一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種精密測試技術及儀器領域，特別涉及一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，所述激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，包括激光源、固定角反射鏡、光電探測器、測量角反射鏡裝置和分光鏡，所述測量角反射鏡裝置包括測量角反射鏡和精密位移裝置，所述精密位移裝置為所述測量角反射鏡提供與被測物體位移同向或反向的位移。本申請中，將被測物體實際位移中超出半個激光波長的小數部分△L也測量出來補充到位移檢測結果中，進而使得本申請的激光干涉儀所測量得到的位移結果更加精確，同時在距離測量過程中，精密位移裝置進行若干整數波長精確位移，通過精確的距離反求環境等效激光波長，進一步提高本實用新型激光干涉儀的測量精度。
【專利說明】
一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀
技術領域
[0001]本發明涉及一種精密測試技術及儀器領域，特別涉及一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀。
【背景技術】
[0002]激光器的出現，使古老的干涉技術得到迅速發展，激光具有亮度高、方向性好、單色性及相干性好等特點，激光干涉測量技術已經比較成熟。激光干涉測量系統應用非常廣泛:精密長度、角度的測量如線紋尺、光柵、量塊、精密絲杠的檢測；精密儀器中的定位檢測系統如精密機械的控制、校正;大規模集成電路專用設備和檢測儀器中的定位檢測系統;微小尺寸的測量等。目前，在大多數激光干涉測長系統中，都采用了邁克爾遜干涉儀或類似的光路結構，比如，目前常用的單頻激光干涉儀。
[0003]單頻激光干涉儀是從激光器發出的光束，經擴束準直后由分光鏡分為兩路，并分別從固定反射鏡和可動反射鏡反射回來會合在分光鏡上而產生干涉條紋。當可動反射鏡移動時，干涉條紋的光強變化由接收器中的光電轉換元件和電子線路等轉換為電脈沖信號，經整形、放大后輸入可逆計數器計算出總脈沖數N，再由電子計算機按計算式L = NXA/2，式中λ為激光波長，算出可動反射鏡的位移量L。
[0004]在實際使用中，本申請的發明人發現，目前的單頻激光干涉儀僅對激光干涉波的整數部分進行計數，即，只能在最強干涉時，即最強相長干涉時進行計數，而對于激光干涉過程中，非最強相長干涉時則難以計數，如此使得，其測量精度受限于激光的波長，其精度只能為半個激光波長的整數倍，但是在實際測量中，被測物體產生的位移值通常都是隨機的，不可能剛好是半個激光波長的整數倍，即，還存在有超出半個激光波長的小數部分，該部分距離并不能夠通過上述的接收器反應出來，所以也無法計算出來。同時由于大氣環境的變化，如溫度、濕度以及氣壓的變化，激光波長在環境中發生變化，這直接造成激光干涉測距的精度降低。
[0005]雖然，在常規技術領域中，激光的半個波長已具有極高的精度，但是，隨著科學技術的進步，在精密測量技術領域中，精密測量的精度要求越來越高，這種半個激光波長的精度，已日漸不能再滿足人們的要求。
[0006]所以，基于上述不足，目前亟需一種能夠提供更高測量精度的激光干涉儀。
【發明內容】
[0007]本發明的目的在于針對目前激光干涉儀精度受限于激光波長，且測量環境對激光波長有直接影響的不足，提供一種具有更高測量精度的激光干涉儀。
[0008]為了實現上述發明目的，本發明提供了以下技術方案:
