用于粘性流體分配系統的校準方法【專利摘要】本發明涉及一種用于校正流體分配系統(10)的方法，包括以下步驟：用光學傳感器定位外部基準點(24)；將流體分配器(12)移動至外部基準點(24)；在外部基準點(24)處用流體分配器(12)分配流體；用光學傳感器定位被分配的流體；計算在外部基準點(24)的位置和被分配的流體的位置之間的距離；至少部分地基于計算出的距離來確定校正值；以及使用校正值來提高被分配流體的布置精度。【專利說明】用于粘性流體分配系統的校準方法
技術領域：
[0001]本發明總體上涉及用于校準粘性流體分配系統的方法。更具體地，本發明涉及用于校準由粘性流體分配系統分配的粘性流體的布置的方法。【
背景技術：
】[0002]在例如為印刷電路板(“PCB”)的基底的制造中，經常需要施加少量的粘性流體，即，粘性大于50厘泊的粘性流體。這種流體例如包括通用粘合劑、焊膏、焊劑、阻焊劑、油脂、油、密封劑、封裝化合物、環氧樹脂、芯片粘貼劑、硅樹脂、RTV和氰基丙烯酸鹽粘合劑。[0003]在制造期間，PCB經常被傳送至粘性流體分配器，該粘性流體分配器安裝至機架系統并由此能夠在PCB上方以三個運動軸移動，例如在標準X-Y-Z笛卡爾坐標系中移動。移動的流體分配器與相機一起操作，該相機也安裝到機架系統并相對于流體分配器固定，并且流體分配器能夠將粘性流體的微滴分配在PCB上的期望位置處。[0004]隨著PCB變得更密集且安裝于其上的部件變得更小，更關鍵的是以高精確度(通常也被稱為“布置精度”或“定位精度”)來分配粘性流體的微滴。提高布置精度的一種方法在于通過將想要分配的微滴的位置與實際分配的微滴的位置進行比較。許多因素導致粘性流體的分配微滴的不良布置精度，包括不良照相機校準、流體分配系統中的物理部件的未對準和輕微改變、內部軟件錯誤以及與輸入到控制流體分配器或照相機系統的軟件程序中的數據相關聯的人為錯誤。[0005]操作流體分配系統中的關鍵步驟在于計算相機到針偏移值以考慮流體分配器和與其一起操作的相機的相對于X-Y平面的位置中的差異，流體分配器和相機沿著該X-Y平面移動。“相機到針偏移(Camera-to-needleoffset)”指的是流體從其分配的流體分配器噴嘴或針的中心與相機成像傳感器的中心之間的距離，該相機成像傳感器用于識別流體被分配在其處的位置。該相機到針偏移值被操作流體分配系統的計算機考慮，使得流體然后被正確地分配在考慮了相機與分配噴嘴的偏移而由相機識別的位置處。例如，流體分配噴嘴和相機成像傳感器可被安裝至機架系統，使得該流體分配系統的中心與相機成像傳感器的中心分開15厘米的距離。這15厘米被記錄為相機到針偏移值，在由相機識別出流體微滴在其處被分配的位置之后，在計算該位置時該相機到針偏移值被流體分配系統考慮。[0006]雖然在安裝流體分配器時進行了相機到針偏移的初步計算，但通常不足以產生以高布置精度分配的流體微滴。換言之，在想要分配微滴的位置與實際分配微滴的位置之間仍存在較大的距離。這至少部分地歸因于初步相機到針偏移值未考慮另外地誤差源。這種附加誤差源可包括系統部件在初始移動之后的輕微機械變化，這可致使初步偏移值不精確和/或控制流體分配系統的軟件的稍微不精確地執行。當前的用于流體分配系統的校準方法無法提供充分考慮這些附加誤差源以優化微滴布置精度的步驟。[0007]因此，存在解決這些缺陷的流體分配系統校準方法的需求。【
