一種真空獲得系統氣體分析控制實施裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空獲得系統領域，具體涉及一種真空獲得系統氣體分析控制實施裝置。
【背景技術】
[0002]真空獲得系統廣泛用于冶金、化工領域，它包括真空槽、除塵器、真空栗系統、氣體分析儀、壓力檢測儀表、真空管道、排空管道等。對其真空槽內釋放的氣體成份進行快速準確分析是控制真空獲得系統的關鍵。當前真空獲得系統控制是通過在排空管道末端安裝氣體分析儀對真空栗組排放的氣體成份進行檢測分析，比對檢測結果后對真空獲得系統進行控制。這樣真空槽內物質在真空條件下釋放出的氣體，需要經歷真空栗組逐級壓縮才能到達末端氣體排放管道排放到大氣中，此時獲得的氣體成份檢測分析結果已經相對滯后，并且真空栗抽真空過程中不可避免要吸入其它氣體，排空管道與大氣相連也不可避免會混入空氣，導致氣體成份發生一定變化，無法保證快速準確分析，難以達到以真空槽內氣體成分變化控制真空獲得系統，去滿足各種產品生產工藝要求的目的。
【發明內容】
[0003]為克服所述不足，本實用新型的目的在于提供一種將真空槽內釋放出的氣體氣體成份分析起始時間提前、縮短了真空獲得系統對真空槽內氣體成份變化進行控制的響應時間、達到快速實時的檢測分析真空槽內氣體成份變化、并以此精準控制真空獲得系統的真空獲得系統氣體分析控制實施裝置。
[0004]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:一種真空獲得系統氣體分析控制實施裝置，包括真空槽、除塵器、真空栗組，所述真空槽與除塵器之間通過真空管道一相連，所述除塵器與真空栗組之間通過真空管道二相連，所述真空管道二上設有激光氣體分析儀、壓力檢測儀表，所述激光氣體分析儀、壓力檢測儀表分別與PLC控制器輸入端相連，所述PLC控制器又分別與真空栗組、吹掃氣源控制開關相連，所述吹掃氣源控制開關與吹掃氣源相連，所述吹掃氣源上設有吹掃氣管，吹掃氣管的另一端對準激光氣體分析儀鏡頭，吹掃氣源開關根據接受到的信號控制吹掃氣源，對激光氣體分析儀鏡頭進行吹氣，防止積灰影響分析精度。
[0005]本實用新型具有以下有益效果:通過選用激光氣體分析儀，并將氣體分析儀前置到真空獲得系統的核心設備真空栗前，將氣體成份分析起始的時間提前，縮短了真空獲得系統對真空槽內氣體成份變化進行控制的響應時間；對真空管道二中的氣體壓力進行實時監測，將監測結果反饋給PLC控制器，PLC控制器氣體壓力變化，控制吹掃氣源控制開關，吹掃氣源控制開關控制吹掃氣源，當真空管道二內壓力值高于等于設定值時，吹掃氣氣源控制開關打開，開始吹掃；當真空管道二內壓力值低于設定值時，吹掃氣氣源控制開關關閉，停止對激光氣體分析儀鏡頭進行吹掃清潔，減少進入真空獲得系統的氣體量真空獲得系統的氣體分析控制方法，使得真空獲得系統對其中物質析出氣體成分控制更精準。
【附圖說明】
[0006]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0007]圖2是本實用新型的原理圖。
[0008]圖中，I真空槽，2真空導管一，3除塵器，4激光氣體分析儀，5壓力檢測儀表，6真空導管二，7真空栗組，8PLC控制器，9吹掃氣源控制開關，10吹掃氣源，11吹掃氣管。
【具體實施方式】
[0009]現在結合附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。
