo)電薄膜。改變卷繞方向，在基材3另一面鍍雙層透明導(dǎo)電薄膜后得到此實用新型用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜。以上所述實施例僅表達了本專利的一種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本專利范圍的限制。應(yīng)當指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本專利構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。因此，本專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準。
權(quán)利要求1.一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于此導(dǎo)電薄膜的中間層為柔性透明基材(3)，在柔性透明基材(3)的上下表面分別設(shè)置有加硬層(4)，在所述加硬層(4)的另一側(cè)依次向外設(shè)置有粘接層(2)、透明導(dǎo)電層(I)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于所述粘接層(2)的折射率為I. 47-1. 6。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于所述粘接層(2)的厚度為530nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于所述粘接層(2)的材料為SiOx或SixNyO。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于所述透明導(dǎo)電層(I)的折射率為I. 7。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于所述透明導(dǎo)電層(I)的厚度為15—25nm。
專利摘要本實用新型涉及一種用于電容式觸摸屏雙面雙層透明導(dǎo)電薄膜，應(yīng)用于大，中，小尺寸電容式觸摸屏。此導(dǎo)電薄膜的中間層為柔性透明基材，在柔性透明基材的上下表面分別設(shè)置有加硬層，在所述加硬層的另一側(cè)依次向外設(shè)置有粘接層、透明導(dǎo)電層。本實用新型所獲得的透明導(dǎo)電薄膜可見光透過率高于85%，方阻為150-260歐姆。柔性基材上下表面加硬層起到保護PET的作用。較少了貼合次數(shù)，可使產(chǎn)能提高，工藝過程較易掌握，觸摸屏生產(chǎn)產(chǎn)品良率上升。
文檔編號G06F3/044GK202694826SQ201220320249
公開日2013年1月23日 申請日期2012年7月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月4日
發(fā)明者李晨光, 蔡榮軍, 于甄, 呂敬波 申請人:南昌歐菲光科技有限公司