發明內容】[0008]用于校準流體分配系統的示例性方法包括以下步驟:用光學傳感器定位外部參考點；將流體分配器移動至外部參考點；用流體分配器在外部參考點處分配流體;用光學傳感器定位被分配的流體;計算在外部參考點的位置和被分配的流體的位置之間的距離;至少部分地基于計算出的距離確定校正值;以及使用該校正值來提高分配流體的布置精度。[0009]通過閱讀參考附圖的示意性實施例的下文詳細描述，對于本領域普通技術人員而言，本發明的各種附加特征和優勢將變得更加顯而易見。【附圖說明】[0010]圖1是計算機控制的粘性流體分配系統的示意圖，該系統包括定位在平臺上方的流體分配器和攝像機。[0011]圖2是印刷有多個基準點的基準瓦片的頂視圖。[0012]圖3是示出了根據本發明的實施例的微滴布置校準程序的簡化步驟的流程圖。[0013]圖4是與圖3類似的詳細流程圖，但其示出了微滴布置校準程序的詳細步驟。[0014]圖5A是與圖2類似的頂視圖，但其示出了根據本發明的實施例的相機為了定位設置在基準瓦片上的基準點而行進的路徑的細節。[0015]圖5B是與圖2類似的頂視圖，但其示出了根據本發明的實施例的流體分配器為了分配粘性流體的起始微滴而行進的路徑的細節。[0016]圖5C是與圖2類似的頂視圖，但其示出了根據本發明的實施例的流體分配器為了將粘性流體的校準微滴分配在每個基準點的中心處而行進的路徑的細節。[0017]圖6A至圖6G是圖形用戶界面的視圖，示出了根據本發明的實施例的用戶與微滴布置校準程序的互動的各個階段。【具體實施方式】[0018]參考附圖，圖1是可從加利福尼亞州卡爾斯巴德的NordsonASYMTEK購得的類型的計算機控制粘性流體分配系統10的示意性圖示。系統10包括流體分配器12和攝像機14，該攝像機附接至定位在平臺16上方的X-Y定位器(未示出)。流體分配器12安裝在從X-Y定位器懸置的Z軸驅動器(未示出)上，使得流體分配器12可相對于下方的平臺16豎直地平移，以用于將粘性流體的微滴分配在定位在平臺16上的基底上。X-Y定位器和Z軸驅動器為流體分配器12提供了三個基本垂直的運動軸線。[0019]流體分配器10包括計算機11，用于向系統10提供總體控制。計算機11可以是可編程邏輯控制器(“PLC")或基于微處理器的其它控制器、個人計算機、或能夠實施本文中描述的功能的其它常規控制裝置，這對于本領域普通技術人員而言是顯而易見的。在這方面，計算機11可包括處理器、存儲器、大容量存儲裝置、輸入/輸入(I/O)接口以及人機接口(“HMI”)，諸如圖形用戶界面(“GUI”)。計算機11還可經由網絡或I/O接口操作地聯接至一個或多個外部源。所述外部源可包括但不限于服務器、數據庫、大容量存儲裝置、外圍設備、基于云的網絡服務或可由計算機11使用的任何其它合適的計算機源。[0020]諸如PCB(未示出)的基底(通過流體分配器12將諸如為粘合劑、環氧樹脂、焊料等的粘性流體的微滴分配在該基底上)被手動地裝載至或被自動輸送器(未示出)水平地運輸至流體分配器12正下方的位置。在流體分配系統10的操作期間，攝像機14識別設置在平臺16上的基底或其它目標上的位置，粘性流體的微滴被分配到所述位置處。計算機11然后控制X-Y定位器將流體分配器12移動至基底或其它目標上的期望位置上方的位置，并進一步控制Z軸驅動器將流體分配器12定位在用于進行分配的適當高度處。計算機11然后控制流體分配器12以從流體分配器12的噴嘴(未示出)分配粘性流體的微滴。被分配的粘性流體的微滴可具有適當的體積并且可為具有任意形狀的流體微滴的形式，諸如圓形、淚滴形或不規則形狀。[0021]參考圖1和圖2，平臺16包括校準站20，該校準站被構造成容納被稱為基準瓦片的外部目標瓦片22，該外部目標瓦片被可移除地放置在平臺16上且被用于校準流體分配系統10。在所示的實施方式中，基準瓦片22是平面的并且具有總體上正方形形狀。此外，在基準瓦片22包括印刷在其上的至少一個，且優選地至少八個外部參考點24，參考點被稱為“基準點”或“目標”。