用于筒狀超導線圈結構的支撐結構的制作方法
【專利摘要】一種用于支撐筒狀超導線圈結構(10)的裝置，包括在線圈結構的軸向端表面中的凹部(106)和突出到凹部內的支撐托架(110)，使得在支撐托架上的豎直載荷(143)支承線圈結構(10)的重量。
【專利說明】
用于筒狀超導線圈結構的支撐結構
技術領域
[0001]本發明提供了用于支撐例如在磁共振成像(MRI)系統中使用的筒狀超導磁體的支撐結構。這樣的磁體必須被冷卻至所使用的超導導線的轉變溫度以下、例如至近似4K的溫度，這可以通過液體氦的使用來獲得，這要求超導磁體被放置在低溫恒溫器中以使其與環境溫度隔離。
【背景技術】
[0002]圖1示出包括低溫制冷劑器皿12的低溫恒溫器的示例傳統布置。被冷卻的超導磁體包括在低溫制冷劑器皿12內的線圈結構1，低溫制冷劑器皿自身被保持在外真空室(OVC) 14內。一個或多個熱輻射屏蔽16被設置在低溫制冷劑器皿12與外真空室14之間的真空空間中。在一些已知布置中，致冷機17被朝向低溫恒溫器的一側安裝在位于為此目的而設置的轉塔(turretHS中的致冷機套15中。可替代地，致冷機17可以位于訪問轉塔19內，該訪問轉塔保持著被安裝在低溫恒溫器的頂部處的訪問頸部(通氣管)20。致冷機17提供主動致冷以使低溫制冷劑器皿12內的低溫制冷劑氣體冷卻，在一些布置中通過將其重新冷凝成液體。致冷機17也可以用于使輻射屏蔽16冷卻。如圖1中圖示出的，致冷機17可以是兩級致冷機。第一冷卻級被熱連結至輻射屏蔽16，并且將冷卻提供至第一溫度、典型地在80K至100K的區域中。第二冷卻級將低溫制冷劑氣體的冷卻提供至低得多的溫度、典型地在4K至1K的區域中。其他布置是已知的。值得注意的是，某些布置不要求低溫制冷劑器皿12圍繞線圈結構10設置。
【發明內容】
[0003]本發明提供一種支撐諸如以上所討論等的超導磁體10的線圈的支撐結構，其在允許線圈的歸因于線圈與支撐結構之間的熱失配而在徑向和軸向方向上相對于支撐結構相對移動以及線圈的歸因于磁載荷而徑向和軸向膨脹或收縮的狀態下，允許在所有溫度下維持線圈至支撐結構的同心度。
[0004]現有技術包含解決了類似問題的支撐結構的數個示例。在一個這樣的布置中，線圈被卷繞到在例如鋁的筒狀線圈架(former)的徑向外表面上限定出的空腔內。線圈接著被用熱固性樹脂浸漬。當被冷卻至操作溫度時，線圈架趨向于與線圈相比收縮至的更大程度。這導致線圈松動地懸掛在線圈架上一基本上僅在一個周向點處碰觸線圈架一或者線圈可以用線圈夾子被保持到線圈架上，線圈夾子以周向間隔接觸線圈的外徑向表面，并且可能導致線圈的徑向內表面根本沒有碰觸線圈架。利用這樣的解決方案，難以以高精度預測冷時線圈中心的位置。該傳統結構的特征使從支撐結構至線圈的點載荷或應力集中在本發明中被避免。
[0005]本發明提供一種用于支撐超導電磁體線圈結構的裝置。
[0006]本發明特別解決了所謂的“串聯結合”(seriallybonded)構造的超導線圈組件。在這樣的布置中，環形線圈通過間隔件接合，然后保持處于期望的軸向間距和軸向對齊。線圈和間隔件被接合到一起以形成自支撐結構。沒有使用線圈架。這樣的布置的示例被描述在W02011/148163中。本發明也可以應用于其他線圈結構。
[0007]本發明相應地提供了如隨附權利要求中所述的設備。
[0008]在某些實施例中，發明提供了被接合至線圈結構的軸向末端的支撐環。徑向槽被切割到支撐環內，并且被布置成支撐線圈結構的重量的托架突出到徑向槽內，使得支撐環的豎直載荷支承線圈結構的重量。線圈與環之間的剪切載荷被最小化，因為在環與線圈之間提供了大的接合面積。
【附圖說明】
[0009]本發明的以上和進一步的目的、特征和優點將從結合附圖進行的其某些實施例的以下描述中變得更加明顯，其中:
[0010]圖1示出在低溫恒溫器內的超導磁體的傳統布置；
[0011]圖2示出可以應用本發明的串聯結合的線圈結構的半截面；
[0012]圖3示出適用于發明的實施例中的線圈結構的端環；
