基坑側壁位移監測裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種基坑側壁位移監測裝置。
【背景技術】
[0002]基坑是指為進行建筑物基礎與地下室的施工所開挖的地面以下的基礎空間，是一種典型的巖土工程結構，在土木建筑和交通工程中相當普遍；基坑施工是對巖土體開挖和加固的復雜過程。通常情況下，基坑的失穩和塌方主要表現為側壁變形不斷增大而導致破壞，因此在施工中對基坑側壁位移的監測對于確保安全具有至關重要的作用。現有技術中的基坑側壁位移的監測手段主要采用測斜儀，這種手段一方面成本較高，另一方面需要通過在土層中鉆孔或者在圍護粧中預埋的方式來安裝測斜管，時常由于土質體不能成孔或者測斜管堵塞而導致測斜過程無法進行；現有技術中還有采用全站儀作為基坑側壁位移的監測手段，設備昂貴、監測時不方便；如何提供一種適用范圍廣、低成本、使用方便的基坑側壁位移監測裝置，目前現有技術中尚未存在有效的解決方案。
【發明內容】
[0003]本實用新型針對以上問題的提出，而研制一種移動靈活、成本低的基坑側壁位移監測裝置。
[0004]本實用新型的技術方案是:
[0005]一種基坑側壁位移監測裝置，包括:支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過第一轉軸安裝在基座上的豎向架、通過第二轉軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測距儀；所述豎向架能夠繞第一轉軸轉動，所述橫向架能夠繞第二轉軸轉動；所述第一轉軸的軸線與所述第二轉軸的軸線垂直；
[0006]進一步地，所述基座上布設有以豎向架軸線為中心的圓形刻度盤；
[0007]進一步地，在水平放置的橫向架上下兩側對稱設置有扇形刻度盤；
[0008]進一步地，所述支撐框架包括一長方形底框和4個與底框平面垂直連接的立柱；所述立柱上端部連接所述基座。
[0009]由于采用了上述技術方案，本實用新型提供的基坑側壁位移監測裝置，本實用新型移動靈活，成本低廉，操作簡單，攜帶方便，完成基坑側壁位移監測工作不需要通過在土層中鉆孔或者在圍護粧中預埋的方式來安裝測斜管等復雜操作；通過橫向架在豎直方向的轉動，以及豎向架在水平面上的周向轉動，可以實現激光測距儀大范圍的測點監測，尤其適合基坑短邊部位的變形和側壁深部的水平變形；本實用新型適用范圍廣，能夠快速地同時對基坑多部位的變形作出判斷，有助于分析基坑受力特點和變形趨勢，進而有利于較好的進tx基坑安全評估。
【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型所述位移監測裝置的結構示意圖；
[0011]圖2是用于定位本實用新型所述位移監測裝置的測站平臺示意圖；
[0012]圖3是本實用新型所述位移監測裝置的使用示意圖。
[0013]圖中:1、支撐框架，2、基座，3、第一轉軸，4、豎向架，5、第二轉軸，6、橫向架，7、激光測距儀，8、圓形刻度盤，9、扇形刻度盤，10、鎖緊螺栓，11、底框，12、立柱，13、定位界線，14、測站平臺，15、定位點，16、反光片，17、混凝土墻，18、圍護粧。
【具體實施方式】
[0014]如圖1所示的一種基坑側壁位移監測裝置，包括:支撐框架1、置于所述支撐框架I上的基座2、通過第一轉軸3安裝在基座2上的豎向架4、通過第二轉軸5安裝在所述豎向架4上的橫向架6、以及固定在所述橫向架6上的激光測距儀7 ;所述豎向架4能夠繞第一轉軸3轉動，所述橫向架6能夠繞第二轉軸5轉動；所述第一轉軸3的軸線與所述第二轉軸5的軸線垂直；進一步地，所述基座2上布設有以豎向架4軸線為中心的圓形刻度盤8 ;進一步地，在水平放置的橫向架6上下兩側對稱設置有扇形刻度盤9 ;進一步地，所述支撐框架I包括一長方形底框11和4個與底框11平面垂直連接的立柱12 ;所述立柱12上端部連接所述基座2 ;所述圓形刻度盤8用于確定繞第一轉軸3轉動后的豎向架4的位置；所述扇形刻度盤9用于確定繞第二轉軸5轉動后的橫向架6的位置；所述橫向架6和豎向架4可以根據測點位置進行轉動，待位置確定后，固定橫向架6和豎向架4，然后進行測距。