該八個基準點24的形狀為圓形，直徑相等地為2mm大小，并且以正方形或箱形圖案在瓦片22上相等地隔開，使得正方形或箱形圖案的任一側均包括等距間隔地定位三個基準點24。在一個實施方式中，如所示的，目標瓦片22可另外地包括中央定位的基準點24c，使得瓦片22包括以3乘3網格圖案布置的總共九個基準點。在下文描述的校準程序29的初始設置期間，中央基準點24c可用作外部基準點24中的一個的代替，并且中央基準點24c對于校準程序29的實際執行而言是非必須的。本領域的普通技術人員可使本文公開的校準方法適用于任意形狀、尺寸、數量和期望間隔的基準瓦片和基準點。[0022]圖3示出了根據本發明的一個實施方式的自動微滴布置校準程序29的簡化版本，該程序用于校準由粘性流體分配系統10分配的微滴的布置。在這種微滴布置校準程序29中，計算機11首先在30處訪問所存儲的初始相機到針偏移值。如上文討論的，相機到針偏移是表示在X-Y坐標系中在流體分配器12的噴嘴的中心與攝像機14的成像傳感器(未示出)的中心之間的距離的二元數組(array)。流體分配器12和攝像機14每個安裝至X-Y定位器，以便理想地維持在X-Y平面中彼此之間的已知距離。例如，在一個實施方式中，流體分配器12和攝像機14在X-Y平面中相對于彼此固定。在另一個實施方式中，流體分配器12在X-Y平面中可相對于攝像機14移動，使得限定在分配器12與攝像機14的成像傳感器之間的距離是經仔細考慮的、可測量的且可重復的。相機到針偏移值，即，流體分配器12與攝像機14的成像傳感器之間的X-Y距離，必須被計算機11考慮，使得分配器12可將流體精確地分配在由攝像機14識別的位置處。存儲在計算機11中的初始相機到針偏移值可例如是來自先前的校準循環的相機到針偏移值，或者其可以是用戶在進行適當測量之后授予計算機11的值。可例如使用計算機輔助設計(“CAD”)軟件進行初始偏移值的測量。[0023]接下來，在31處，計算機11命令攝像機14移動并定位基準瓦片22上的每個基準點24。對于步驟31至33，并且如下文參考圖4中所示的更詳細程序39更詳細地解釋的，攝像機14和流體分配器12兩者在X-Y平面中從不同方向接近每個基準點，以便考慮與八個不同的接近方向中的每個相關聯的誤差。在32處，計算機11命令流體分配器12移動至八個外部基準點23中的每個外部基準點的中心并且將粘性流體的微滴分配在其上。如這里使用的，術語“中心”指的是在X-Y平面中的幾何中心，被稱為所參照的物體的形心(centroid)。例如，基準點24、被分配在基準點上的微滴、流體分配器的噴嘴以及攝像機14的透鏡均具有在X-Y平面中的幾何中心(形心)，其用于計算這些物體中的任意兩個之間的距離。幾何形狀的形心易于被確定，并且對于具有不規則的非幾何形狀的分配微滴而言，其形心可由本領域的普通技術人員計算。[0024]在33處，計算機11然后命令攝像機14定位分配在基準瓦片22上的八個微滴中的每個微滴。[0025]在34處，計算機11將每個基準點24的位置與對應的流體的微滴實際被分配在其處的位置進行比較。具體地，對于每個基準點24而言，計算機11確定在基準點24的中心的X-Y坐標與其對應的分配微滴的中心的X-Y坐標之間的差異。計算機11然后確定這八個值的平均值并將存儲該平均值，其被稱為“微滴偏移誤差值”。[0026]在35處，計算機11然后將微滴偏移誤差值與由計算機11教導或以其它方式知曉的極限值進行比較。如果微滴偏移值小于極限值，則流體分配系統10被認為以足夠的微滴布置精度操作，使得其被適當地校準，并且校準程序結束。如果微滴偏移誤差值不小于極限值，則計算機11識別出系統10未以足夠的微滴布置精度操作。由此，校準程序29不結束。替代地，在36處，計算機11重新計算或以其它方式調節相機到針偏移值以考慮系統10內的額外誤差。