[0010]根據圖1、圖2所示的一種真空獲得系統氣體分析控制實施裝置，包括真空槽1、除塵器3、真空栗組7，所述真空槽I與除塵器3之間通過真空管道一 2相連，所述除塵器3與真空栗組7之間通過真空管道二 6相連，所述真空管道二 6上設有激光氣體分析儀4、壓力檢測儀表5，所述激光氣體分析儀4、壓力檢測儀表5與PLC控制器8相連，向PLC控制器8輸入信號，所述PLC控制器8分別與真空栗組7、吹掃氣源控制開關9相連，所述吹掃氣源控制開關9與吹掃氣源10相連，所述吹掃氣源10上設有吹掃氣管11，吹掃氣管11的另一端對準激光氣體分析儀4的鏡頭，吹掃氣源開關9根據接受到的信號控制吹掃氣源10，對激光氣體分析儀4的鏡頭進行吹氣，防止積灰影響分析精度。
[0011]工作原理為:
[0012]將激光氣體分析儀4安裝在真空獲得系統中的除塵器3與真空栗組7之間的真空管道二 6上，真空栗開始工作時，激光氣體分析儀4開始對真空管道二 6內氣體進行成分分析，將分析結果反饋到PLC控制器8，PLC控制器8根據分析結果比對生產工藝要求，對真空獲得系統進行控制。
[0013]同時，將壓力檢測儀表5安裝在真空獲得系統中的除塵器3與真空栗組7之間的真空管道二 6上，對真空管道二 6中的氣體壓力進行實時監測，將監測結果反饋給PLC控制器8，PLC控制器8氣體壓力變化，控制吹掃氣源控制開關9，吹掃氣源控制開關9控制吹掃氣源10，當真空管道二 6內壓力值高于等于設定值時，吹掃氣氣源控制開關9打開，開始吹掃；當真空管道二 6內壓力值低于設定值時，吹掃氣氣源控制開關9關閉，停止對激光氣體分析儀4鏡頭進行吹掃清潔，減少進入真空獲得系統的氣體量。
[0014]本實用新型不局限于所述實施方式，任何人應得知在本實用新型的啟示下作出的結構變化，凡是與本實用新型具有相同或相近的技術方案，均落入本實用新型的保護范圍之內。
[0015]本實用新型未詳細描述的技術、形狀、構造部分均為公知技術。
【主權項】
1.一種真空獲得系統氣體分析控制裝置，包括真空槽、除塵器、真空栗組，所述真空槽與除塵器之間通過真空管道一相連，所述除塵器與真空栗組之間通過真空管道二相連，其特征在于:所述真空管道二上設有激光氣體分析儀、壓力檢測儀表，所述激光氣體分析儀、壓力檢測儀表分別與PLC控制器相連，所述PLC控制器又分別與真空栗組、吹掃氣源控制開關相連，所述吹掃氣源控制開關與吹掃氣源相連，所述吹掃氣源上設有吹掃氣管，吹掃氣管的另一端對準激光氣體分析儀鏡頭。
【專利摘要】本實用新型涉及一種真空獲得系統氣體分析控制實施裝置，包括真空槽、除塵器、真空泵組，所述真空槽與除塵器之間通過真空管道一相連，所述除塵器與真空泵組之間通過真空管道二相連，所述真空管道二上設有激光氣體分析儀、壓力檢測儀表，所述激光氣體分析儀、壓力檢測儀表分別與PLC控制器輸入端相連，所述PLC控制器又分別與真空泵組、吹掃氣源控制開關相連，所述吹掃氣源控制開關與吹掃氣源相連，所述吹掃氣源上設有吹掃氣管。本實用新型將真空槽內釋放出的氣體成份分析起始時間提前，縮短了真空獲得系統對真空槽內氣體成份變化進行控制的響應時間，達到快速實時的檢測分析真空槽內氣體成份變化，并以此精準控制真空獲得系統的真空獲得系統。
【IPC分類】G01N21/00, F04B49/00
【公開號】CN204903370
【申請號】CN201520680363
【發明人】施漢生, 齊濱, 陳寶堂, 孫風曉, 王學新, 溫維新, 孫金明, 王者堂
【申請人】山東鋼鐵集團日照有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年9月6日