[0015]在利用本實用新型所述位移監測裝置進行基站側壁位移監測時，首先設置基坑的測站位置，圖2示出了用于定位本實用新型所述位移監測裝置的測站平臺14示意圖，該測站平臺14采用混凝土做成標準尺寸，置于基坑的圍護粧18上，并標記好定位界線13，將支撐框架I邊沿與所述定位界線13重合，采用重錘定位確定定位點15，進而保證每次監測時支撐框架I位置不變。
[0016]如圖3所示，具體地，本實用新型所述位移監測裝置使用時按照如下工作步驟進行:
[0017]1、首先在基坑一側的混凝土墻17上，每隔一定間距修建圖2示出的測站平臺14，并標記好定位界線13 ；
[0018]2、每次監測時，將所述位移監測裝置的支撐框架I邊沿與定位界線13重合，采用重錘定位，保證每次監測基座2位置不變；
[0019]3、根據測點位置轉動橫向架6實現豎直方向的上下調整，通過扇形刻度盤9上布設的刻度實現定位(當橫向架6向下轉動時，下側的扇形刻度盤用于定位，當橫向架6向上轉動時，上側的扇形刻度盤用于定位)，然后固定橫向架6的位置，具體可以通過鎖緊螺栓10將橫向架6固定到豎向架4上；
[0020]4、轉動豎向架4實現其在水平面上的周向調整，通過圓形刻度盤8上布設的刻度實現角度定位，然后固定豎向架4的位置，具體可以通過鎖緊螺栓10將豎向架4固定到基座2上；
[0021]5、測點位置確定后，激光測距儀7對準測點的反光片16，進行測距；
[0022]6、尋找另一個測點，重復3至5，直到所有范圍內測點均測量完畢；
[0023]7、尋找下一個設站地點，重復2至6，直到所有設站地點都監測完畢，則本周期的基坑側壁位移監測結束。
[0024]本實用新型移動靈活，成本低廉，操作簡單，攜帶方便，完成基坑側壁位移監測工作不需要通過在土層中鉆孔或者在圍護粧中預埋的方式來安裝測斜管等復雜操作；通過橫向架在豎直方向的轉動，以及豎向架在水平面上的周向轉動，可以實現激光測距儀大范圍的測點監測，尤其適合基坑短邊部位的變形和側壁深部的水平變形；本實用新型適用范圍廣，能夠快速地同時對基坑多部位的變形作出判斷，有助于分析基坑受力特點和變形趨勢，進而有利于較好的進行基坑安全評估。
[0025]以上所述，僅為本實用新型較佳的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，根據本實用新型的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種基坑側壁位移監測裝置，其特征在于包括:支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過第一轉軸安裝在基座上的豎向架、通過第二轉軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測距儀；所述豎向架能夠繞第一轉軸轉動，所述橫向架能夠繞第二轉軸轉動；所述第一轉軸的軸線與所述第二轉軸的軸線垂直。
2.根據權利要求1所述的基坑側壁位移監測裝置，其特征在于所述基座上布設有以豎向架軸線為中心的圓形刻度盤。
3.根據權利要求1所述的基坑側壁位移監測裝置，其特征在于在水平放置的橫向架上下兩側對稱設置有扇形刻度盤。
4.根據權利要求1所述的基坑側壁位移監測裝置，其特征在于所述支撐框架包括一長方形底框和4個與底框平面垂直連接的立柱；所述立柱上端部連接所述基座。
【專利摘要】本實用新型公開了一種基坑側壁位移監測裝置，包括：支撐框架、置于所述支撐框架上的基座、通過第一轉軸安裝在基座上的豎向架、通過第二轉軸安裝在所述豎向架上的橫向架、以及固定在所述橫向架上的激光測距儀；所述豎向架能夠繞第一轉軸轉動，所述橫向架能夠繞第二轉軸轉動；所述第一轉軸的軸線與所述第二轉軸的軸線垂直；本實用新型能夠快速地同時對基坑多部位的變形作出判斷，有助于分析基坑受力特點和變形趨勢，進而有利于較好的進行基坑安全評估。
【IPC分類】G01B11-02, G01B11-16
【公開號】CN204286365
【申請號】CN201420857711
【發明人】姜泓任
【申請人】姜泓任
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月30日