用于測試分辨率的熒光納米標準板的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種熒光納米標準板，特別涉及一種用于表征超分辨熒光顯微系統分辨率的熒光納米標準板。
【背景技術】
[0002]長期以來，光學顯微成像技術在人類探索微觀世界的過程中一直發揮著重要作用。然而，受阿貝衍射極限的約束，傳統光學顯微技術無法將生命科學研究帶到納米尺度。隨著熒光顯微成像學的不斷發展和完善，使得突破衍射極限成為可能。近年來，涌現出了許多超分辨焚光顯微技術，如單分子定位顯微術(Single Molecule Localizat1nMicroscopy，SMLM)、結構光照明顯微術(Structured Illuminat1n Microscopy, SIM)以及受激發射損耗顯微術(Stimulated Emiss1n Deplet1n, STED)等。這些焚光顯微成像技術將科學研究帶入“納米”領域，讓人類能夠“實時”觀察活細胞內的分子運動規律，為疾病研究和藥物研發帶來革命性變化。與其他技術相比，STED基于共聚焦顯微技術，通過把被激發的熒光物質限制在小于衍射極限的范圍內來實現超高分辨率，成像速度快，可以觀察活細胞內實時變化的過程。
[0003]分辨率是評價光學顯微系統最重要的標準，不同于普通光學顯微系統，超分辨熒光顯微系統的分辨率并不能直接給出，而是需要借助標準板特有的結構進行測試，同時需要復雜的圖像處理，與光學系統參數(如光源波長、強度等)、數據處理技術及熒光染料種類等因素密切相關，而這些都大大提高了對標準板的要求。因此，準確表征超分辨熒光顯微系統的分辨率顯得非常重要。但在現有技術中，標準板的結構及尺寸難以得到可重復性的精確加工，熒光線條的排列不夠整齊，制造工藝復雜，無法實現批量化生產。
【實用新型內容】
[0004]針對現有技術中的不足之處，本實用新型提供一種用于測試分辨率的熒光納米標準板，其結構設計合理，制作簡單，可重復使用，易于量產。
[0005]為實現上述目的，本實用新型通過以下技術方案實現:
[0006]—種用于測試分辨率的熒光納米標準板，包括基底層，在該基底層表面設置有多個等間距排列的硅烷線條層，在每個所述硅烷線條層的表面設置有熒光染料線條層，其中，在每個所述的熒光染料線條層與熒光染料線條層之間的縫隙還填充有惰性層，并且，在所述惰性層和熒光染料線條層的表面涂覆有透明保護層。
[0007]優選的是，所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其中，所述基底層為硅或氮化娃。
[0008]優選的是，所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其中，所述硅烷線條層為3_氨丙基三乙甲氧基硅烷或3-氨丙基三乙氧基硅烷。
[0009]優選的是，所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其中，所述透明保護層的厚度為30?100nm。
[0010]優選的是，所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其中，所述熒光染料線條層為異硫氰酸熒光素。
[0011]本實用新型的有益效果是:通過對標準板結構的改進，使得其可用于超分辨熒光顯微系統分辨率的測定；該設計能夠精確調整熒光納米標準板的結構尺寸，實現熒光線條結構的整齊排列，直觀地反應出系統的分辨能力；同時，這種結構的標準板能夠實現批量制作，操作簡易方便，可重復使用。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。
[0014]請參見圖1，其說明本實用新型一實施例的用于測試分辨率的熒光納米標準板，包括基底層1，在該基底層1表面設置有多個等間距排列的硅烷線條層2，在每個硅烷線條層2的表面設置有熒光染料線條層3，其中，在每個熒光染料線條層3與熒光染料線條層3之間的縫隙還填充有惰性層4，惰性層4的作用是在不影響熒光染料的前提下，填平由硅烷線條層2和熒光染料線條層3所形成的溝道，該結構使得標準板的制備更加簡單方便，有利于批量生產，且惰性層4本身不產生熒光，而惰性層4的材質應不受限制；并且，在惰性層4和熒光染料線條層3的表面涂覆有透明保護層5，透明保護層5用于保護熒光材料，它本身對熒光材料無影響，透明保護層5可以是透明高分子材料。