[0013]圖4示出根據發明的實施例的支撐結構的某些組成部件的軸向視圖；
[0014]圖5示意性地圖示出穿過根據發明的實施例的支撐結構的一部分的截面；
[0015]圖6示意性地圖示出沿著圖4中的線VI1-VII穿過根據本發明的實施例的支撐結構的截面；
[0016]圖7示意性地圖示出根據本發明的實施例被允許的軸向移動dx的范圍；
[0017]圖8示意性地圖示出根據本發明的實施例被允許的徑向移動dr的范圍；
[0018]圖9和圖10示意性地圖示出本發明的可替代的實施例；
[0019]圖11圖示出其中線圈結構由低溫制冷劑器皿的孔管支撐的發明的實施例的特征；和
[0020]圖12圖示出其中線圈結構由低溫制冷劑器皿的端板支撐的發明的實施例的特征。
【具體實施方式】
[0021]本發明特別地但非排他性地涉及串聯結合的線圈結構。本發明也可以應用于其他線圈結構。例如，甚至卷繞到鋁的或復合材料的線圈架(former)的線圈結構也可以通過使線圈架由這里所描述的設備來支撐而從本發明獲益。
[0022]串聯結合的線圈結構10的示例作為示意性半截面被示出在圖2中。結構基本上關于軸線A-A轉動地對稱。術語“徑向”和“軸向”及類似術語將在這里被用于分別表示:“垂直于軸線A-A并且在包含軸線A-A的平面中延伸”；和“平行于軸線A-A或與之重合”的方向和尺寸。尺寸d典型地為大約50cm，并且尺寸z典型地為大約150cmo
[0023]提供了超導導線的大量線圈100，均用諸如本身是傳統的熱固性樹脂等的材料浸漬。線圈100通過間隔件102分開。間隔件可以由卷繞成線圈并且用諸如熱固性樹脂等的浸漬材料浸漬的、諸如電阻銅導線等的導線組成;或者可以由卷繞起來并且用類似浸漬材料浸漬的、諸如玻璃纖維布或長絲等的非活性材料組成。線圈的軸向和徑向尺寸被確定為滿足它們的作為磁場的源的功能并允許堅固且非過分有麻煩的制造，如對于本領域技術人員來說顯而易見的。如對于本領域技術人員來說也是顯而易見的，磁場強度、場均勻性和均勻區域的尺寸的給定目標可以通過具有不同尺寸、間距和數量的許多不同布置的線圈來獲得。設計者將基于對于所談論的設計特定的其他約束來選取合適的布置。
[0024]如圖2中所示，除了線圈100和間隔件102之外，磁惰性端環104被設置在線圈結構10的軸向末端上。這些端環104可以是樹脂浸漬的玻璃纖維長絲。它們可以具有大約40mm的軸向尺寸和等于鄰近的線圈100的徑向尺寸的徑向尺寸。它們可以由卷繞的玻璃纖維或玻璃珠(glass bead)填料材料或類似物的浸漬形成。端環104或其等效物形成根據本發明的支撐結構的一部分。
[0025]圖3示出在如圖2中示出的方向III上的端環104的軸向視圖。根據明的實施例的特征，凹部106被設置在端環104的軸向最外側端面中。在圖示實施例中，凹部106是圍繞端環104在四個位置處被豎直和水平地沿徑向指向的槽。這是優選布置，如下面將討論的，但其他布置也可能在本發明的范圍內。可以根據期望使用任何數量的槽，例如三個或六個。它們被優選地但不是一定圍繞端環104等間隔地布置。槽可以具有例如20mm至30mm的軸向尺寸。
[0026]圖4示出與端環104類似尺寸的支撐板108的軸向視圖。圖4中示出的視圖是將鄰近于端環104的軸向外表面放置的面，并因此對應于在圖2中示出的方向IV上的視圖。
[0027]支撐板108可以典型地由諸如不銹鋼或鋁等的非磁性結構材料形成。支撐托架110從支撐板108的表面突出。它們例如通過焊接被牢固地固定在適當位置。支撐托架的位置對應于在端環104中機加工出的槽106的位置。圖5示出穿過完全組裝好時的支撐托架110和周圍結構的示意性截面。圖5中的視圖對應于穿過圖4中的V-V的部分截面。圖5圖示出根據本發明的實施例的完整結構的一部分。
[0028]線圈結構10的線圈100的軸向端部被示出在圖5中，具有附接的端環104。示出了水平指向的槽106中的一個。支撐托架110例如通過成型部136的進入支撐板108中的相應空腔內的插入和焊接138到位而被牢固地附接至支撐板108。支撐板108和支撐托架110可以由不銹鋼制成。