[0009]—種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，包括激光源、固定角反射鏡、光電探測器、測量角反射鏡裝置和分光鏡，所述測量角反射鏡裝置包括測量角反射鏡與精密位移裝置，所述激光源射出的激光束經所述分光鏡后分為第一激光束和第二激光束，第一激光束射向所述固定角反射鏡，經所述固定角反射鏡反射后再次射向所述分光鏡，再經分光鏡后射向所述光電探測器，第二激光束射向所述測量角反射鏡，經所述測量角反射鏡反射后再次射向所述分光鏡，經分光鏡后射向所述光電探測器，第一激光束與第二激光束在射向所述光電探測器時發生干涉，所述測量角反射鏡設置在所述精密位移裝置上，所述精密位移裝置設置在被測物體上，所述精密位移裝置為所述測量角反射鏡提供與被測物體位移同向或反向的位移。
[0010]本申請的上述方案中，由于將測量角反射鏡設置在精密位移裝置上，而精密位移裝置設置在被測物體上，當被測物體發生位移時，被測物體帶動精密位移裝置，進而帶動測量角反射鏡，如此，當被測物體發生位移時，在位移過程中，由于第二激光束光程的變化，使得，第一激光束與第二激光束的干涉狀態也隨之變化，開始測量工作前，啟動精密位移裝置，使測量角反射鏡產生位移，所述測量角反射鏡的位移方向與被測物體的位移方向在同一直線上，當光電探測器檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置，并將光電探測器計數清零，然后再開始測量被測物體的位移，在第一激光束與第二激光束干涉狀態變化過程中，光電探測器記錄最強相長干涉的次數N，當被測物體移動結束，處于靜止狀態時，光電探測器停止計數;此時，通過精密位移裝置使測量角反射鏡在被測物體的位移方向上移動，并觀測光電探測器，當光電探測器檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置，并讀取精密位移裝置為測量角反射鏡提供的位移值AL。
[0011]若位移AL與被測物體的位移方向相同，則，被測物體實際產生的位移值L= NXλ/2+(λ/2_Λυ，其中Λ?<λ/2，式中λ為激光波長；
[0012]若位移AL與被測物體的位移方向相反，則，被測物體實際產生的位移值L= NX λ/2+AL，其中Λ?<λ/2，式中λ為激光波長。
[0013]如此，通過上述結構，將被測物體實際位移中超出半個激光波長的小數部分AL也測量出來補充到位移檢測結果中，進而使得本申請的激光干涉儀所測量得到的位移結果更加精確，其精確度高于半個激光波長，具體取決于精密位移裝置所能提供的位移精度。
[0014]作為本申請的優選方案，所述精密位移裝置包括支撐平臺和設置在所述支撐平臺上的驅動裝置，所述支撐平臺與所述被測物體相配合，所述驅動裝置為所述測量角反射鏡提供在被測物體位移方向上的位移。
[0015]作為本申請的優選方案，所述驅動裝置為壓電陶瓷型驅動裝置。
[0016]在本方案中，采用壓電陶瓷型驅動裝置能夠將機械能和電能互相轉換的功能陶瓷材料，其在電場作用下產生的形變量很小，最多不超過本身尺寸的千萬分之一的微小位移，具有良好的往復形變恢復能力，穩定性好、精度高，進一步提高了本申請精密位移裝置的精確性和可靠性。
[0017]作為本申請的優選方案，所述精密位移裝置還包括設置在所述支撐平臺上的第一位移件和設置在所述第一位移件上的第二位移件，所述驅動裝置與所述第一位移件相配合，為所述第一位移件提供沿所述支撐平臺的位移，所述第一位移件具有一相對于其位移方向傾斜的斜面，所述第二位移件滑動設置在所述第一位移件的斜面上，使所述第二位移件可沿所述第一位移件的斜面滑動，所述第一位移件與第二位移件之間貼緊配合，所述測量角反射鏡設置在所述第二位移件上，所述支撐平臺上還設置有約束裝置，所述約束裝置限制所述第二位移件沿所述第一位移件位移方向上的運動，使得當第一位移件被所述驅動裝置帶動而產生位移時，所述第二位移件被所述第一位移件帶動而產生位移，并且，所述第二位移件的位移方向與所述第一位移件的位移方向相垂直，所述第一位移件的斜面與其位移方向的夾角為A度，0〈A〈45。