計算機11然后重復在31處開始的上述過程，以便提高微滴布置精度。下面參考圖4更詳細地描述的相機到針偏移調節。因此，這里描述的過程是迭代過程，其中，計算機11重復步驟31-36，直到微滴布置誤差值小于極限值，使得已經充分地提高了微滴布置精度。[0027]參考圖4，將圖3中的自動微滴布置校準程序29更詳細地示出為程序39。在40處，計算機11首先設定初始相機到針偏移數組C2N，如上面參考圖3所描述的。在41處，計算機11指示用戶尋找左上基準點24a和右下基準點24b的位置，且然后將這些位置教導給計算機11。計算機11被編程為理解基準瓦片22包括以正方形圖案等距隔開的八個圓形的外基準點24。由此，基于該兩個參考基準點24a、24b的教導位置，計算機11然后可確定其余的基準點24的預計位置。本領域的普通技術人員將認識到，計算機11可被編程為也理解替代的基準點圖案和數量。[0028]在42處，計算機11然后命令攝像機14基于所有八個基準點24的預計位置來定位所有八個基準點24。攝像機14從不同方向接近每個基準點的預計位置，如上文所述。具體地，如由圖5A中示出的實施方式所示，攝像機11從四個主方向(cardinaldirect1n)及主方向的四個組合中的每個方向接近。如這里使用的，術語“主方向”指的是圖5A中的在X-Y平面中的北方、東方、南方和西方，分別由N、E、S和W表示。主方向的組合包括東北、東南、西南和西北，分別在圖5A中表示為NE、SE、SW和NW。相對于在X-Y平面中定位在基準瓦片22上的基準點24，北方對應于基準瓦片22的上邊界22a、東方對應于右邊界22b、南方對應于下邊界22c、并且西方對應于左邊界22d。[0029]如在圖5A中所示，攝像機14在基準瓦片22的中心附近的位置處開始，并且從西南方向接近第一基準點24，從東方向接近第二基準點24，從東南方向接近第三基準點24，從北方向接近第四基準點24，從東北方接近第五基準點24，從西方向接近第六基準點24，從西北方向接近第七基準點24，并且從南方向接近第八基準點24。隨著攝像機定位每個基準點24，編碼器(未示出)被用于標注基準點24的中心的X-Y坐標。所有八個基準點24的X-Y坐標然后被計算機11存儲在“基底基準點位置”數組Vsf中。本領域的普通技術人員可以將本文公開的校準方法適應為使得接近方向包括任何期望的方向及其組合，并且使得接近方向考慮任何期望數目的基準點。[0030]如在圖5A中示出的，由攝像機14橫移的合成路徑限定了具有繞基準瓦片22的中心以基本上九十度增量等距間隔開的四個弓形腿L的曲線形狀。從主方向及其組合中的每個方向接近八個基準點24是有利的，這是流體分配系統10由于基于行進方向的運動而呈現出不同量級的誤差，其被稱為“方向誤差”。由此通過從流體分配器12和攝像機14在X-Y平面中的多個可能的行進方向接近基準點24和被分配的微滴，使方向誤差對于基準點24或被分配的微滴的定位的影響最小化。[0031]在43處，計算機11命令流體分配器12將一系列的流體的初始微滴26分配到基準瓦片22上，初始微滴26具有由用戶限定的尺寸、形狀、數量和圖案。在所示的實施方式中，等間隔地分配至少一個，并且優選地至少四個初始微滴26，以在基準瓦片22的中心附近形成正方形圖案，使得初始微滴26不覆蓋基準點25中的任何基準點，如在圖5B中所示。當分配四個初始微滴26時，液體分配器12從西北方向接近第一和第二初始微滴26的位置，然后從西南方向接近第三和第四初始微滴26的位置，以便橫移限定具有單個弓形腿L的曲線形狀的路徑。分配一系列初始微滴26允許流體分配器12“加速”或“熱身”，使得流體分配器12能夠分配精度且精確量的流體以用于后續分配微滴。[0032]在44處，計算機11命令流體分配器12在八個基準點24中的每個基準點的中心處分配粘性流體的校準微滴28。