[0029]支撐托架110的一部分突出到凹部106內。各支撐托架110的突出到凹部106上的部分支承線圈結構10的重量的一部分。對于此唯一例外是在諸如示出在端環104和支撐板108的上、下末端處的豎直指向的凹部的情況中。這樣的凹部及其相關聯的支撐托架不在支撐線圈結構的重量上發揮作用，而是用于如下面將討論的維持線圈組件10的對齊。
[0030]考慮如圖3和圖4中所示的本示例，在線圈結構10的各軸向末端處突出到水平指向的槽106內的支撐托架110—起支承線圈結構1的重量。
[0031]任選地，金屬件139、典型地是直角成型件可以被提供接合至端環104以提供用于與支撐托架110接觸的機械上堅固的界面表面144。優選地，支撐托架110和/或金屬件139被涂覆有諸如二硫化鎢等的低摩擦表面涂層。相信這在當端環104是諸如樹脂浸漬的玻璃纖維等的相對軟的材料的時是特別有用的。這樣的金屬件可以發現僅對于支承在負擔線圈組件的重量的一部分的槽106中的豎直載荷142是必要的。
[0032]在一些實施例種，支撐板108可以被安裝在低溫制冷劑器皿12的孔管120上，在該情況中支撐板108將線圈結構10的重量支撐到低溫制冷劑器皿12的孔管120上。
[0033]如圖5中表示但在圖8中更清楚地表示的，支承線圈結構10的重量的豎直載荷142被沿箭頭F的方向在周向上指向，該箭頭F的方向是對于諸如線圈100并且優選地還有端環104等的長絲卷繞的結構來說最大剪切強度的方向。
[0034]端環104跨越大的表面面積被接合至鄰近的線圈100，并且由凹部106提供的支撐表面144在與線圈維持熱隔離的同時在軸向上靠近線圈。這些特征一起起作用以提供在線圈100與端環104之間的相對低的剪切力。
[0035]所描述的示例的端環中的徑向槽106在維持由支撐托架110對線圈結構10的豎直支撐142的同時允許線圈結構在徑向和軸向方向上收縮。能夠由槽106和支撐托架110的該布置實現的軸向(dx)和徑向(dr)移動的范圍分別被表示在圖7中圖8中。當線圈結構10被冷卻時，它將會在徑向和軸向兩者上收縮。支撐線圈結構的重量的支撐托架110將確保線圈結構保持其軸線的豎直位置。
[0036]其他支撐托架110以與圖5中示出的基本相同的結構突出到圖3、圖8中表示的豎直定向的槽106內，除了這些支撐托架110不支承線圈結構的任何重量。它們用于確保和維持線圈結構10的水平軸向對齊。對于這樣的豎直定向的槽可以不要求圖5中圖示出的金屬件139。
[0037]端環104可以與線圈單獨地形成，例如通過機加工在其中形成諸如槽等的凹部106，并且端環接著被附接至軸向最靠端部的線圈100。可替代地，端環可以例如通過卷繞玻璃纖維布、接著用熱固性樹脂浸漬以既限定出端環104并且還將它們接合至線圈結構10而形成有線圈結構10。可替代地，端環可以通過將玻璃纖維長絲濕法卷繞成鄰近于軸向最靠端部線圈的體積而形成。凹部106接著可以例如通過機加工被切割成如此形成的端環。
[0038]凹部106不需要是穿過端環的整個徑向范圍延伸的槽，但可以發現與僅延伸徑向范圍的一部分的凹部相比機加工這樣的槽更容易。凹部可以形成有例如圓形或橢圓形徑向截面，并且支撐托架可以同樣形成有例如圓形或橢圓形徑向截面。
[0039]通過如這里所描述的將線圈結構10支撐在支撐托架110上，歸因于線圈結構自身的重量的機械變形被限制。在模擬中，近似I.5噸的磁體結構被發現當根據本發明被支撐時歸因于其自身的重量僅以大約0.4_變形。
[0040]再次簡要地考慮圖8，線圈結構10的重量由在F處示出的力負擔。線圈結構10的上部分的重量將趨向于促使線圈結構在支撐表面144處水平地膨脹，而線圈結構的下部分的重量將趨向于促使線圈結構在支撐表面144處水平地收縮。這些相反的效果趨向于抵消并且使得線圈結構10與對于傳統支撐的線圈組件一直存在的情況相比能夠在徑向截面上保持更圓。
