粗糙度測量平臺的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及測量技術，具體地，涉及一種粗糙度測量平臺。
【背景技術】
[0002]粗糙度的測量是一類對環境較敏感的測量，在測量工件表面的粗糙度時，常常會受到外界環境中各類振動的干擾，造成測量誤差，外界環境中機床的運轉、吊車滑動、人員走動會造成地基的振動，空調的工作也會帶來噪音振動，這些振動是環境中難以避免的，容易對測量造成干擾，并且即使在具有防振地基的條件下，振動對粗糙度測量的干擾也難以消除。例如在一間具有防振地基的實驗室，在普通測量平臺上對一塊粗糙度Ra值實際接近為O的玻璃平精進行測量，測量得到的粗糙度值為Ra = 0.023 μ m，Rp = 0.152 μ m，可見，在該測量系統中仍然存在較大的誤差。
[0003]為了提高粗糙度測量的精度，避免環境中振動帶來干擾，需要一種能夠較好地屏蔽環境中振動干擾的粗糙度測量平臺。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型的目的是提供一種粗糙度測量平臺，該粗糙度測量平臺能夠有效地消除環境中振動對測量的干擾。
[0005]為了實現上述目的，本實用新型提供一種粗糙度測量平臺，所述粗糙度測量平臺包括作為支撐基礎的支撐平臺和位于所述支撐平臺之上的測量平臺，所述支撐平臺和所述測量平臺之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊。
[0006]優選地，所述緩沖墊為氣浮墊。
[0007]優選地，所述氣浮墊為多個，彼此間隔設置在所述測量平臺的底面的外圍。
[0008]優選地，所述多個氣浮墊中的至少一個為高度可調的。
[0009]優選地，所述氣浮墊為四個，其中三個氣浮墊為高度可調的，一個氣浮墊為高度固定的。
[0010]優選地，所述高度可調的氣浮墊設置有氣浮平衡傳感器。
[0011]優選地，所述測量平臺為大理石平臺。
[0012]優選地，所述支撐平臺的側部設置有工具柜。
[0013]優選地，包括有兩層抽屜。
[0014]優選地，所述支撐平臺的底部設置有滾輪和/或可調節高度的支腿。
[0015]通過上述技術方案，由于本實用新型的粗糙度測量平臺包括有支撐平臺和測量平臺，支撐平臺和測量平臺之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊，測量過程中，緩沖墊吸收經過支撐平臺傳遞到緩沖墊的環境中的振動，減少了振動繼續傳遞到測量平臺，從而減少了環境中的振動對粗糙度測量的干擾。
[0016]本實用新型的其它特征和優點將在隨后的【具體實施方式】部分予以詳細說明。
【附圖說明】
[0017]附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型，但并不構成對本實用新型的限制。在附圖中:
[0018]圖1是本實用新型粗糙度測量平臺的一種優選實施方式的主視圖；
[0019]圖2是圖1的側視圖；
[0020]圖3顯示了本實用新型粗糙度測量平臺上擱置有粗糙度測量儀的示意圖。
[0021]附圖標記說明
[0022]I支撐平臺2測量平臺
[0023]3氣浮墊4平衡傳感器
[0024]5氣壓表6抽屜
[0025]7滾輪8支腿
[0026]9粗糙度測量儀
【具體實施方式】
[0027]以下結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。
[0028]在本實用新型中，在未作相反說明的情況下，使用的方位詞如“上、下”通常是指參考附圖所述的位置關系，“內、外”是指相對于各部件輪廓所述的內外。
[0029]參見圖1-3所示，本實用新型的粗糙度測量平臺包括支撐平臺I和位于所述支撐平臺I之上的測量平臺2，所述支撐平臺和所述測量平臺2之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊。支撐平臺I作為支撐基礎，用于承載所述測量平臺2以及測量平臺上的工件、粗糙度測量儀9等；測量平臺2則作為測量工件粗糙度的工作平臺，用于承載粗糙度測量儀9以及工件，優選所述測量平臺2為大理石平臺；緩沖墊設置在支撐平臺I和測量平臺2之間，緩沖墊能夠良好地吸收振動，可以為多種類型的結構或裝置，比如可以為具有一定厚度的布料層、毛氈層、皮革層等織物層，或者為具有多孔結構并且能夠壓縮變形的海綿層；優選地，所述緩沖墊為氣浮墊3。
[0030]本實用新型在支撐平臺和測量平臺之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊，環境中的振動傳遞到支撐平臺后，緩沖墊吸收經過支撐平臺傳遞到緩沖墊的環境中的振動，減少了振動繼續傳遞到測量平臺，使測量平臺受到的振動干擾極小，從而減少了粗糙度的測量誤差。
[0031]氣浮墊3可以有多種布置形式，例如，氣浮墊可以設置在支撐平臺和測量平臺之間的整個平面，或者氣浮墊僅設置在支撐平臺和測量平臺之間的部分平面，氣浮墊也可以為作用面積較小的多個氣浮墊3，間隔地布置在支撐平臺和測量平臺之間，優選地，多個氣浮墊3彼此間隔設置在所述測量平臺2的底面的外圍。設置氣浮墊3為多個并彼此間隔設置在所述測量平臺2的底面的外圍，既能減少氣浮墊所使用壓縮氣體的用量，又能保證測量平臺穩定并保證與支持平臺通過氣浮墊隔離。
