一種納米壓印設備的制作方法
【專利摘要】本發明公開了一種納米壓印設備，包括控制系統以及分別與之相連的真空系統、高壓系統、溫度控制系統、紫外系統和人機界面。本發明的提供的納米壓印設備，采用PLC作為控制器，對納米壓印的每個系統采取智能控制，確保納米壓印過程的精確、可靠，提高納米壓印的效率。
【專利說明】一種納米壓印設備
【技術領域】
[0001]本發明涉及微加工領域，具體涉及一種利用自動化技術實現對納米加工過程精確控制的納米壓印設備。
【背景技術】
[0002]隨著納米壓印技術的發展，納米壓印設備趨于多樣化和先進化，但是市場上多數納米壓印設備結構簡單、但壓印出來的產品精確度較差，對納米壓印過程中壓印溫度、壓印力及相關壓印參數控制不精確。
【發明內容】
[0003]發明目的:針對現有技術中存在的不足，本發明的提供一種納米壓印設備，采用PLC作為控制器，對納米壓印的每個系統采取智能控制，確保納米壓印過程的精確、可靠，提高納米壓印的效率。
[0004]技術方案:為了實現上述發明目的，本發明采用的技術方案為:
一種納米壓印設備，包括控制系統以及分別與之相連的真空系統、高壓系統、溫度控制系統、紫外系統和人機界面。
[0005]作為優選，所述的控制系統包括Delta DVP40ES PLC和10寸液晶顯示器。
[0006]作為優選，所述的控制系統通信方式為串口 232。
[0007]作為優選，所述的真空系統主要由直聯旋片式真空泵組成，真空系統的極限真空度為 6*10^1。
[0008]作為優選，所述的紫外系統采用的紫外光源為手提式高壓貢燈，光源功率為1000W，主波長為365nm。
[0009]作為優選，所述的溫度控制系統采用PID控制，加熱方式為24V、200W電熱絲加熱，冷卻方式為水冷，溫控范圍為室溫至300°C。
[0010]有益效果:本發明的提供的納米壓印設備，采用PLC作為控制器，對納米壓印的每個系統采取智能控制，對于納米壓印過程中的真空系統、高壓系統、溫度控制系統和紫外系統進行精確控制，確保壓印的產品精確、可靠，提高壓印效率和產品質量。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1是納米壓印設備的原理框圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖進一步闡明本發明，應理解這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍，在閱讀了本發明之后，本領域技術人員對本發明的各種等同形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。
[0013]如圖1所示的納米壓印設備，包括控制系統以及分別與之相連的真空系統、高壓系統、溫度控制系統、紫外系統和人機界面。真空系統主要由直聯旋片式真空泵組成，真空系統的極限真空度為6*10_中& ;紫外系統采用的紫外光源為手提式高壓貢燈，光源功率為1000W，主波長為365nm ;溫度控制系統采用PID控制，加熱方式為24V、200W電熱絲加熱，冷卻方式為水冷，溫控范圍為室溫至300°C。人機界面設有“參數設置”按鈕，根據提示設置相關參數；操作具體過程如下:
(1)真空系統開啟真空泵；
(2)溫度控制系統調節好溫度；
(3)高壓系統開啟高壓汞燈；
(4)紫外系統進行紫外壓印；
(5)高壓系統關閉高壓汞燈；
(6)真空系統關閉真空泵；
(7)關閉總電源。
【權利要求】
1.一種納米壓印設備，其特征在于:包括控制系統以及分別與之相連的真空系統、高壓系統、溫度控制系統、紫外系統和人機界面。
2.根據權利要求1所述的納米壓印設備，其特征在于:所述的控制系統主要由DeltaDVP40ES PLC 組成。
3.根據權利要求1所述的納米壓印設備，其特征在于:所述的控制系統通信方式為串Π 232。
4.根據權利要求1所述的納米壓印設備，其特征在于:所述的真空系統主要由直聯旋片式真空泵組成。
5.根據權利要求1所述的納米壓印設備，其特征在于:所述的紫外系統采用的紫外光源為手提式高壓貢燈。
6.根據權利要求1所述的納米壓印設備，其特征在于:所述的溫度控制系統采用PID控制。
【文檔編號】G05B19/05GK103558801SQ201310550106
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年11月8日 優先權日:2013年11月8日
【發明者】王晶 申請人:無錫英普林納米科技有限公司