如在圖5C中所示，流體分配器12橫移與上文描述的當定位八個基準點24中的每個時基準點攝像機14先前所橫移路徑相同的路徑。在流體分配器12分配每個校準微滴28時，使用編碼器標注流體分配器12被移動到以用于分配校準微滴28的位置的X-Y坐標。所有八個分配校準微滴28的分配位置的X-Y坐標然后被計算機11存儲在“分配時移動到”數組Vmt中。[0033]在45處，計算機11然后命令攝像機14定位八個被分配的校準微滴28中的每一個校準微滴。如在圖5C中所示，攝像機14橫移與在44處由流體分配器12和在42處由攝像機14先前所橫移的路徑相同的路徑。在攝像機14定位每個分配的校準微滴28時，使用編碼器標注校準微滴28的中心的X-Y坐標。每個分配的校準微滴28的X-Y坐標然后被計算機11存儲在“發現的校準微滴”數組Vcd中。[0034]在46處，通過對于每個分配的校準微滴28將該分配的校準微滴28的中心的位置與其對應的基準點24的中心的位置進行比較，計算機11確定“微滴偏移誤差”。具體地，計算機11通過得出在基底基準點位置數組Vsf與發現的校準微滴數組Vcd之間的差異來計算并存儲微滴偏移誤差數組V—，其表示為:[0035]Vdoe=Vsf-Vcd[0036]在47處，計算機11通過計算微滴偏移誤差Vdcie3的量值來計算并存儲“微滴偏移量值”數組Vd?，其表示為:[0037]Vdom=Sqrt(求平方根)(Vdoe[x]2+Vdoe[y]2)[0038]在48處，計算機11通過對于每個分配校準微滴28找出其中心相對于其對應的基準點24的中心偏移的方向來確定“微滴偏移方向”數組Vdod。[0039]在49處，計算機11確定通過計算存儲在微滴偏移量值數組Vd?內的各個值的平均值來確定“平均微滴偏移量值”。計算機11然后確定該平均微滴偏移量值是否小于教導的或由計算機11以其它方式知曉的可接受的閾值或極限值。該可接受的極限值可由用戶限定并被通信至計算機U。如上文相對于圖3討論的，如果平均微滴偏移誤差值小于可接受的極限值，則校準程序39完成。如果平均微滴誤差值不小于可接受的極限值，則程序39以涉及重新計算或調節相機到針偏移值以便處理未被初始相機到針偏移值考慮的誤差源的步驟繼續，并且最后提尚微滴布置精度。[0040]在平均微滴誤差值不小于可接受的極限值的情形中，在50處，計算機11通過將流體分配器12移動到以用于分配校準微滴28的位置與由攝像機14實際發現的被分配的微滴28所處的位置進行比較，來對每個分配校準微滴28確定局部相機到針偏移值。具體地，計算機11通過計算分配時移動到數組Vmt與發現的校準微滴基準點數組Vcd之間的差異來計算并存儲“局部相機到針偏移”數組Vi。，其表示為:[0041]Vlo=Vmt-Vcd[0042]在51處，計算機11通過對于每個分配的校準微滴28將流體分配器12被命令移動到以用于分配校準微滴28的位置與流體分配器12實際被移動到以用于分配校準微滴28的位置進行比較，來對每個分配的校準微滴28確定的“命令對實際”誤差值。具體地，計算機11通過計算分配時移動到數組Vmt、基底基準點位置數組Vsf與初始相機到針偏移數組C2N之間的差異來計算并存儲“命令對實際誤差”數組Vra，其表示為:[0043]Vca=Vmt-Vst-C2N[0044]在52處，計算機11通過以下方式來計算新的相機到針偏移值，S卩，對于每個分配校準微滴28首先計算調節相機到針偏移值，該調節相機到針偏移值考慮了與給定分配校準微滴28相關聯的局部相機到針偏移值和命令對實際誤差值這兩者。具體地，計算機11通過計算局部相機到針偏移數組Vi。