[0018]在本申請的上述方案中，驅動裝置與第一位移件相配合，為第一位移件提供沿支撐平臺的位移，第一位移件具有一相對于其位移方向傾斜的斜面，第二位移件滑動設置在第一位移件的斜面上，使第二位移件可沿第一位移件的斜面滑動，在精密位移裝置工作時，驅動裝置提供一定的位移量推動第一位移件，此時，由于約束裝置限制第二位移件沿第一位移件位移方向上的運動，使第二位移件的位移方向與第一位移件的位移方向相垂直，如此，第二位移件的位移量與驅動裝置為第一位移件提供的位移量相關，還與第一位移件的斜面與其位移方向的夾角相關。
[0019]S卩，設第一位移件的斜面與其位移方向的夾角為A度，當驅動裝置提供的位移量為X時，第二位移件在垂直于驅動裝置運動方向上產生的位移量即為Y = Xtan(A),如此，當夾角A小于45度時，將得到一個小于X值的位移量，當進一步的減小夾角A時，位移量Y也隨之減小，如此，使得在本申請的方案中，精密位移裝置通過以行程換精度的方式，直接提高了本申請精密位移裝置的精度，也就進一步的提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0020]作為本申請的優選方案，所述第一位移件與所述支撐平臺之間還設置有具有磁性的磁性件，所述第二位移件具有磁性，所述第二位移件與所述磁性件為異性相吸狀態。使得第一位移件在被推動時，能夠保持與第二位移件緊密貼合，保證本申請精密位移裝置的精度，進而保證本申請激光干涉儀的測量精度。
[0021]作為本申請的優選方案，所述第二位移件與所述測量角反射鏡為一體式結構。
[0022]在上述方案中，第二位移件與測量角反射鏡為一體式結構，也就是說，直接在第二位移件上設置一反射面，使其本身形成測量角反射鏡，如此，簡化了本申請激光干涉儀的結構，方便調試和使用。
[0023]在實際測量環境中，激光干涉儀的測量精度還受實際測量環境的影響，由于在實際測量環境中，空氣的溫度、濕度以及氣壓的變化，都會導致空氣介質的變化，進而使得激光的波長也會發生變化，使得最終的計算結果存在誤差；
[0024]雖然目前，也存在測量空氣折射率的裝置，對單點位置的大氣溫度、濕度以及氣壓進行測量，通過波長補償公式對激光波長進行修正，但是其只能夠對局部空氣進行檢測，而在本申請的位移測量領域中，由于其位移是在一個區域內進行，該區域內各個位置的空氣各參數都存在有差異，特別是存在較大溫度梯度、濕度梯度以及氣壓梯度等情況，以單點參數修正激光波長將存在較大誤差。
[0025]所以，基于上述原因，在本申請中，在測量過程中檢測當前測量環境下，激光的環境等效波長λ’，所以直接避免了不同區域空氣折射率不同而帶來的問題，如此，減小環境因素帶來的誤差，進而進一步的提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0026]本申請還公開了一種用于上述激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀的測量方法，其包括有下述步驟:
[0027]步驟一:安裝本發明所述角反射鏡激光干涉儀；
[0028]步驟二:將測量角反射鏡裝置設置在被測物體上；
[0029]步驟三:調試本發明所述角反射鏡激光干涉儀，使形成符合要求的光路，并且，使第一激光束與第二激光束處于干涉狀態；
[0030]步驟四:開始測量工作前，啟動精密位移裝置，使測量角反射鏡產生位移，所述測量角反射鏡的位移方向與被測物體的位移方向在同一直線上，當光電探測器檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置，并將光電探測器計數清零；
[0031]步驟五:開始測量工作，被測物體開始移動，光電探測器記錄第一激光束與第二激光束最強相長干涉的次數N;
[0032]步驟六:被測物體位移結束，處于靜止狀態，再次啟動精密位移裝置，使測量角反射鏡產生位移，所述測量角反射鏡的位移方向與被測物體的位移方向在同一直線上，當光電探測器再次檢測到最強相長干涉時，停止所述精密位移裝置，使測量角反射鏡停止；
[0033]步驟七:讀取精密位移裝置為所述測量角反射鏡提供的位移值AL;
