一種抗干擾裝置及原子熒光分析儀的制作方法
【專利摘要】本申請公開了一種抗干擾裝置，包括設置在原子熒光分析儀的檢測室內的用于吸收非熒光信號的光阱結構，所述光阱結構的另一端靠所述檢測室的中心設置。本申請還提供一種原子熒光分析儀，該原子熒光分析儀采用了上述抗干擾裝置。本申請提供的原子熒光分析儀抗干擾裝置，能夠有效吸收原子熒光分析儀內各種非信號光，消除檢測室內各種反射光對檢測器的干擾，提高原子熒光分析儀的信噪比。
【專利說明】
一種抗干擾裝置及原子熒光分析儀
技術領域
[0001]本申請涉及原子熒光分析技術領域，涉及一種抗干擾裝置，本申請還涉及一種原子焚光分析儀。
【背景技術】
[0002]原子熒光分析儀，是利用原子熒光譜線的波長和強度進行物質的定性與定量分析的設備。原子蒸氣吸收特征波長的輻射后，原子激發到高能級，激發態原子接著以輻射方式去活化，由高能級躍迀到較低能級的過程中所發射的光稱為原子熒光。當激發光源停止照射之后，發射熒光的過程隨即停止。
[0003]現有的原子熒光分析儀對物質進行分析時，為了避免非熒光信號對分析結果的干擾，在檢測室上設置有蓋體，蓋體用于阻擋外來光進入檢測室內，且在檢測室設置反光鏡或者遮光板來消除檢測室內的反射光，以降低外來光對熒光信號的干擾。
[0004]然而，現有的原子熒光分析儀采用設置反光鏡或者遮光板來消除檢測室內的反射光，但是依然有部分光會幾經反射后進入光傳感器中，或者照射到原子蒸氣中，產生非正常熒光，不能有效消除干擾，所以光傳感器接受到的熒光信號容易受到反射光干擾，導致分析穩定性差，信噪比不理想。其中，信噪比是指設備中信號與噪聲的比例，而噪聲是指經過該設備后產生的原信號中并不存在的無規則的額外信號。原子熒光分析儀的信噪比，直接決定儀器的靈敏度。
[0005]因此，在現有技術的基礎上，提高原子熒光分析儀的抗干擾能力以及提高信噪比，是本領域技術人員亟待解決的問題。
【發明內容】
[0006]為解決上述技術問題，本發明提供一種抗干擾裝置，能夠有效吸收原子熒光分析儀內各種非信號光，消除檢測器內各種反射光對檢測器的干擾，提高原子熒光分析儀的信噪比。
[0007]本發明提供的技術方案如下:
[0008]—種抗干擾裝置，其特征在于，設置在原子熒光分析儀的檢測室內的用于吸收非熒光信號的光阱結構，所述光阱結構的一端靠所述檢測室的內壁設置，所述光阱結構的另一端靠所述檢測室的中心設置。
[0009]優選地，所述光阱包括本體，所述本體設置在所述檢測室的內壁上，所述本體的表面設置有亞光層。
[0010]優選地，在所述亞光層為表面發黑的陽極氧化亞光層。
[0011]優選地，兩相鄰所述光阱結構靠所述檢測室中心處的間距小于靠所述檢測室內壁處的間距。
[0012]優選地，所述抗干擾裝置還包括安裝件，所述光阱結構固定安裝在所述安裝件上，所述安裝件與所述檢測室內壁連接。
[0013]優選地，所述安裝件卡接在所述檢測室內。
[0014]優選地，在所述安裝件為圓環，所述光阱結構均勻安裝在所述圓環的內壁上，所述圓環卡接在所述檢測室內，且所述圓環的外壁部分或者全部與所述檢測室的內壁接觸。
[0015]優選地，在所述檢測室內壁上設置有凸臺，所述安裝件置于所述凸臺上。
[0016]優選地，在所述安裝件上設置有第一開口與第二開口，所述第一開口用于容納所述原子熒光分析儀的光源，所述第二開口用于容納所述原子熒光分析儀的檢測器。
[0017]—種原子熒光分析儀，其特征在于，所述原子熒光分析儀采用了上述任意一項所述的抗干擾裝置。
[0018]本發明提供的抗干擾裝置，由于在原子熒光分析儀的檢測室內設置有光阱結構，光阱結構一端設置靠檢測室的內壁設置，另一端靠檢測室的中心設置，如此光阱結構占據檢測室內的大部分空間，且由于光阱結構能夠對檢測室內的非熒光信號進行吸收，因此，能夠有效消除檢測室內各種反射光對檢測器的干擾，提高原子熒光分析儀的信噪比。
