一種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種遮光罩，具體是一種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩。
【背景技術】
[0002]目前市面上的粉塵儀普遍采用激光后散射原理，即粉塵儀發射一束有角度的激光到煙囪里，當煙囪里有顆粒物/粉塵時候，照射到顆粒物/粉塵的產生的散射光，即后散射光被粉塵儀檢測到，粉塵儀根據能量的大小折算并得到煙囪里顆粒物/粉塵的濃度值。
[0003]正常情況下，煙囪/煙道高度在50m以上，粉塵儀安裝點在距離煙囪底部1/3處，所以被測環境為純黑，沒有自然光線以及其他光源的干擾。陶瓷行業普遍低空排放。即煙囪高度只有10m，里面自然光嚴重干擾后散射原理的粉塵儀測量。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種結構簡單、使用方便的用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0005]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0006]—種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，包括支座、上板、下板和側板，所述上板、下板和側板均安裝在支座的右側，所述側板設有兩塊，上板和下板分別安裝在側板的上方和下方，所述上板和下板上均開設有槽孔，所述上板和下板上均設有橫向拉筋。
[0007]作為本實用新型再進一步的方案:所述上板、下板和側板上均設有黑色涂層。
[0008]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:
[0009]本實用新型結構簡單、使用方便，能夠在不影響煙氣流向的情況下有效避免光線折射，擋住自然光的干擾，因此可以解決陶瓷行業漏光干擾對粉塵測量的影響，提高陶瓷行業粉塵測量的準確率。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0011]圖2為本實用新型的安裝位置示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合【具體實施方式】對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。
[0013]請參閱圖1-2，一種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，包括支座1、上板2、下板3和側板4，所述上板2、下板3和側板4均安裝在支座I的右側，所述側板4設有兩塊，上板2和下板3分別安裝在側板4的上方和下方，所述上板2和下板3上均開設有槽孔5，槽孔5使上板2和下板3不影響煙氣流向，因此不會影響粉塵測量，所述上板2和下板3上均設有橫向拉筋6，拉筋6起到加固的作用，所述上板2、下板3和側板4上均設有黑色涂層，因此上板2、下板3和側板4能夠直接擋住自然光的干擾，避免光線折射。
[0014]本實用新型在使用時，將進行粉塵測量用的激光器和粉塵儀檢測裝置套設于一個與支座I連接的空腔中即可。
[0015]本實用新型結構簡單、使用方便，能夠在不影響煙氣流向的情況下有效避免光線折射，擋住自然光的干擾，因此可以解決陶瓷行業漏光干擾對粉塵測量的影響，提高陶瓷行業粉塵測量的準確率。
[0016]上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明，但是本專利并不限于上述實施方式，在本領域的普通技術人員所具備的知識范圍內，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下作出各種變化。
【主權項】
1.一種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，其特征在于，包括支座(I)、上板(2)、下板(3)和側板(4)，所述上板(2)、下板(3)和側板(4)均安裝在支座(I)的右側，所述側板(4)設有兩塊，上板(2)和下板(3)分別安裝在側板(4)的上方和下方，所述上板(2)和下板(3)上均開設有槽孔(5 )，所述上板(2 )和下板(3 )上均設有橫向拉筋(6 )。2.根據權利要求1所述的用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，其特征在于，所述上板(2)、下板(3)和側板(4)上均設有黑色涂層。
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于漏光工況下粉塵測量的遮光罩，包括支座、上板、下板和側板，所述上板、下板和側板均安裝在支座的右側，所述側板設有兩塊，上板和下板分別安裝在側板的上方和下方，所述上板和下板上均開設有槽孔，所述上板和下板上均設有橫向拉筋。所述上板、下板和側板上均設有黑色涂層。本實用新型結構簡單、使用方便，能夠在不影響煙氣流向的情況下有效避免光線折射，擋住自然光的干擾，因此可以解決陶瓷行業漏光干擾對粉塵測量的影響，提高陶瓷行業粉塵測量的準確率。
【IPC分類】G01N15/06
【公開號】CN204758445
【申請號】CN201520468057
【發明人】于志偉, 盛潤坤, 陸生中, 李坤, 楊禹
【申請人】杭州春來科技有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年6月30日