專利名稱：一種電容式觸控面板的制作工藝的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種電容式觸控面板的制作工藝。
背景技術：
傳統電容式觸控面板的制作工藝如圖I所示，其過程大致為先準備玻璃基板，隨后在玻璃基板上依次制作電極層、保護層、印刷層及外層鏡片，最后在玻璃基板的另一側上貼附液晶面板。通過該工藝步驟得到的一種電容式觸控面板的制作工藝如圖2所示，包括玻璃基板5,在玻璃基板5的兩側分別設有電極層4及液晶面板6,在電極層4上由下到上依次設有保護層3、印刷層2及外層鏡片I。由此可見，傳統電容式觸控面板的制作工藝層數較多，再加上有厚度達到O. 5mm 2. Omm的上蓋，導致整個觸控面板厚度太厚。該結構與今日顯示器面板往輕薄化發展的趨勢很不協調，同時由于太厚度導致透光效率下降，因此，對傳統觸摸屏的結構和工藝進行改造勢在必行。本發明采用一層透明基板(包括玻璃和有 機基板)和陰罩式掩模板技術，節約了一塊玻璃板，取消了光刻工藝，不僅使觸摸屏更輕，更薄，而且降低了成本，特別是該工藝環保，是觸摸屏制造技術的重大技術改進。
發明內容
本發明的目的是提供一種使得觸摸屏更輕、更薄，而且降低了成本的觸控面板的制作工藝。為了達到上述目的，本發明的技術方案是提供了一種電容式觸控面板的制作工藝，其步驟為第一步、準備透明基板，其特征在于第二步、采用陰罩式掩模板的圖形成型技術，在透明基板上依次制作電極層、保護層及印刷層；第二步、在印刷層表面上貼合顯不器面板。優選地，所述陰罩式掩模板的圖形成型技術的具體步驟為采用真空濺鍍工藝，由真空離子濺鍍鑰鋁合金靶濺射出的鑰鋁合金靶晶粒通過鏤空的陰罩板上的孔在所述透明基板上形成具有一定圖形形狀的鑰鋁合金膜，根據所需制作的電容式觸控面板的不同，用不同鏤空形狀的陰罩板多次成型，從而在所述透明基板(5)上形成需要的圖形形狀構。優選地，所述真空濺鍍工藝的真空條件為5*10_3ton·以上，溫度為至少300攝氏度。優選地，在進行所述真空濺鍍工藝前，對透明基板的表面進行清洗，使其接觸角不大于15度。優選地，所述鑰鋁合金靶晶粒平均粗造度小于O. I μ m。優選地,所述鑰鋁合金膜的厚度大于1500A。本發明為觸摸屏模塊去掉了外層鏡片，節約了一塊玻璃基板，從而提高了透光性并使得觸摸屏模塊變得更輕，更薄。同時由于采用陰罩式圖形成型技術，省卻了傳統圖形成型技術中的光刻工藝，省卻了顯影和濕刻的工藝環節，不僅工藝簡單，而且降低了工藝成本，因為不需要光刻，不再需要顯影液和刻蝕液，對環境更友好。
圖I為傳統一種電容式觸控面板的制作工藝的制作工藝；圖2為傳統一種電容式觸控面板的制作工藝的結構圖；圖3為本發明提供的一種電容式觸控面板的制作工藝；圖4為本發明提供的一種電容式觸控面板的結構圖。
具體實施方式
為使本發明更明顯易懂，茲以優選實施例，并配合附圖作詳細說明如下。如圖3所示，本發明提供的一種電容式觸控面板的制作工藝將傳統的由兩塊玻璃基板構成的觸摸屏面板簡化成了一片透明基板，其步驟為第一步、準備透明基板5，在本發明中，透明基板5可以是玻璃基板，也可以是玻璃基板以外的其他透明有機材料基板；第二步、采用陰罩式掩模板的圖形成型技術，在透明基板5上依次制作電極層4、保護層3及印刷層2，在本發明中，圖形化構成不再采用傳統的光刻技術，而是采用陰罩式掩模板的圖形化技術，采用了陰罩式圖形化技術，省卻了光刻工藝，透明基板5不再需要經過顯影和刻蝕的化學工藝，因而可以采用透明有機材料基板。所述陰罩式掩模板的圖形成型技術的具體步驟為采用真空濺鍍工藝，由真空離子濺鍍鑰鋁合金靶濺射出的鑰鋁合金靶晶粒通過鏤空的陰罩板上的孔在所述透明基板5上形成具有一定圖形形狀的鑰鋁合金膜，根據所需制作的電容式觸控面板的不同，用不同鏤空形狀的陰罩板多次成型，從而在所述透明基板5上形成需要的圖形形狀構。真空濺鍍工藝的真空條件為5*10_3torr以上，溫度為至少300攝氏度，在此條件下才能形成較好的鑰鋁合金膜。