【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為本發明實施例提供的抗干擾裝置安裝在未帶蓋體的原子熒光分析儀上的示意圖；
[0021 ]圖2為本發明實施例提供的抗干擾裝置的立體結構示意圖；
[0022]圖3為本發明實施例提供的原子熒光分析儀的俯視圖；
[0023]圖4為圖3的A-A視圖；
[0024]圖5為安裝件與檢測室另一種連接方式的示意圖。
【具體實施方式】
[0025]為了使本技術領域的人員更好地理解本申請中的技術方案，下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本申請保護的范圍。
[0026]請如圖1至圖5所示，本發明實施例提供一種抗干擾裝置，包括設置在原子熒光分析儀的檢測室I內的用于吸收非熒光信號的光阱結構2，光阱結構2的一端靠檢測室I的內壁設置，光阱結構2的另一端靠檢測室I的中心設置。。
[0027]本發明實施例提供的抗干擾裝置，由于在原子熒光分析儀的檢測室I內設置有光阱結構2，光阱結構2的一端靠檢測室I的內壁設置，另一端靠檢測室I的中心設置，如此，光阱結構2占據檢測室I的大部分空間內，且，由于光阱結構2能夠對檢測室I內的非熒光進行吸收，因此，當對待檢測物質進行分析檢測時，原子蒸氣通過檢測室I的中心位置8處豎直送出，光源4發出光照射在原子蒸氣上，原子蒸氣吸收特征波長的輻射后，原子激發到高能級，激發態原子接著以輻射方式去活化，由高能級躍迀到較低能級的過程中所發射的原子熒光，檢測器5檢測原子熒光，在此過程中，光阱結構2的設置能夠有效消除檢測室I內各種反射光對檢測器5的干擾，提高原子熒光分析儀的信噪比，從而提高原子熒光分析儀的靈敏度。
[0028]本發明實施例中的光阱結構2包括本體，本體設置在檢測室I的內壁上，本體的表面設置有亞光層。由于在本體的表面設置有亞光層，光到接觸亞光層后，不會產生鏡面反射，只會發生漫反射;又由于光阱結構2的一端設置在檢測室I的內壁上，另一端靠檢測室I的中心設置，因此，光阱結構2之間光的入口較小，檢測室I內部的非熒光經過光阱結構2的多次漫反射后，不斷衰減，不會再有光反射出來，如此，進入到檢測器5內的熒光信號更加的純，提高了原子熒光分析儀的信噪比。
[0029]其中，為了使得光阱結構2吸光的效果更加好，本發明實施例中光阱結構2表面的亞光層優選采用發黑陽極氧化亞光層。由于黑色不反射光，因此，光阱結構2表面的亞光層采用發黑陽極氧化亞光層，使得光阱結構2不僅能夠對非熒光進行多次漫反射，不斷衰減，且能夠吸收非熒光，因此，對非熒光具有很好的吸收效果，以使得進入到檢測器5內的熒光信號更加的純，進一步提高了原子熒光分析儀的信噪比。
[0030]作為一種優先，兩相鄰光阱結構2靠檢測室I中心處的間距小于靠檢測室I的內壁處的間距。在該結構下，非熒光信號進入兩相鄰光阱結構2之間時，使得非熒光信號不會從兩相鄰光阱結構2之間反射出來，提高了光阱結構2吸收非熒光信號的效果。
[0031]本實施例中，本體靠檢測室I中心位置的寬度小于靠檢測室I內壁一端的寬度。其中，需要說明的是，單個光阱結構2的本體的上表面與下表面的形狀一致，此處所述的寬度具體是指，單個光阱結構2的本體的上表面或者下表面與于檢測室I的徑向相垂直的尺寸。光阱結構2的本體靠檢測室I中心的一端的寬度小于靠檢測室I內壁的寬度，使得相鄰光阱結構2之間靠近檢測室I中心的一端的間隙較大，便于非熒光進入相鄰兩光阱結構2之間的空間。
[0032]本發明實施例提供的抗干擾裝置還包括安裝件3，安裝件3用于將光阱結構2安裝在檢測室I的內壁上。其具體為，光阱結構2固定安裝在安裝件3上，安裝件3與檢測室I內壁連接，以實現將光阱結構2固定安裝在檢測室I的內壁上。