[0034]步驟八:記錄測量過程中光電探測器記錄的最強相長干涉次數N和測量角反射鏡位移值AL。
[0035]步驟九:再次啟動精密位移裝置，移動測量角反射鏡，使光電探測器記錄最強相長干涉的次數M(M為正整數)，并讀取M次最強相長干涉對應的測量角反射鏡位移值Z。根據Z =ΜΧλ’/2，得出當前測量環境下，激光的等效波長λ’=2Ζ/Μ。
[0036]步驟十:計算被測物體的位移值。
[0037]若位移AL與被測物體的位移方向相同，則，被測物體實際產生的位移值L= NXλ72+(λ’/2-Λυ，其中Λ?<λ’/2，式中λ’為激光等效波長；
[0038]若位移AL與被測物體的位移方向相反，則，被測物體實際產生的位移值L= NXλ’/2+AL，其中Λ?<λ’/2，式中λ’為激光等效波長。
[0039]本申請的測量方法，由于將測量角反射鏡位移值AL補充入被測物體的位移值中，直接提高了被測物體位移的測量精度。同時，通過檢測測量環境中的等效波長λ’，即對激光的波長進行修正，如此減小環境因素帶來的誤差，進而進一步的提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0040]作為本申請的優選方案，所述步驟四至步驟九中，所述最強相長干涉還可以是最弱相消干涉。在本方案中，在進行測量過程中，光電探測器是記錄第一激光束與第二激光束最弱相消干涉的次數，如此依然可以得到一個精度較高的被測物體的位移值L。
[0041]與現有技術相比，本發明的有益效果:
[0042]1、將被測物體實際位移中超出半個激光波長的小數部分AL也測量出來補充到位移檢測結果中，進而使得本申請的激光干涉儀所測量得到的位移結果更加精確，其精度高于半個激光波長，具體取決于精密位移裝置所能提供的位移精度；
[0043]2、檢測測量環境中激光的等效波長λ’，對激光波長進行修正，如此，減小環境因素帶來的誤差，進而進一步的提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
【附圖說明】
:
[0044]圖1為本發明激光干涉儀結構的光路示意圖；
[0045]圖2為本發明中測量角反射鏡與第二位移件為一體式結構的示意圖，
[0046]圖中標記:
[0047]1-激光源，2-固定角反射鏡，3-光電探測器，4-測量角反射鏡裝置，5-分光鏡，6-測量角反射鏡，7-精密位移裝置，8-第一激光束，9-第二激光束，10-被測物體，11-支撐平臺，12-驅動裝置，13-第一位移件，14-第二位移件，15-斜面，16-約束裝置，17-磁性件。
【具體實施方式】
[0048]下面結合試驗例及【具體實施方式】對本發明作進一步的詳細描述。但不應將此理解為本發明上述主題的范圍僅限于以下的實施例，凡基于本
【發明內容】
所實現的技術均屬于本發明的范圍。
[0049]實施例1，
[0050]如圖1、2所示，一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，包括激光源1、固定角反射鏡2、光電探測器3、測量角反射鏡裝置4和分光鏡5，所述測量角反射鏡裝置4包括測量角反射鏡6和精密位移裝置7，所述激光源I射出的激光束經所述分光鏡5后分為第一激光束8和第二激光束9，第一激光束8射向所述固定角反射鏡2，經所述固定角反射鏡2反射后再次射向所述分光鏡5，再經分光鏡5后射向所述光電探測器3，第二激光束9射向所述測量角反射鏡6，經所述測量角反射鏡6反射后再次射向所述分光鏡5，經分光鏡5后射向所述光電探測器3，第一激光束8與第二激光束9在射向所述光電探測器3時發生干涉，所述測量角反射鏡6設置在所述精密位移裝置7上，所述精密位移裝置7設置在被測物體10上，所述精密位移裝置7為所述測量角反射鏡6提供與被測物體10位移同向或反向的位移。