為了獲得較好的附著力，在進行真空濺鍍工藝前，對透明基板5的表面進行清洗，使其接觸角不大于15度，否則鑰鋁合金膜會脫落。為了圖形的精度提高，鑰鋁合金靶晶粒平均粗造度小于O. I μ m。為了電性S/N訊號與雜訊比良好，鑰鋁合金膜的厚度大于1500A。第三步、在印刷層2表面上貼合顯示器面板6，透明基板5不僅可以和液晶顯示器貼合構成觸摸屏，也可以和液晶以外的其他任何顯示器貼合，構成觸摸屏模塊。通過上述工藝得到如圖4所示的一種電容式觸控面板，包括顯示器面板6，在顯示器面板6的一側由下至上依次設有印刷層2、保護層3、電極層4及透明基板5，透明基板5即為觸摸屏面板。之所以在電容式觸摸屏產品的生產過程中可以采用陰罩式掩模板的圖形成型技術，是因為觸摸屏的像素面積較大，不會形成小孔衍射現象，而在TFT技術中，由于TFT像素太小，會有小孔衍射。該技術的采用省去了常規掩模板光刻成型技術中的曝光、顯影、剝離等工藝，簡化了工藝流程，節約了大量的購買設備的資金和光刻工藝運行的資金，同時沒有刻蝕過程，避免了刻蝕過程使用大量化學藥品可能造成的環境污染。本發明提供的一種電容式觸控面板的制作工藝增加穿透率3% 7%,厚度可減少O. 5mm 2. Omm,成本更低，同時對環境更友好。·
權利要求
1.一種電容式觸控面板的制作工藝，其步驟為 第一步、準備透明基板(5)，其特征在于 第二步、采用陰罩式掩模板的圖形成型技術，在透明基板(5)上依次制作電極層(4)、保護層⑶及印刷層(2); 第三步、在印刷層(2)表面上貼合顯示器面板(6)。
2.如權利要求I所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于所述透明基板(5)為玻璃基板，或透明有機材料基板。
3.如權利要求I所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于所述陰罩式掩 模板的圖形成型技術的具體步驟為采用真空濺鍍工藝，由真空離子濺鍍鑰鋁合金靶濺射出的鑰鋁合金靶晶粒通過鏤空的陰罩板上的孔在所述透明基板(5)上形成具有一定圖形形狀的鑰鋁合金膜，根據所需制作的電容式觸控面板的不同，用不同鏤空形狀的陰罩板多次成型，從而在所述透明基板(5)上形成需要的圖形形狀構。
4.如權利要求3所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于所述真空濺鍍工藝的真空條件為5*10_3torr以上，溫度為至少300攝氏度。
5.如權利要求3所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于在進行所述真空濺鍍工藝前，對透明基板(5)的表面進行清洗，使其接觸角不大于15度。
6.如權利要求3所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于所述鑰鋁合金靶晶粒平均粗造度小于O. I μ m。
7.如權利要求3所述的一種電容式觸控面板的制作工藝，其特征在于所述鑰鋁合金膜的厚度大于1500A。
全文摘要
本發明提供了一種電容式觸控面板的制作工藝，其步驟為第一步、準備透明基板，其特征在于第二步、采用陰罩式掩模板的圖形成型技術，在透明基板上依次制作電極層、保護層及印刷層；第三步、在印刷層表面上貼合顯示器面板。本發明為觸摸屏模塊去掉了外層鏡片，節約了一塊玻璃基板，從而提高了透光性并使得觸摸屏模塊變得更輕，更薄。同時由于采用陰罩式圖形成型技術，省卻了傳統圖形成型技術中的光刻工藝，省卻了顯影和濕刻的工藝環節，不僅工藝簡單，而且降低了工藝成本，因為不需要光刻，不再需要顯影液和刻蝕液，對環境更友好。
文檔編號G06F3/044GK102929469SQ20121047060
公開日2013年2月13日 申請日期2012年11月20日 優先權日2012年11月20日
發明者谷至華, 江大勛, 凌安海 申請人:上海昊信光電有限公司