專利名稱：多腔體設備選取腔體的方法
技術領域：
本發明涉及一種半導體制造工藝中的多腔體設備選取腔體菜單的方法。
背景技術：
隨著半導體制造技術的發展，越來越多的半導體制造企業在CIM (Computer Integrated Manufacturing ， 計算機集成制造)禾口 EAP (Equipment Automation Program,設備自動化控制程序)方面的建設非 常重視，通過建設計算機控制的自動化系統，不僅提高了生產制造的整體 效率，同時也大大降低了因人為操作錯誤而造成的經濟損失。
生產設備的自動化控制是整個CIM系統中非常重要的組成部分，而針 對多腔體設備EAP如何根據各腔體(Chamber)的實際狀況、以及菜單 (Sequence)的要求來選擇正確的腔體進行晶片(Wafer)加工，對提高生 產效率和設備利用率就顯得非常重要。
一般多腔體設備有三種腔體選取規則，請參閱圖1并詳細說明如下 (l)在當前菜單下，多腔體設備的各個腔體具有相同的工藝處理能力， 那么選取狀態正常的腔體即可。請參閱圖1 (a)，設備包括三個腔體1、 2 和3，每個腔體都具有相同的工藝處理能力，也可認為多腔體設備在當前菜 單下不具有成對的關鍵腔體。在選取腔體時，若腔體1狀態正常(圖中以 二進制數l表示)、腔體2和3狀態異常(圖中以二進制數0表示)，則選取腔體1 。
(2) 在當前菜單下，多腔體設備中有關鍵腔體，那么至少要在關鍵腔
體中選取一個。請參閱圖l (b)，設備包括四個腔體l、 2、 3和4，其中腔 體3和4為關鍵腔體。有關鍵腔體意味著腔體3和4至少要有一個的狀態 正常才可以進行工藝加工，而腔體1和2無關緊要因此未圖示。在選取腔 體時，若腔體3狀態正常、腔體4狀態異常，則選取腔體3。
(3) 在當前菜單下，多腔體設備中有多對成對腔體，那么至少要在每 對成對腔體中選取一個。請參閱圖1 (c)，設備包括四個腔體l、 2、 3和4， 其中腔體1和3為一對成對腔體，腔體2和4為一對成對腔體。有多對成 對腔體意味著每對成對腔體中至少要有一個腔體的狀態正常才可以進行工 藝加工。在選取腔體時，若腔體l狀態正常、腔體2、 3和4狀態異常，則 不能進行工藝加工；若腔體l、 2和3狀態正常、腔體4狀態異常，則選取 腔體123。
如果在當前菜單下，多腔體設備僅有一對成對腔體，視作該多腔體設 備具有兩個關鍵腔體。上述多腔體設備選取腔體的三種規則，其邏輯關系 并不復雜，在EAP系統中實現的難度也不是很大。通常EAP系統有兩種不 同的處理方法
方法一由EAP系統自動選擇正確的菜單，菜單里的各腔體如何選取 由人工事先設定；
方法二由EAP系統自動選擇正確的菜單，菜單里的各腔體如何選取 是由EAP系統根據腔體的當前狀態自動選取的；方法二自然要比方法一好，能夠避免由人工操作帶來的失誤。方法二 最常見的實施方案就是根據腔體的當前狀態和腔體選取規則制定映射表，
然后EAP系統根據實際情況查詢映射表，從而選擇腔體進行晶片加工。這
種做法非常教條，沒有通用性，并且僅能適用于腔體數量少且關系不復雜 的情況，不能隨意的擴展。因此在半導體制造過程中設計出具有一定通用 程度的腔體選取方法十分必要。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種多腔體設備選取腔體菜單的方法。
為解決上述技術問題，本發明多腔體設備選取腔體的方法包括如下步
驟
第一步，將多腔體設備的當前狀態以二進制數表示，二進制數的每一 位分別表示一個腔體的當前狀態是否正常；
第二步，將多腔體設備在當前菜單中的腔體選取規則以一個或多個二 進制數表示；
第三步，將第一步與第二步得到的二進制數進行邏輯運算，運算結果 是二進制數，二進制數的每一位分別表示一個腔體在當前菜單中是否被選 取。
本發明將多腔體設備選取腔體的方法轉換為二進制數的邏輯運算，可 以方便地借助EAP系統實現。該方法一方面可實現多腔體設備在當前菜單 及當前腔體狀況下對腔體的自動、智能選取，另一方面又具有良好的擴展性，可以擴展到腔體數目不受限制的設備或者具有多對成對的關鍵腔體等 復雜情況。
下面結合附圖和實施例對本發明作進一步詳細的說明 圖1是多腔體設備選取腔體的三種規則的示意圖； 圖2是本發明多腔體設備選取腔體的方法流程圖3是本發明以二進制數表示多腔體設備的腔體選取規則的示意圖。
具體實施例方式