與命令對實際誤差數組L的和來計算并存儲“調節相機到針偏移”數組，其表示為:[0045]Vc2n=Vlo+Vca[0046]計算機11然后通過計算存儲在調節相機到針偏移數組ν&?的各個值的平均值來計算新的相機到針偏移數組C2N，其表示為:[0047]C2N=average(求平均)(VC2n[i])[0048]新的調節相機到針偏移值由此考慮了未被初始相機到針偏移考慮的流體分配系統10中的誤差源。因此，該新的相機到針偏移可被應用于系統10以減小微滴偏移誤差并由此在微滴分配的后續循環期間提高微滴布置精度。[0049]在53處，計算機11提示用戶清潔基準瓦片22，從而可以執行校準程序39的另外迭代。[0050]在54處，計算機11確定校準程序39是否已經被執行超過用戶限定的逸出值(escapevalue)的一定數目的迭代。如果所執行的迭代的次數未超過該逸出值，則在步42處開始進行程序39的另外迭代。如果所執行的迭代的次數超過該逸出值，則計算機11進行至55，在55處，計算機11提示指示是否期望程序39的另外迭代。如果不期望另外迭代，則校準程序39結束，并且不進行另外迭代。如果期望另外迭代，則計算機11返回到42以進行程序39的另外迭代。[0051]參考圖6A至圖6G，微滴布置校準(諸如程序39)的一個實施例包括圖形用戶界面(“GUI”)59，用戶可通過該圖形用戶界面與程序39交互。GUI59具有尋像器60，計算機11在該尋像器上顯示由攝像機14識別出的基準點24和分配的微滴28。圖6A至圖6G示出了從計算機11截取的一些列截屏，該計算機可例如是個人計算機，示出了用戶與GUI59交互的不同階段。[0052]例如，用戶通過計算機11的運行〉設置屏幕中選擇程序39來開始校準程序39AUI59然后顯示在計算機11上，并且用戶被首先引導至“主(Main)”標簽61。用戶然后將攝像機14移動至X-Y平面中的期望位置，在該位置處，流體分配系統10在將微滴28分配到基準瓦片上之前將測量流體分配器12在Z方向上相對于基準瓦片22的高度。這個X-Y位置被稱為“高度感測位置”，并且當命令流體分配器12沿著Z軸朝向較低位置移動以用于將微滴28分配到基準瓦片22上時被計算機11考慮。例如，這個高度可使用任何合適的裝置(未示出)，諸如激光或機械測量裝置來測量。如在圖6A中所示，用戶然后選擇“教導HS位置”62以將高度感測位置教導給操作校準程序39的計算機11。用戶然后選擇“用于基準點”64來設定參數，程序39將使用所述參數以發現基準點24。[0053]參考圖6B，用戶然后選擇“狀態(Status)”標簽66并限定“最大可接受誤差(MaxAcceptableError)”68，其設定了由程序39用作成功標準的最大微滴偏移誤差。[0054]參考圖6C，用戶然后選擇“微滴尋找器(DotFinder)”標簽70并限定搜索窗(SearchWindow)72、相機校正時間(CameraSettlingTime)74以及用于基準點24的可接受閾值(AcceptanceThreshoId)76。微滴顏色(DotColor)78不影響程序39的結果。[0055]參考圖6D，用戶然后選擇“參數(Parameters)”標簽80來設定用于定位基準瓦片24的參數82-96ο暗度/亮度閾值(Dark/LightThreshoId)82限定與由攝像機14識別出的圓圈(諸如基準點24或分配的微滴28)的邊緣對應的灰度。在所示的實施方式中，暗度/亮度閾值(Dark/LightThreshold)82的零值對應于黑色，并且值255對應于白色。因此，如果基準點24被攝像機14識別為白色圓圈，則應該輸入大約為200的值。如果基準點被識別為黑色圓圈，貝1J應該輸入大約為80的值。