一種極轉動慣量測試設備釋放機構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種慣量測量輔助機構，具體是一種極轉動慣量測試設備釋放機構。
【背景技術】
[0002]隨著機械行業的迅速發展，回轉體在船舶設備、工程機械、輕工機械、冶金機械、醫療機械、工業機械人、隧道掘進機、旋轉舞臺燈行業得到了廣泛的應用。
[0003]回轉體在出廠之前，需要檢測回轉體的承載能力和回轉體的使用壽命，以判斷回轉體的承載能力。現有的檢測方式都是將回轉軸承裝配到一些專用的使用設備上進行檢測，不僅安裝過程復雜，成本較高；并且利用現有技術進行測量時，均是采用人工方式進行擺架的初始扭擺，轉動的角度不易控制。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的在于提供一種結構簡單、使用方便的極轉動慣量測試設備釋放機構，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0005]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0006]一種極轉動慣量測試設備釋放機構，包括底座、光軸、滑塊、前軸承座、后軸承座、軸承、手柄和手柄座，所述前軸承座和后軸承座分別安裝在底座的前方和后方，所述滑塊安裝在前軸承座和后軸承座之間的底座上，滑塊前側和后側面的中間位置均安裝有直線軸承，所述光軸穿過直線軸承連接在前軸承座和后軸承座之間，所述軸承安裝在滑塊的上方，所述手柄通過手柄座安裝在滑塊的后方。
[0007]作為本實用新型進一步的方案:所述底座上設有安裝凹槽。
[0008]作為本實用新型再進一步的方案:所述安裝凹槽設有兩個。
[0009]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:
[0010]本實用新型在擺架轉動一定預擺角度后能鎖住擺架，并在釋放擺架過程中不會對擺架有法向作用力。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結合【具體實施方式】對本專利的技術方案作進一步詳細地說明。
[0013]請參閱圖1，一種極轉動慣量測試設備釋放機構，包括底座1、光軸2、滑塊4、前軸承座5、后軸承座6、軸承7、手柄8和手柄座9，所述前軸承座5和后軸承座6分別安裝在底座I的前方和后方，所述滑塊4安裝在前軸承座5和后軸承座6之間的底座I上，滑塊4前側和后側面的中間位置均安裝有直線軸承3，所述光軸8穿過直線軸承3連接在前軸承座5和后軸承座6之間，所述軸承7安裝在滑塊4的上方，所述手柄8通過手柄座9安裝在滑塊4的后方，所述底座I上設有兩個安裝凹槽10。
[0014]所述極轉動慣量測試設備釋放機構是由兩根光軸2做導軌，一個滑塊4上安裝兩個直線軸承3在光軸2上滑動，推動手柄8帶動滑塊4上的軸承7前后滑動，滑動方向與擺架轉動方向成90°，前滑至頂端時軸承7與擺架上的定位面接觸并鎖住擺架，后滑時軸承脫離擺架，擺架開始自由扭擺。
[0015]本實用新型在擺架轉動一定預擺角度后能鎖住擺架，并在釋放擺架過程中不會對擺架有法向作用力。
[0016]上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明，但是本專利并不限于上述實施方式，在本領域的普通技術人員所具備的知識范圍內，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下作出各種變化。
【主權項】
1.一種極轉動慣量測試設備釋放機構，其特征在于，包括底座(I)、光軸(2)、滑塊(4)、前軸承座(5)、后軸承座(6)、軸承(7)、手柄(8)和手柄座(9)，所述前軸承座(5)和后軸承座(6 )分別安裝在底座(I)的前方和后方，所述滑塊(4)安裝在前軸承座(5 )和后軸承座(6 )之間的底座(I)上，滑塊(4)前側和后側面的中間位置均安裝有直線軸承(3)，所述光軸(8)穿過直線軸承(3)連接在前軸承座(5)和后軸承座(6)之間，所述軸承(7)安裝在滑塊(4)的上方，所述手柄(8)通過手柄座(9)安裝在滑塊(4)的后方。2.根據權利要求1所述的極轉動慣量測試設備釋放機構，其特征在于，所述底座(I)上設有安裝凹槽(10)。3.根據權利要求1-2任一所述的極轉動慣量測試設備釋放機構，其特征在于，所述安裝凹槽(10)設有兩個。
【專利摘要】本實用新型公開了一種極轉動慣量測試設備釋放機構，包括底座、光軸、滑塊、前軸承座、后軸承座、軸承、手柄和手柄座，所述前軸承座和后軸承座分別安裝在底座的前方和后方，所述滑塊安裝在前軸承座和后軸承座之間的底座上，滑塊前側和后側面的中間位置均安裝有直線軸承，所述光軸穿過直線軸承連接在前軸承座和后軸承座之間，所述軸承安裝在滑塊的上方，所述手柄通過手柄座安裝在滑塊的后方，所述底座上設有兩個安裝凹槽。本實用新型在擺架轉動一定預擺角度后能鎖住擺架，并在釋放擺架過程中不會對擺架有法向作用力。
【IPC分類】G01M1/02, G01M1/10
【公開號】CN204758216
【申請號】CN201520593664
【發明人】史國權, 李俊燁, 趙友, 王德民, 張心明, 戴正國, 房洪蛟, 宋斌
【申請人】長春理工大學
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年8月10日