[0015]在上述實施例中，基底層1優選為硅或氮化硅。
[0016]在上述實施例中，硅烷線條層2優選為3-氨丙基三乙甲氧基硅烷或3-氨丙基三乙氧基硅烷。
[0017]在上述實施例中，透明保護層5的厚度優選為30?lOOnm。研究表面，透明保護層5的厚度對標準板分辨率的測量精度有一定的影響，若超出該優選的范圍，將導致標準板的測量精度偏離最優值。
[0018]在上述實施例中，熒光染料線條層3優選為異硫氰酸熒光素。
[0019]熒光納米標準板的制備方法較多，本案列出其中的一種制備方法，如下:
[0020]1)對基底層1表面進行硅烷化處理，形成硅烷平面層；
[0021]2)對硅烷平面層表面進行熒光染料修飾，形成熒光染料平面層；
[0022]3)利用電子束光刻技術對熒光染料平面層進行曝光，未被曝光的部分形成間隔排列的熒光染料線條層3，在其正下方則是硅烷線條層2，基底層1未因曝光發生變化；而被曝光的部分則形成一個整體，該部分的熒光染料失效，不能產生熒光，形成了惰性層4。
[0023]4)在熒光染料線條層3和惰性層4的表面旋涂透明保護層5，從而制得熒光納米標準板。
[0024]標準板的制備途徑很多，上述方法只是其中一種，還可根據標準板的具體結構進行逐層構建。
[0025]盡管本實用新型的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用于各種適合本實用新型的領域，對于熟悉本領域的人員而言，可容易地實現另外的修改，因此在不背離權利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實用新型并不限于特定的細節和這里示出與描述的圖例。
【主權項】
1.一種用于測試分辨率的熒光納米標準板，其特征在于，包括基底層，在該基底層表面設置有多個等間距排列的硅烷線條層，在每個所述硅烷線條層的表面設置有熒光染料線條層，其中，在每個所述的熒光染料線條層與熒光染料線條層之間的縫隙還填充有惰性層，并且，在所述惰性層和熒光染料線條層的表面涂覆有透明保護層。2.根據權利要求1所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其特征在于，所述基底層為硅或氮化硅。3.根據權利要求1所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其特征在于，所述硅烷線條層為3-氨丙基三乙甲氧基硅烷或3-氨丙基三乙氧基硅烷。4.根據權利要求1所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其特征在于，所述透明保護層的厚度為30?100nmo5.根據權利要求1所述的用于測試分辨率的熒光納米標準板，其特征在于，所述熒光染料線條層為異硫氰酸熒光素。
【專利摘要】本案涉及一種用于測試分辨率的熒光納米標準板，包括基底層，在該基底層表面設置有多個等間距排列的硅烷線條層，在每個所述硅烷線條層的表面設置有熒光染料線條層，其中，在每個所述的熒光染料線條層與熒光染料線條層之間的縫隙還填充有惰性層，并且，在所述惰性層和熒光染料線條層的表面涂覆有透明保護層。本案通過對標準板結構的改進，使得其可用于超分辨熒光顯微系統分辨率的測定；該設計能夠精確調整熒光納米標準板的結構尺寸，實現熒光線條結構的整齊排列，直觀地反應出系統的分辨能力；同時，這種結構的標準板能夠實現批量制作，操作簡易方便，可重復使用。
【IPC分類】G01M11/02
【公開號】CN204964165
【申請號】CN201520672713
【發明人】蔣克明, 黎海文, 周武平, 張濤, 劉聰
【申請人】中國科學院蘇州生物醫學工程技術研究所
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年9月1日