最小限制直徑(RestrictMinDiameter)84和最大限制直徑(RestrictMaxDiameter)86限制可由被程序39操作的攝像機14識別的圓圈的最小直徑和最大直徑。這些參數84、86可在由攝像機14識別出多個圓圈且在尋像器60內顯示這些圓圈時，用于將“不良”圓圈過濾掉。對這些參數84、86輸入的值控制由計算機11在尋像器60內畫出的外箱87和內箱88的寬度。以這種方式，外箱87的寬度對應于對最大限制直徑(RestrictMaxDiameter)86所輸入的值，并且內箱88的寬度對應于對最小限制直徑(RestrictMinDiameter)84所輸入的值。與針對這些參數84、86所輸入的值相關聯的單位為像素(pixels)ο[0056]仍參考圖6D，圓度(RoundneSS)89對應于由攝像機14識別出的圓圈(諸如基準點24或校準微滴28)的預期圓度。例如，完美的圓圈對應于100%的圓度值(Roundness)88，并且無定形團對應于0%的圓度值(Roundness)88。如果用戶預期將始終識別出良好的圓形圓圈，則應該輸入為近似90%的值。圓周點(CircumferencePoints)90對應于所識別的圓圈(諸如基準點24或分配微滴28)將有多少是可見的。例如，整圓對應為100%的值，并且半圓對應為50%的值。如果用戶預期將始終識別出整圓，則應該輸入為近似90%的值。[0057]仍參考圖6D，發現多個微滴則失效(FailIfMultipleDotsFound)92、發現最接近中心的微滴(FindDotNearestCenter)94、和發現最大微滴(FindLargestDot)96均限定由執行程序39的計算機11在多個識別出的圓環每個滿足最小限制直徑84、最大限制直徑86、圓度89和圓周點90參數的情形中要采取的行動。發現多個微滴則失效(FailIfMultipleDotsFound)92導致計算機11表現為從未發現基準點24。發現最接近中心的微滴(FindDotNearestCenter)94和發現最大微滴(FindLargestDot)96均導致計算機在不提示用戶的情況下如所描述地執行。[0058]參考圖6E，當在尋像器60中示出基準點24時，用戶然后選擇“測試(Test)”標簽98以確定程序39是否能夠正確地識別出基準點24。對于同一基準點并且另外地對于至少一個其它基準點24，優選地多次選擇“測試(Test)”按鈕100，以模擬多次行進。如果選擇了“測試(Test)”按鈕100突出錯誤圓圈，則用戶應該返回到先前的標簽66、70和80以調節合適的參數，并且然后返回到“測試(Test)”標簽98以確保正確的操作。一旦測試符合要求，用戶則選擇“保存亮度等級(SaveLightLevels)”101以保存用于識別出基準點24的設定。[0059]參考回到圖6A，用戶然后選擇“用于微滴(ForDots)”110以開始設定參數，所述參數被用于在程序39期間識別出分配的微滴28。用戶然后將基準點24的中心定位在尋像器60內并選擇“在當前位置分配微滴(Dispensedotatcurrentlocat1n)”112。這命令流體分配器12分配能夠被用于設定微滴尋找器70參數。用戶然后使用分配的微滴28而不是基準點24作為目標重復上述步驟。一旦分配的微滴設定被設定并保存，用戶就選擇“下一步(Next)”按鈕114。[0060]參考圖6F并且仍在主(Main)標簽61上，程序39然后促使用戶定位左上的第一基準點24a。用戶選擇“下一步(Next)”114以繼續。用戶然后在尋像器60中定位左上基準點24a并選擇“教導(Teach)”116，這會導致計算機11保存左上基準點24a的X-Y坐標。[0061]參考圖6G，程序39然后促使用戶定位右下的第二基準點24b。