請參閱圖2，本發明多腔體設備選取腔體的方法包括如下步驟 第一步，將多腔體設備的當前狀態以二進制數表示。二進制數的某一
位是1表示該腔體的當前狀態正常，二進制數的某一位是0表示該腔體的
當前狀態異常。
第二步，將多腔體設備在當前菜單中的腔體選取規則以一個或多個二 進制數表示。
第二步包括三種情況，第一種情況是多腔體設備在當前菜單中的所有 腔體具有相同的工藝處理能力，其腔體選取規則以一個二進制數表示，二 進制數的每一位均為1。
第二種情況是多腔體設備在當前菜單中具有關鍵腔體，其腔體選取規 則以一個二進制數表示。二進制數的某一位是1表示該腔體在當前菜單中 是關鍵腔體，二進制數的某一位是0表示該腔體在當前菜單中不是關鍵腔 體。第三種情況是多腔體設備在當前菜單中具有多對成對腔體，其腔體選 取規則以多個二進制數表示，每個二進制數分別表示一對成對腔體。某個 二進制數的某一位是1表示該腔體在當前菜單中是該二進制數所表示的成 對腔體，某個二進制數的某一位是0表示該腔體在當前菜單中不是該二進 制數所表示的成對腔體。
第三步，將第一步與第二步得到的二進制數進行邏輯運算，運算結果 是二進制數。二進制數的某一位是1表示該腔體為多腔體設備在當前菜單 中所選取，二進制數的某一位是0表示該腔體在當前菜單中不為多腔體設 備在當前菜單中所選取。 ，
第三步包括兩種情況，第一種情況是第二步僅得到一個二進制數，這 種情況下將第一步得到的一個二進制數和第二歩得到的一個二進制數進行 邏輯與運算，得到運算結果。
第二種情況是第二步得到多個二進制數，這種情況下將第一步得到的 一個二進制數和第二步得到的多個二進制數分別進行邏輯與運算，運算后 得到的多個二進制數之間再進行邏輯或運算，得到運算結果。
上面所述的第二步的第三種情況，多腔體設備在當前菜單中具有多對 成對腔體時，表示其腔體選取規則的多個二進制數的個數，與成對腔體的 對數相同。
上面所述的二進制數的位數優選均等于多腔體設備所具有的腔體個數 上面所述的二進制數的每一位分別表示一個腔體，為方便起見，通常 將二進制數從高位到低位分別表示多腔體設備的序號從高到低的腔體。請參閱圖3 ，這是本發明中多腔體設備的腔體選取規則的示意圖。其中，
設備METAL-Ol在任何菜單(*表示任何菜單)中所有腔體都具有相同的工 藝處理能力。設備METAL-04在以FM0開頭的任何菜單(FMO^表示以FM0開 頭的任何菜單)中腔體1和2均為關鍵腔體(l表示為關鍵腔體，0表示不 是關鍵腔體)。設備WPLUG-01在任何菜單中腔體1和2為一對成對腔體(1 表示為成對腔體，O表示不是成對腔體)，腔體3和4為一對成對腔體。
下面茲舉一例對本發明所述方法進行具體說明，根據圖3所示的腔體 選取規則，求解設備METAL-06在菜單FM010下應選取的腔體，己知設備 METAL-06當前各腔體的實際情況是腔體1、 3和4狀態正常，腔體2狀態異 常。
根據本發明所述方法，第一步，該設備的當前狀態表示為二進制數 1101。 二進制數從左到右依次表示腔體4、 3、 2和1， 二進制數的某一位是 1表示該腔體的當前狀態正常，二進制數的某一位是0表示該腔體的當前狀 態異常。
第二步，根據圖3所示，設備METAL-06在進行以FMO開頭的菜單時， 腔體2和4為關鍵腔體，那么該設備在FM010菜單下的腔體選擇規則表示 為二進制數1010。 二進制數從左到右依次表示腔體4、 3、 2和1， 二進制 數的某一位是1表示該腔體在FM010菜單下為關鍵腔體，二進制數的某一 位是0表示該腔體在F1010菜單下不是關鍵腔體。
第三步，將第一步得到的二進制數1101和第二步得到的二進制數1010 進行認D (邏輯與)運算，得到的結果為二進制數1000，從左到右依次表示腔體4、 3、 2和1， 二進制數的某一位是1表示該腔體在當前狀態及菜單 中被選取，二進制數的某一位是0表示該腔體在當前狀態及菜單中未被選 取。
最終，根據本發明所述方法，設備METAL-06根據菜單FM010以及當前 各腔體的實際狀態選取腔體4進行工藝加工。
下面再舉一例對本發明所述方法進行具體說明，根據圖3所示的腔體 選取規則，求解設備WPLUG-01在菜單EN001下應選取的腔體，已知設備 WPLUG-01當前各腔體的實際情況是腔體1、 2和3狀態正常，腔體4狀態異 常。
