一種適用于沿面閃絡的平面電極結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及高壓放電領域，特別涉及一種適用于沿面閃絡的平面電極結構。
【背景技術】
[0002]沿面閃絡研究通常是根據工程實際抽象得來的，而電極的布置方式對試驗過程與結果有著顯著的影響。依據電極結構以及與介質材料的不同接觸方式，典型的電極系統實驗模型可主要由平行平板電極系統、針一板電極系統以及平面電極結構，其中平行平板電極系統是早期研究沿面閃絡最常用的一種結構形式，適合具有軸對稱結構幾何形狀的圓柱與圓臺等試樣，但這種電極結構下的試樣難以加工，并且試樣表面缺陷對閃絡特性影響十分明顯，發生閃絡的位置也具有很大的隨機性，不適合應用光學或表面電位測量等;針-板電極系統適合對表面電位的分布進行精確觀測，但試樣與電極接觸緊密情況會明顯影響沿面閃絡電壓，放電也具有較大的分散性。
[0003]平面電極結構是近來采用較多的一種電極系統，其特點是將陰極和陽極間隔一定距離分別固定平放在試樣表面上，其優點在于對試樣的形狀和厚度沒有特殊要求，并可以進行光學觀察和實時表面電位測量。但通常使用的平面電極結構也存在電極和試樣表面接觸間有微小氣隙，這會導致電極一真空一介質材料交界處的能帶將發生畸變，對試驗結果造成不可預估的影響。
[0004]因此，提出一種簡單可靠的平面電極結構，對開展真空條件下絕緣子沿面閃絡特性研究，減少放電試驗的分散性，具有重要的研究價值。
【發明內容】
[0005]本實用新型的目的在于提供一種結構簡單、可靠性高、可操作性強的適用于沿面閃絡的平面電極系統。
[0006]本實用新型是通過以下技術方案實現的:
[0007]—種適用于沿面閃絡的平面電極結構，包括被測絕緣子以及均采用離子濺射儀冷濺射金膜在被測絕緣子的表面形成的高壓電極和地電極，所述高壓電極和地電極對稱設置。
[0008]作為優化，所述高壓電極和地電極的形狀均為圓形。
[0009]作為優化，所述高壓電極和地電極的厚度為0.Ιμπι。
[0010]作為優化，所述被測絕緣子為片狀、板狀或薄膜狀。
[0011 ]本實用新型的有益效果是:
[0012]本實用新型結構簡單，易于制作，放電分散性小;平面電極結構由離子濺射儀冷濺射金膜在絕緣子表面形成，可以完全避免傳統金屬電極與絕緣子間存在的微氣隙，減少電極一真空一絕緣子交界處電場畸變，提高了沿面閃絡放電的可靠性;可以靈活調節高壓電極與地電極之間的距離，電壓調節范圍廣。具有較好的實際應用價值和推廣價值。
【附圖說明】
[0013]下面結合附圖對一種適用于沿面閃絡的平面電極結構作進一步說明:
[0014]圖1是一種適用于沿面閃絡的平面電極結構的結構示意圖。
[0015]圖中:I為高壓電極、2為地電極、3為被測絕緣子。
【具體實施方式】
[0016]為使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下參照附圖并舉實施例，對本實用新型進一步詳細說明。
[0017]如圖1所示，一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，包括被測絕緣子3以及均采用離子濺射儀冷濺射金膜在被測絕緣子3的表面形成的高壓電極I和地電極2，所述高壓電極I和地電極2對稱設置。
[0018]如此設計，結構簡單，易于制作，放電分散性小;平面電極結構由離子濺射儀冷濺射金膜在絕緣子表面形成，可以完全避免傳統金屬電極與絕緣子間存在的微氣隙，減少電極一真空一絕緣子交界處電場畸變，提高了沿面閃絡放電的可靠性;可以靈活調節高壓電極與地電極之間的距離，電壓調節范圍廣。
[0019]具體的，所述高壓電極I和地電極2的形狀均為圓形。如此設計，可保證兩電極間的電場均勻度。
[0020]具體的，所述高壓電極I和地電極2的厚度為0.Ιμπι。如此設計，效果較好。
[0021 ]具體的，所述被測絕緣子3為板狀。
[0022]使用方法:將高壓引線通過導電膠粘貼在金膜圓形高壓電極I中心，接地引線通過導電膠粘貼在金膜圓形地電極2中心，開啟真空設備，待真空度達到預設值后，施加高壓，形成沿面閃絡放電，獲得被測絕緣子3的沿面閃絡數據。
[0023]本實用新型結構簡單，易于制作，放電分散性小;平面電極結構由離子濺射儀冷濺射金膜在絕緣子表面形成，可以完全避免傳統金屬電極與絕緣子間存在的微氣隙，減少電極一真空一絕緣子交界處電場畸變，提高了沿面閃絡放電的可靠性;可以靈活調節高壓電極與地電極之間的距離，電壓調節范圍廣。
[0024]上述【具體實施方式】僅是本實用新型的具體個案，并非是對本實用新型作其它形式的限制，任何熟悉本專業的技術人員可能利用上述揭示的技術內容加以變更或改型為等同變化的等效實施方式。但是凡是未脫離本實用新型技術原理的前提下，依據本實用新型的技術實質對以上實施方式所作的任何簡單修改、等同變化與改型，皆應落入本實用新型的專利保護范圍。
【主權項】
1.一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，其特征在于:包括被測絕緣子以及均采用離子濺射儀冷濺射金膜在被測絕緣子的表面形成的高壓電極和地電極，所述高壓電極和地電極對稱設置。2.如權利要求1所述的一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，其特征在于:所述高壓電極和地電極的形狀均為圓形。3.如權利要求2所述的一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，其特征在于:所述高壓電極和地電極的厚度為0.Ιμπι。4.如權利要求1所述的一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，其特征在于:所述被測絕緣子為片狀、板狀或薄膜狀。
【專利摘要】一種適用于沿面閃絡的平面電極結構，包括被測絕緣子以及均采用離子濺射儀冷濺射金膜在被測絕緣子的表面形成的高壓電極和地電極，所述高壓電極和地電極對稱設置；所述高壓電極和地電極的形狀均為圓形；所述高壓電極和地電極的厚度為0.1μm；所述被測絕緣子為片狀、板狀或薄膜狀。本實用新型結構簡單，易于制作，放電分散性小；平面電極結構由離子濺射儀冷濺射金膜在絕緣子表面形成，可以完全避免傳統金屬電極與絕緣子間存在的微氣隙，減少電極—真空—絕緣子交界處電場畸變，提高了沿面閃絡放電的可靠性；可以靈活調節高壓電極與地電極之間的距離，電壓調節范圍廣。
【IPC分類】G01R31/16
【公開號】CN205353297
【申請號】CN201520970629
【發明人】張振軍, 鄭健, 李秀衛, 袁海燕, 王斌, 王輝, 任敬國, 李 杰, 師偉, 云玉新
【申請人】國網山東省電力公司電力科學研究院, 國家電網公司
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2015年11月30日