[0051 ]本實施例中，由于將測量角反射鏡6設置在精密位移裝置7上，而精密位移裝置7設置在被測物體10上，當被測物體10發生位移時，被測物體10帶動精密位移裝置7，進而帶動測量角反射鏡6，如此，當被測物體10發生位移時，在位移過程中，由于第二激光束9光程的變化，使得第一激光束8與第二激光束9的干涉狀態也隨之變化，開始測量工作前，啟動精密位移裝置7，使測量角反射鏡6產生位移，所述測量角反射鏡6的位移方向與被測物體10的位移方向在同一直線上，當光電探測器3檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置7，并將光電探測器3計數清零，然后再開始測量被測物體10的位移，在第一激光束8與第二激光束9干涉狀態變化過程中，光電探測器3記錄最強相長干涉的次數N，當被測物體10移動結束，處于靜止狀態時，光電探測器3停止計數;此時，通過精密位移裝置7使測量角反射鏡6在被測物體10的位移方向上移動，并觀測光電探測器3，當光電探測器3檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置7，并讀取精密位移裝置7為測量角反射鏡6提供的位移值AL。
[0052]若位移AL與被測物體10的位移方向相同，則，被測物體10實際產生的位移值L = NXλ/2+(λ/2_Λυ，其中Λ?<λ/2，式中λ為激光波長；
[0053 ]而，若位移AL與被測物體1的位移方向相反，則，被測物體1實際產生的位移值L= NXA/2+AL，其中Λ?<λ/2，式中λ為激光波長。
[0054]如此，通過上述結構，將被測物體10實際位移中超出半個激光波長的小數部分AL也測量出來并補充到位移檢測結果中，進而使得本申請的激光干涉儀所測量得到的位移結果更加精確，其精度高于半個激光波長，具體取決于精密位移裝置7所能提供的位移精度。
[0055]實施例2，
[0056]如圖1、2所示，如實施例1所述的激光干涉儀，所述精密位移裝置7包括支撐平臺11和設置在所述支撐平臺11上的驅動裝置12，所述支撐平臺11與所述被測物體10相配合，所述驅動裝置12為所述測量角反射鏡6提供在被測物體10位移方向上的位移，所述驅動裝置12為壓電陶瓷型驅動裝置。
[0057]在本實施例中，采用的壓電陶瓷型驅動裝置12為能夠將機械能和電能互相轉換的功能陶瓷材料，其在電場作用下產生的形變量很小，最多不超過本身尺寸的千萬分之一的微小位移，具有良好的往復形變恢復能力，穩定性好、精度尚，進一步提尚了本實施例中精密位移裝置7的精度。
[0058]實施例3，
[0059]如圖1、2所示，如實施例2所述的激光干涉儀，所述精密位移裝置7還包括設置在所述支撐平臺11上的第一位移件13和設置在所述第一位移件13上的第二位移件14，所述驅動裝置12與所述第一位移件13相配合，為所述第一位移件13提供沿所述支撐平臺11的位移，所述第一位移件13具有一相對于其位移方向傾斜的斜面15，所述第二位移件14滑動設置在所述第一位移件13的斜面15上，使所述第二位移件14可沿所述第一位移件13的斜面15滑動，所述第一位移件13與第二位移件14之間貼緊配合，所述測量角反射鏡6設置在所述第二位移件14上，所述支撐平臺11上還設置有約束裝置16，所述約束裝置16限制所述第二位移件14沿所述第一位移件13位移方向上的運動，使得當第一位移件13被所述驅動裝置12帶動而產生位移時，所述第二位移件14被所述第一位移件13帶動而產生位移，并且，所述第二位移件14的位移方向與所述第一位移件13的位移方向相垂直，所述第一位移件13的斜面15與其位移方向的夾角為A度，優選0〈A〈45。
[0060]在實施例中，驅動裝置12與第一位移件13相配合，為第一位移件13提供沿支撐平臺11的位移，第一位移件13具有一相對于其位移方向傾斜的斜面15，第二位移件14滑動設置在第一位移件13的斜面15上，使第二位移件14可沿第一位移件13的斜面15滑動，在精密位移裝置7工作時，驅動裝置12提供一定的位移量推動第一位移件13，此時，由于約束裝置16限制第二位移件14沿第一位移件13位移方向上的運動，使第二位移件14的位移方向與第一位移件13的位移方向相垂直，如此，第二位移件14的位移量與驅動裝置12為第一位移件13提供的位移量相關，還與第一位移件13的斜面15與其位移方向的夾角相關。