[0041]在使用中，線圈結構10將經受到顯著的箍應力:超導導線的線圈100與它們的產生磁場的相互作用將生成趨向于引起線圈徑向膨脹的力。通過將線圈結構10安裝在如所描述的支撐托架110上，線圈結構被允許通過支撐托架110與端環104之間的相對運動而膨脹和收縮。優選地，至少承載支撐托架110被覆蓋有諸如二硫化鎢等的低摩擦涂層。這確保了端環104與支撐托架110之間的相對移動可以發生而不會生成顯著的加熱或者粘滑運動，其中的任一個都可能會引起超導線圈100的粹滅(quenching)。通過確保支撐托架110并且特別是端環104的承載表面144以端環的某一厚度與線圈100分開，可以提供適當的熱隔離度，并且在支撐托架110與端環104之間的界面處生成的任何熱將會擴散并且將不會到達在特定點處的線圈，降低了這樣的熱會引起猝滅的可能性。
[0042]如典型地由箍應力引起的使用中的線圈結構110的桶效應引起線圈100的軸向端表面相對于徑向方向傾斜。本發明的支撐結構解決了該問題，因為軸向端面的任何傾斜都與由支撐托架110和支承表面144提供的支撐和對齊界面解耦。類似地，線圈結構的在冷卻時的軸向壓縮與由支撐著線圈結構100的重量的凹部106所提供的線圈結構的豎直支撐解親。
[0043]圖6示出沿著圖4的線V1-VI截取的由根據本發明的實施例的支撐結構支撐的線圈結構10的示意性截面圖，示出了線圈結構10、端環104、支撐板108、背襯板122、支撐托架110、支撐構件104、間隔件128、緊固件126。
[0044]在該布置中，背襯板122被安裝在低溫制冷劑器皿的孔管120上。背襯板122可以被焊接在孔管120上，或者可以是松動的。支撐板108例如通過螺母和螺栓126或者一些等效的緊固件或焊接、釬焊等被機械地支撐在背襯板122上。支撐構件140和/或間隔件128可以被提供以確保支撐板108與背襯板122之間的適當的間距。在可替代的實施例中，支撐板122可以是完整的環形盤，或者可以用例如通過焊接被附接至孔管的圍繞孔管120的圓周分布的許多托架替換。通過將支撐板122焊接到低溫制冷劑器皿孔管120上，與如果背襯板122在孔管120上是松動的話可能會導致的點載荷相比可以提供更好的支撐。
[0045]在其他實施例中，支撐板108可以自身被安裝在孔管120上、是松動的或被焊接，或者被以其他方式緊固。在又一個的實施例中，背襯板122或者支撐板108可以形成低溫制冷劑器皿的環形端件。
[0046]在本發明的所有布置中，線圈結構100能夠在軸向和徑向方向上膨脹和收縮而不受支撐結構的約束。支撐結構在被冷卻時自身將會收縮，但是當收縮至與支撐結構不同的程度時將會有效地支撐線圈結構。當從300K冷卻至4K時線圈結構的預期相對收縮在軸向上是:6mm，在徑向上是2mm。
[0047]在猝滅事件期間，相稱的膨脹度可以由本發明的支撐結構容納。
[0048]支撐結構優選地由于低溫制冷劑器皿12的孔管120相同的材料制成，以使支撐結構與其停靠所在的孔管之間的任何差別的熱收縮最小化。
[0049]在本發明的一些實施例中，包括如上面所描述的凹部和支撐托架的支撐結構可以被設置在僅線圈結構的一端處，另一端的位置由更傳統的裝置保持。可替代地，本發明的支撐結構可以設置在線圈結構10的兩個軸向端部處。
[0050]貫穿線圈可能會預期經歷的溫度和操作條件的預期范圍，本發明維持線圈結構100與支撐結構的同心度。線圈的溫度將在跨越其壽命的若干溫度之間變化，例如室溫(大約300K)、操作溫度(其可以低至4K)和諸如150K等的猝滅期間的較高溫度。本發明的支撐結構在容納差別的軸向熱收縮和徑向膨脹的同時還提供了支撐和對齊。
[0051]雖然已通過參考許多特定實施例描述了本發明，但對于本領域技術人員淶水顯而易見的是可以在本發明的范圍內進行多種修改和變化。