用戶選擇“下一步(Next)”114以繼續。用戶然后在尋像器60中定位右下基準點24b并選擇“教導(Teach)”116，這會導致計算機11保存右下基準點24b的X-Y坐標。使用上文關于圖3至圖5C描述的步驟，程序39然后定位所有八個基準點24，將校準微滴28分配在每個基準點24的中心處，定位被分配的校準微滴28，并計算微滴偏移誤差。如果微滴偏移誤差大于用戶限定的極限值，則彈出誤差窗口(未示出)通過顯示諸如“平均微滴偏移量值的[值]超過可接受閾值的[值]英寸”的消息向用戶發出警告。用戶通過選擇“0K”按鈕(未示出)知曉該消息，將基準瓦片22擦拭干凈，然后選擇“下一步(Next)”114。程序39然后可重復上述步驟以便提高流體分配系統的微滴布置精度。如果新的微滴偏移誤差小于用戶限定的極限值，則程序39成功并且將出現顯示該結果的彈出窗口(未示出)。這種彈出窗口可包括諸如“值對相機偏移=([x值]，[y值])英寸可接受的微滴偏移誤差=[值]英寸平均微滴偏移誤差=[值]英寸”的消息。用戶通過選擇“0K”按鈕確認該消息，然后通過選擇“完成(Done)”按鈕來結束程序39。[0062]上文描述的校準程序39和⑶I59可由本領域普通技術人員根據需要修改，以用于與具有任何合適形狀、數量和構造的基準點的基準瓦片一起使用。[0063]雖然已經通過本發明的具體實施例的描述示出了本發明，并且雖然相當詳細地描述的這些實施例，但其并非旨在將所附權利要求的范圍約束或以任何方式限制到這些細節。本文討論的各個特征可單獨使用或組合地使用。對于本領域技術人員而言，其它優勢和改型將是顯而易見的。因此，本發明在其較寬方面不限于這些具體細節、所示出的設備和方法、以及所示出和描述的示意性實例。因此，在不背離總體發明構思的范圍和精神的前提下，可以脫離這些細節。【主權項】1.一種用于校準流體分配系統的方法，所述系統包括流體分配器和光學傳感器，所述方法包括以下步驟:(i)用所述光學傳感器定位外部參考點；(ii)將所述流體分配器移動至所述外部參考點；(iii)用所述流體分配器在所述外部參考點處分配流體；(iv)用所述光學傳感器定位被分配的流體；(V)計算所述外部參考點的位置和被分配的流體的位置之間的距離；(vi)至少部分地基于計算出的距離來確定校正值；以及(vii)使用所述校正值來提高被分配的流體的布置精度。2.根據權利要求1所述的方法，其中，由控制器自動執行步驟(i)至步驟(vii)。3.根據權利要求1所述的方法，還包括:重復步驟(i)至步驟(vii)至少一次。4.根據權利要求3所述的方法，還包括:對步驟(i)至步驟(vii)進行迭代，直到計算出的距離小于上限值。5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述外部參考點被定位在瓦片上，并且所述瓦片包括至少一個另外的外部參考點，其中，對所述至少一個另外的外部參考點也執行步驟(i)至步驟(vii)，并且其中，至少部分地基于通過對與所述外部參考點中的每個外部參考點對應的所述計算出的距離進行平均而確定的值來確定校正值。6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述瓦片具有至少八個外部參考點。7.根據權利要求1所述的方法，其中，所述外部參考點和被分配的流體每個具有形心，并且計算距離的步驟還包括:計算所述外部參考點的形心和所述被分配的流體的形心之間的距離。8.根據權利要求7所述的方法，其中，被分配的流體還包括流體微滴。【文檔編號】G05B19/401GK105849658SQ201480071470【公開日】2016年8月10日【申請日】2014年12月9日【發明人】庫特勒·克羅韋爾三世,帕曼·塔耶比【申請人】諾信公司