[0032]工件和粗糙度測量儀在測量平臺2上可能并不能保持重力均勻布置，或者多個氣浮墊之間氣浮壓力不一致，這都會導致測量平臺2出現傾斜，從而影響測量精度。為解決該技術問題，可以設置多個氣浮墊3中至少有一個高度是可調的，通過調節氣浮墊的高度，從而可以調整使得測量平臺保持水平。優選地，可以在對應于所述測量平臺的四個角部設置四個氣浮墊3，其中三個所述氣浮墊為高度可調的，一個氣浮墊為高度固定的。優選地，在所述高度可調的氣浮墊3上設置氣浮平衡傳感器4，氣浮平衡傳感器可以方便顯示測量平臺是否水平，從而方便對氣浮墊的高度進行調整。
[0033]優選地，所述粗糙度測量平臺設置有氣壓表5，所述氣壓表5用于檢測和顯示所述氣浮墊3的供氣壓力。
[0034]所述支撐平臺I主要起到作為支撐基礎的作用，為了使測量平臺更加方便使用，在支撐平臺的側部可以設置工具柜，用于盛放一些工具，例如工具柜可以包括抽屜6，圖3中顯示了有兩層抽屜6的一種結構形式。
[0035]為了便于測量平臺的移動，所述支撐平臺I的底部可以設置滾輪7 ;為了保證測量時工作臺的穩定，所述支撐平臺I的底部可以設置可調節高度的支腿。需要移動工作臺時將支腿收起，滾輪接觸地面以便于測量平臺移動，測量時調整支腿使支腿伸長，支腿接觸地面后測量臺保持穩定。
[0036]以上結合附圖詳細描述了本實用新型的優選實施方式，但是，本實用新型并不限于上述實施方式中的具體細節，在本實用新型的技術構思范圍內，可以對本實用新型的技術方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于本實用新型的保護范圍。
[0037]另外需要說明的是，在上述【具體實施方式】中所描述的各個具體技術特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，本實用新型對各種可能的組合方式不再另行說明。
[0038]此外，本實用新型的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背本實用新型的思想，其同樣應當視為本實用新型所公開的內容。
【主權項】
1.一種粗糙度測量平臺，其特征在于，所述粗糙度測量平臺包括作為支撐基礎的支撐平臺(I)和位于所述支撐平臺(I)之上的測量平臺(2)，所述支撐平臺(I)和所述測量平臺(2)之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊。
2.根據權利要求1所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述緩沖墊為氣浮墊(3)。
3.根據權利要求2所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述氣浮墊(3)為多個，彼此間隔設置在所述測量平臺(2)的底面的外圍。
4.根據權利要求3所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述多個氣浮墊(3)中的至少一個為高度可調的。
5.根據權利要求4所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述氣浮墊(3)為四個，其中三個氣浮墊(3)為高度可調的，一個氣浮墊(3)為高度固定的。
6.根據權利要求4或5所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述高度可調的氣浮墊(3)設置有氣浮平衡傳感器(4)。
7.根據權利要求1所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述測量平臺(2)為大理石平臺。
8.根據權利要求1所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述支撐平臺(I)的側部設置有工具柜。
9.根據權利要求8所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述工具柜包括有兩層抽屜(6)。
10.根據權利要求1所述的粗糙度測量平臺，其特征在于，所述支撐平臺(I)的底部設置有滾輪(7)和/或可調節高度的支腿(8)。
【專利摘要】本實用新型涉及測量技術，具體公開了一種粗糙度測量平臺，所述粗糙度測量平臺包括作為支撐基礎的支撐平臺(1)和位于所述支撐平臺(1)之上的測量平臺(2)，所述支撐平臺(1)和所述測量平臺(2)之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊。本實用新型粗糙度測量平臺的支撐平臺和測量平臺之間設置有能夠吸收振動的緩沖墊，緩沖墊吸收了經過支撐平臺傳遞到緩沖墊的環境中的振動，減少了振動繼續傳遞到測量平臺，從而減少了環境中的振動對粗糙度測量的干擾。
【IPC分類】G01B21-30
【公開號】CN204461404
【申請號】CN201520153058
【發明人】郭志凱, 王偉偉
【申請人】北京福田康明斯發動機有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年3月18日