[0061]S卩，設第一位移件13的斜面15與其位移方向的夾角為A度，當驅動裝置12提供的位移量為X時，第二位移件14在垂直于驅動裝置12運動方向上產生的位移量即為Y = Xtan(A)。優選地是，當夾角A小于45度時，將得到一個小于X值的位移量，當進一步的減小夾角A時，位移量Y也隨之減小，如此，使得在本實施例中，精密位移裝置7通過以行程換精度的方式，直接提高了本實施例精密位移裝置7的精度，也就進一步的提高了本實施例激光干涉儀的測量精度。
[0062]實施例4，
[0063]如圖2所示，如實施例3所述的激光干涉儀，所述第一位移件13與所述支撐平臺11之間還設置有具有磁性的磁性件17，所述第二位移件14具有磁性，所述第二位移件14與所述磁性件17為異性相吸狀態，所述第二位移件14與所述測量角反射鏡6為一體式結構。使得第一位移件13在被推動時，測量角反射鏡6能夠保持與第二位移件14緊密貼合，保證本申請精密位移裝置7的精度，進而保證本申請激光干涉儀的測量精度，第二位移件14與測量角反射鏡6為一體式結構，也就是說，直接在第二位移件14上設置一反射面，使其本身形成測量角反射鏡6，如此，簡化了本實施例激光干涉儀的結構，方便調試和使用。
[0064]實施例5，
[0065]如圖1、2所示，一種用于上述激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀的測量方法，其包括有下述步驟:
[0066]步驟一:安裝本發明所述角反射鏡激光干涉儀；
[0067]步驟二:將測量角反射鏡裝置4設置在被測物體10上；
[0068]步驟三:調試本發明所述角反射鏡激光干涉儀，使形成符合要求的光路，并且，使第一激光束8與第二激光束9處于干涉狀態；
[0069]步驟四:開始測量工作前，啟動精密位移裝置7，使測量角反射鏡6產生位移，所述測量角反射鏡6的位移方向與被測物體10的位移方向在同一直線上，當光電探測器3檢測到最強相長干涉時，停止精密位移裝置7，并將光電探測器3計數清零；
[0070]步驟五:開始測量工作，被測物體10開始移動，光電探測器3記錄第一激光束8與第二激光束9最強相長干涉的次數N;
[0071 ]步驟六:被測物體10位移結束，處于靜止狀態，再次啟動精密位移裝置7，使測量角反射鏡6產生位移，所述測量角反射鏡6的位移方向與被測物體10的位移方向在同一直線上，當光電探測器3再次檢測到最強相長干涉時，停止所述精密位移裝置7，使測量角反射鏡6停止；
[0072]步驟七:讀取精密位移裝置7為所述測量角反射鏡6提供的位移值AL;
[0073]步驟八:記錄光電探測器3記錄的最強相長干涉次數N和測量角反射鏡6位移值ΛL0
[0074]步驟九:再次啟動精密位移裝置7，移動測量角反射鏡6，使光電探測器3記錄最強相長干涉的次數Μ(Μ為正整數)，并讀取M次最強相長干涉對應的測量角反射鏡位移值Ζ。根據Ζ=ΜΧλ’/2，得出當前測量環境下，激光的等效波長λ’=2Ζ/Μ。
[0075]步驟十:計算被測物體10的位移值。
[0076]若位移AL與被測物體10的位移方向相同，則，被測物體10實際產生的位移值L= NΧλ’/2+(λ72-Λυ，其中Λ?<λ’/2，式中λ’為激光等效波長；
[0077]若位移AL與被測物體10的位移方向相反，則，被測物體10實際產生的位移值L= NΧλ’/2+AL，其中Λ?<λ’/2，式中λ’為激光等效波長。
[0078]本實施例的測量方法，由于將測量角反射鏡6位移值AL補充入被測物體10的位移值中，直接提高了被測物體10位移的測量精度。同時，通過檢測測量環境中的等效波長λ’，即對激光的波長進行修正，如此減小環境因素帶來的誤差，進而進一步的提高了本申請激光干涉儀的測量精度。