[0052]例如，雖然所描述的優選實施例具有圍繞端環的圓周均等分布并且限定了用于支承線圈結構的重量的水平表面144和用于確保線圈的對齊的豎直表面的四個槽106和四個支撐托架110，但可以采用對于凹部106和保持托架110的位置的其他組合。例如，圖3至圖4中示出的最低槽106和支撐托架110可以被省略，留下余下的豎直指向的槽106和相關聯的支撐托架110以提供線圈結構10的所要求的水平對齊。可替代地，例如，可以設置圍繞端環的圓周均等或不均等分布并且共享支撐線圈結構的重量和維持線圈的根據其相對于軸線A-A的定向的對齊的任務的三個或六個凹部106以及相關聯的支撐托架110。
[0053]圖9中示意性地圖示出的可替代布置提供了通過與支撐環108中的空腔的相互作用支撐線圈組件10的重量的、被接合至端環104的支撐托架110。然而，當前相信最簡單的是將槽106機加工到如參照圖3至圖8所描述的GRP端環104內并且將托架110焊接到不銹鋼支撐環108上，部分歸因于與將適當強度的托架接合至端環104相比焊接的簡單性。
[0054]在示意性地圖示在圖10中的進一步的可替代方案中，支撐托架110可以不是被附接至端環104或者支撐環108，而是可以是突出到形成在這些組成部件兩者中的凹部內的塊。在這樣的布置中，優選的是每個支撐托架的至少一個凹部不是完整槽，而是兩端閉合的以確保支撐托架不能變松動。類似效果可以通過對于各支撐托架110具有:在一個組成部件中的在徑向外端處閉合但在徑向內端處開口的凹部;和在另一組成部件中的在徑向內端處閉合但在徑向外端處開口的凹部。
[0055]在進一步的可替代實施例中，支撐環108和背環122可以省卻并且由支撐托架支撐的線圈結構被直接安裝在低溫制冷劑器皿孔管120上。圖11示出這樣的布置的軸向視圖。可以是矩形截面的支撐托架150例如通過焊接被接合至低溫制冷劑器皿的孔管120。線圈結構10包括承載如上面所討論的槽106的端環104。通過適當的形成尺寸和組裝，支撐托架150的一部分突出到各自的槽106內，并且以與上面所討論的支撐托架相同的方式支撐線圈結構的重量，并確保軸向對齊。
[0056]在圖12中圖示出的另一可替代方案中，支撐環108可以被用作低溫制冷劑器皿12的端板。在這樣的實施例中，低溫制冷劑器皿基本上由孔管120、外筒狀壁153和被焊接在孔管與外筒狀壁之間以限定中空筒狀殼的支撐環108構成。當然，在這樣的實施例中，可以不在支撐環108中設置通孔。
[0057]本發明的支撐結構使得能夠實現線圈結構與支撐結構之間的同時的相對軸向和徑向移動，并維持線圈同心度，并且降低了線圈結構歸因于其被支撐在直徑上相反的點處而在其徑向截面上從圓形變形的趨勢。
[0058]雖然已參照有限數量的示例實施例描述了本發明，但是在如隨附權利要求中所限定的本發明的范圍內的進一步的實施例和變化對于本領域技術人員來說是顯而易見的。
[0059]例如，本發明可以應用于被安裝在線圈架上的線圈，因為凹部106可以形成在線圈架的軸向端表面上，并且線圈架可以由如上面所討論的支撐托架保持。
【主權項】
1.一種包括由支撐結構支撐的筒狀超導線圈結構(10)的組件，其中: -凹部(106)被設置在所述線圈結構的軸向端表面中；和 -所述支撐結構包括突出到所述凹部(106)內的支撐托架(110)，使得在所述支撐托架上的豎直載荷(143)支承所述線圈結構(10)的重量。2.根據權利要求1所述的組件，其中所述線圈結構包括筒狀線圈架，線圈卷繞到限定在所述筒狀線圈架的徑向外表面上的空腔內，并且所述凹部(106)被限定在所述線圈架的軸向端表面上。3.根據權利要求1所述的組件，其中所述線圈結構包括分別通過間隔件(102)分開的多個環形線圈(100)。4.根據權利要求1或3所述的組件，其中所述線圈結構在所述線圈結構(10)的軸向端部處包括端環(104)，并且所述凹部被限定在所述端環中。5.根據權利要求4所述的組件，其中所述端環(104)具有等于鄰近的線圈(100)的徑向尺寸的徑向尺寸。6.根據前述任一項權利要求所述的組件，其中所述凹部包括徑向槽(106)。7.根據權利要求6所述的裝置，其中所述徑向槽在圍繞所述線圈結構的所述軸向端表面的四個位置處被豎直且水平地指向。8.