[0033]其中，安裝件3與檢測室I的內壁的連接為，安裝件3卡接在檢測室I內，S卩，安裝件3在檢測室I內壁的約束作用下實現與檢測室I內壁的連接;或者，如圖5所示的，在檢測室I內壁上設置有凸臺9，安裝件3置于凸臺9上。當光阱結構2通過安裝件3安裝在檢測室I內后，通過蓋體7將檢測室I封閉。
[0034]本發明實施例中的安裝件3與檢測室I的橫向截面的形狀相適應。由于檢測室I一般為圓筒結構，因此，本發明實施例中的安裝件3為圓環結構，光阱結構2均勻安裝在圓環的內壁上，圓環卡接在檢測室I內，且圓環的外壁部分或者全部與檢測室I的內壁接觸。安裝件3的設置，通過檢測人員動構即能快速實現光阱結構2的安裝與更換，安裝與維護方便。當然，檢測室I的橫向截面也可以為矩形、多邊形或者其他不規則形狀。
[0035]其中，光阱結構2與圓環為一體結構。
[0036]在檢測室I內一般設置有光源4與檢測器5，由于為了使得光阱結構2對非熒光吸收效果較好，光阱結構2充占據檢測室I內的大部分空間，因此，安裝件3在安裝的過程中，必然受光源4與檢測器5位置的影響。為了解決該問題，本發明實施例中，在安裝件3上設置有第一開口 61與第二開口 62，請如圖1、圖2所示，圖1為抗干擾裝置安裝在原子熒光分析儀上的示意圖，圖2為抗干擾裝置反向放置的立體結構示意圖，第一開口61用于容納原子熒光分析儀的光源4、，，第二開口62用于容納原子熒光分析儀的檢測器5。且在光源4的上方不設置光阱結構2，在光電倍增管5的上方也不設置光阱結構2。
[0037]本發明實施例還提供了一種原子熒光分析儀，該原子熒光分析儀采用了上述抗干擾裝置。
[0038]對所公開的實施例的上述說明，使本領域專業技術人員能夠實現或使用本發明。對這些實施例的多種修改對本領域的專業技術人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現。因此，本發明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
【主權項】
1.一種抗干擾裝置，其特征在于，包括設置在原子熒光分析儀的檢測室內的用于吸收非熒光信號的光阱結構，所述光阱結構的一端靠所述檢測室的內壁設置，所述光阱結構的另一端靠所述檢測室的中心設置。2.根據權利要求1所述的抗干擾裝置，其特征在于，所述光阱結構包括本體，所述本體設置在所述檢測室的內壁上，所述本體的表面設置有亞光層。3.根據權利要求2所述的抗干擾裝置，其特征在于，在所述亞光層為表面發黑的陽極氧化亞光層。4.根據權利要求2所述的抗干擾裝置，其特征在于，兩相鄰所述光阱結構靠所述檢測室中心處的間距小于靠所述檢測室內壁處的間距。5.根據權利要求2所述的抗干擾裝置，其特征在于，所述抗干擾裝置還包括安裝件，所述光阱結構固定安裝在所述安裝件上，所述安裝件與所述檢測室內壁連接。6.根據權利要求5所述的抗干擾裝置，其特征在于，所述安裝件卡接在所述檢測室內。7.根據權利要求5所述的抗干擾裝置，其特征在于，在所述檢測室內壁上設置有凸臺，所述安裝件置于所述凸臺上。8.根據權利要求6所述的抗干擾裝置，其特征在于，在所述安裝件上設置有第一開口與第二開口，所述第一開口用于容納所述原子熒光分析儀的光源，所述第二開口用于容納所述原子熒光分析儀的檢測器。9.一種原子熒光分析儀，其特征在于，所述原子熒光分析儀采用了如權利要求1至8任意一項所述的抗干擾裝置。
【文檔編號】G01N21/01GK106018367SQ201610493947
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年6月29日
【發明人】彭德運, 黃海萍, 許雄飛, 熊春洪, 彭文姣, 李安強, 李淑云, 曹暢, 趙金龍
【申請人】力合科技（湖南）股份有限公司