[0079]實施例7，
[0080]如圖1、2所示，如實施例6所述的測量方法，所述步驟四至步驟九中，所述最強相長干涉還可以是最弱相消干涉。在本方案中，在進行測量過程中，光電探測器3是記錄第一激光束8與第二激光束9最弱相消干涉的次數，如此依然可以得到一個精度較高的被測物體10的位移值L。
[0081]以上實施例僅用以說明本發明而并非限制本發明所描述的技術方案，盡管本說明書參照上述的各個實施例對本發明已進行了詳細的說明，但本發明不局限于上述【具體實施方式】，因此任何對本發明進行修改或等同替換;而一切不脫離發明的精神和范圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本發明的權利要求范圍當中。
【主權項】
1.一種激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，包括激光源、固定角反射鏡、光電探測器、測量角反射鏡裝置和分光鏡，所述測量角反射鏡裝置包括測量角反射鏡與精密位移裝置，所述激光源射出的激光束經所述分光鏡后分為第一激光束和第二激光束，第一激光束射向所述固定角反射鏡，經所述固定角反射鏡反射后再次射向所述分光鏡，再經分光鏡后射向所述光電探測器，第二激光束射向所述測量角反射鏡，經所述測量角反射鏡反射后再次射向所述分光鏡，經分光鏡后射向所述光電探測器，第一激光束與第二激光束在射向所述光電探測器時發生干涉，所述測量角反射鏡設置在所述精密位移裝置上，所述精密位移裝置設置在被測物體上，所述精密位移裝置為所述測量角反射鏡提供與被測物體位移同向或反向的位移。2.如權利要求1所述的激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，所述精密位移裝置包括支撐平臺和設置在所述支撐平臺上的驅動裝置，所述支撐平臺與所述被測物體相配合，所述驅動裝置為所述測量角反射鏡提供在被測物體位移方向上的位移。3.如權利要求2所述的激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，所述驅動裝置為壓電陶瓷型驅動裝置。4.如權利要求2或3所述的激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，還包括設置在所述支撐平臺上的第一位移件和設置在所述第一位移件上的第二位移件，所述驅動裝置與所述第一位移件相配合，為所述第一位移件提供沿所述支撐平臺的位移，所述第一位移件具有一相對于其位移方向傾斜的斜面，所述第二位移件滑動設置在所述第一位移件的斜面上，使所述第二位移件可沿所述第一位移件的斜面滑動，所述第一位移件與第二位移件之間貼緊配合，所述測量角反射鏡設置在所述第二位移件上，所述支撐平臺上還設置有約束裝置，所述約束裝置限制所述第二位移件沿所述第一位移件位移方向上的運動，使得當第一位移件被所述驅動裝置帶動而產生位移時，所述第二位移件被所述第一位移件帶動而產生位移，并且，所述第二位移件的位移方向與所述第一位移件的位移方向相垂直，所述第一位移件的斜面與其位移方向的夾角為A度，0〈A〈45。5.如權利要求4所述的激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，所述第一位移件與所述支撐平臺之間還設置有具有磁性的磁性件，所述第二位移件具有磁性，所述第二位移件與所述磁性件為異性相吸狀態。6.如權利要求4所述的激光波長修正式角反射鏡激光干涉儀，其特征在于，所述第二位移件與所述測量角反射鏡為一體式結構。
【文檔編號】G01B9/02GK205619874SQ201520966057
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2015年11月27日
【發明人】許誠昕, 馬文英, 凌味未, 黃金, 張白
【申請人】成都信息工程大學