根據前述任一項權利要求所述的組件，其中至少一個凹部設置有金屬件(139)以提供用于與所述支撐托架(110)接觸的機械上堅固的界面表面(144)。9.根據權利要求8所述的組件，其中所述支撐托架(110)和/或所述金屬件(139)被涂覆有低摩擦表面涂層。10.根據前述任一項權利要求所述的組件，進一步包括非磁性材料的支撐板(108)，所述支撐板承載從所述支撐板的軸向端表面突出的所述支撐托架(110)，使得所述支撐托架的位置對應于所述凹部(106)的位置。11.根據權利要求10所述的組件，其中所述支撐板(108)被安裝在包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的孔管(120)上。12.根據權利要求10或11所述的組件，其中設置了背襯板(122)，并且支撐板(108)被機械地支撐在所述背襯板上。13.根據權利要求12所述的組件，其中所述背襯板(122)被安裝在包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的孔管(120)上。14.根據權利要求10或11所述的組件，其中設置多個托架，圍繞包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的孔管(120)的圓周分布，并且所述支撐板(108)被機械地支撐在所述托架上。15.根據權利要求10所述的組件，其中所述支撐板(108)形成包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的環形端件。16.根據權利要求12或13所述的組件，其中所述背襯板(122)形成包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的環形端件。17.根據權利要求1所述的組件，其中所述線圈結構(10)在其軸向端表面處包括端環(104)，并且其中支撐托架(110)被接合至所述端環，通過與非磁性材料的支撐板(108)中的空腔的相互作用而支撐所述線圈結構(10)的重量，使得所述支撐托架的位置對應于所述空腔的位置。18.根據權利要求1所述的組件，其中所述線圈結構(10)在其軸向端表面處包括端環(104)，并且所述支撐托架(110)包括突出到形成在所述端環和非磁性材料的支撐板(108)兩者中的凹部內的塊。19.根據權利要求18所述的組件，其中每個支撐托架的至少一個凹部不是完整的槽，但在兩端處閉合。20.根據權利要求18所述的組件，其中對于各支撐托架(110)，在所述端環和所述支撐板之一內的凹部在徑向外端處閉合但在徑向內端處開口；并且在所述端環和所述支撐板中的另一個內的凹部在徑向內端處閉合但在徑向外端處開口。21.根據權利要求1所述的組件，其中支撐托架(150)被直接安裝在包含所述線圈結構的低溫制冷劑器皿(12)的孔管(120)上。22.根據前述任一項權利要求所述的組件，其中所述凹部具有圓形或橢圓形徑向截面。23.根據前述任一項權利要求所述的組件，其中所述支撐托架(110)具有圓形或橢圓形徑向截面。24.根據前述任一項權利要求所述的組件，其中 -所述支撐結構僅在所述線圈結構的一個軸向端部處包括突出到所述凹部(106)內的支撐托架(110)。25.根據權利要求1至23中的任一項所述的組件，其中 -所述支撐結構在所述線圈結構的兩個軸向端部處包括突出到所述凹部(106)內的支撐托架(110)。26.—種用于支撐大致如附圖的圖2至圖12中所描述和/或所示出的筒狀超導線圈結構的裝置。27.—種超導磁體組件，包括大致如附圖的圖2至圖12中所描述和/或所示出的線圈結構和支撐結構。
【文檔編號】G01R33/3815GK106030328SQ201480069537
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2014年5月12日
【發明人】P·J·戴維斯, 高蘊昕, M·H·亨普斯特德, M·J·朗菲爾德
【申請人】西門子醫療有限公司