根據本發明所述方法，第一步，設備WPLUG-Ol的當前狀態表示為二進 制數Olll。
第二步，根據圖3所示，設備WPLUG-Ol在進行任何菜單時，腔體l和 2為一對成對腔體，腔體3和4為一對成對腔體。那么該設備在EN001菜單 下的腔體選擇規則表示為二個二進制數0011和1100。 二進制數0011表示 腔體1和2為一對成對腔體，二進制數1100表示腔體3和4為一對成對腔 體。二進制數從左到右依次表示腔體4、 3、 2和1， 二進制數的某一位是l 表示該腔體在EN001菜單下為該二進制數所表示的成對腔體，二進制數的 某一位是0表示該腔體在EN001菜單下不是該二進制數所表示的成對腔體。
第三步，將第一步得到的二進制數Olll和第二步得到的二個二進制數 0011和1100分別進行AND(邏輯與)運算，得到二個二進制數0011和0100。 二進制數0011和0100之間再進行OR (邏輯或)運算，運算結果為二進制數Olll。運算結果0111從左到右依次表示腔體4、 3、 2和1， 二進制數的 某一位是1表示該腔體在當前狀態及菜單中被選取，二進制數的某一位是0 表示該腔體在當前狀態及菜單中未被選取。
最終，根據本發明所述方法，設備WPLUG-Ol根據菜單ENOOl以及當前 各腔體的實際狀態選取腔體l、 2和3進行工藝加工。
通過上述方法將多腔體設備選取腔體轉換為二進制數的邏輯運算，不 僅可以方便地在設備自動化程序中實現，而且具有極佳的擴展性。面對多 腔體設備所具有的腔體數目不斷增加，或者多腔體設備的腔體選取規則曰 益復雜的情況下，傳統的査詢映射表的方法已經很難適應，而本發明所述 方法可以進行多層次的擴充和延伸，適應未來發展的需要。
權利要求
1. 一種多腔體設備選取腔體的方法，其特征是該方法包括如下步驟第一步，將多腔體設備的當前狀態以二進制數表示，二進制數的每一位分別表示一個腔體的當前狀態是否正常；第二步，將多腔體設備在當前菜單中的腔體選取規則以一個或多個二進制數表示；第三步，將第一步與第二步得到的二進制數進行邏輯運算，運算結果是二進制數，二進制數的每一位分別表示一個腔體在當前菜單中是否被選取。
2. 根據權利要求1所述的多腔體設備選取腔體的方法，其特征是該 方法的第二步包括如下三種情況多腔體設備在當前菜單中的所有腔體具有相同的工藝處理能力時，其 腔體選取規則以一個二進制數表示，二進制數的每一位均為1;多腔體設備在當前菜單中具有關鍵腔體時，其腔體選取規則以一個二 進制數表示，二進制數的每一位分別表示一個腔體在當前菜單中是否為關鍵腔體；多腔體設備在當前菜單中具有多對成對腔體時，其腔體選取規則以多 個二進制數表示，每個二進制數分別表示一對成對腔體，二進制數的每一 位分別表示一個腔體在當前菜單中是否為該二進制數所表示的一對成對腔 體。
3. 根據權利要求1所述的多腔體設備選取腔體的方法，其特征是該 方法的第三步包括如下兩種情況第二步僅得到一個二進制數時，將第一步和第二步得到的二進制數進 行邏輯與運算，得到運算結果；第二步得到多個二進制數時，將第一步得到的二進制數和第二步得到 的多個二進制數分別進行邏輯與運算，運算后得到的多個二進制數之間再 進行邏輯或運算，得到運算結果。
4. 根據權利要求2所述的多腔體設備選取腔體的方法，其特征是該 方法的第二步中，多腔體設備在當前菜單中具有多對成對腔體時，表示其 腔體選取規則的多個二進制數的個數，與成對腔體的對數相同。
5. 根據權利要求1至4的任何一項所述的多腔體設備選取腔體的方法， 其特征是所述二進制數的位數等于多腔體設備所具有的腔體個數。
全文摘要
本發明公開了一種多腔體設備選取腔體的方法，該方法包括如下步驟第一步，將多腔體設備的當前狀態以二進制數表示，二進制數的每一位分別表示一個腔體的當前狀態是否正常。第二步，將多腔體設備在當前菜單中的腔體選取規則以一個或多個二進制數表示。第三步，將第一步與第二步得到的二進制數進行邏輯運算，運算結果是二進制數，二進制數的每一位分別表示一個腔體在當前菜單中是否被選取。本發明通過數字化的方法來實現多腔體設備選取腔體，不僅可實現EAP系統對腔體的自動選取，還保證了方案的無限擴展性和靈活性。
文檔編號G05B19/04GK101430547SQ20071009420
公開日2009年5月13日 申請日期2007年11月6日 優先權日2007年11月6日
發明者檀國節 申請人:上海華虹Nec電子有限公司