一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置及其微區掃描方法
【專利摘要】本發明公開了一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置及其微區掃描方法。微區掃描裝置包括激光器、微波發生器、脈沖延時發生器、準直系統、光束轉折器、微處理器、光譜儀、光學聚焦系統、光譜收集器、成像系統、光分束器、三維移動平臺、電機控制器。微波發生器發出微波脈沖并控制微波脈沖，激發激光光束與樣品因相互作用產生的等離子體。樣品放置于三維移動平臺上，光分束器位于光束轉折器的光直線出口光路上，成像系統與光譜收集器分別位于光分束器的兩路光分路上。成像系統與脈沖延時發生器、微處理器分別電性連接，并對樣品進行成像。微處理器電性連接電機控制器，電機控制器驅動三維移動平臺。本發明還提供所述微區掃描裝置的微區掃描方法。
【專利說明】
一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置及其微區掃描方法
技術領域
[0001]本發明涉及一種微區掃描裝置及其微區掃描方法，尤其涉及一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置及其微區掃描方法。【背景技術】
[0002]目前樣品中元素的微區分析主要采用同步輻射X射線熒光成像法(SXRF)、納米二次離子質譜法(nano-S頂S)和激光剝蝕電感耦合等離子體質譜(LA-1CP-MS)，但是這些分析手段操作復雜、價格昂貴、需要在真空條件下進行，難以大范圍推廣普及應用，并且需要繁瑣的樣品預處理程序，因此不能快速簡便地進行微區分析。激光誘導擊穿光譜作為一種新興的發射光譜分析技術，從1962被提出以來，得到了越來越多人的關注。激光誘導激光光譜技術采用激光與樣品相互作用產生高溫、高密度的等離子體，高溫、高密度的等離子體隨延時而降低，等離子體不斷擴散。在等離子體冷卻的過程中，處于原子和離子激發態的電子向低能級躍迀，在躍迀的過程中會發射特定波長的線狀光譜(特征光譜)，從其特征光譜的位置可以判斷樣品中含有元素的種類，從其光譜強度可以反演對應元素的濃度，即進行定性和定量分析。相對于傳統的檢測技術，激光誘導擊穿光譜技術(Laser-1nduced Breakdown Spectroscopy: LIBS)具有:無需樣品制備、同時檢測多種元素、測量時間短、能夠對各種形態的樣品進行分析、設備價廉易于操作、能夠進行微區分析等優點，另外，激光具有單色性好、相干性好、方向性好和能量高等優點，所以激光通過聚焦裝置能聚焦成微小光斑，進行微區掃描檢測，因此它是實現快速簡便微區分析的有效技術。而采用微波輔助的方式實現等離子體再次激發，降低元素的檢測，提高光譜信號的穩定性，減弱了基體效應對定量分析的影響。從而采用微波輔助激光誘導擊穿光譜不僅能夠對樣品中主量元素進行分析，還可以對樣品中痕量元素進行分析。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于基于微波輔助的激光誘導擊穿光譜技術提供一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置及其微區掃描方法，是為了利用激光誘導擊穿光譜技術與微區掃描相結合，實現樣品中各位置對應元素的檢測，發現各元素在樣品中的分布，為開展樣品研究提供一種新的技術裝置。
[0004]本發明通過以下技術方案實現:一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其包括激光器、微波發生器、脈沖延時發生器、準直系統、光束轉折器、微處理器、光譜儀、光學聚焦系統、光譜收集器;脈沖延時發生器與激光器、微波發生器、光譜儀分別電性連接，光譜儀還與光譜收集器、微處理器分別電性連接;光束轉折器的光轉折入口、準直系統均位于激光器的光路上，準直系統位于激光器與光束轉折器之間；樣品和光學聚焦系統均位于光束轉折器的光轉折出口的光路上，光學聚焦系統位于樣品與光束轉折器之間；微波發生器發出微波脈沖并控制微波脈沖，對激光光束與樣品因相互作用而產生的高溫、高密度的等離子體進行激發；
[0005]其中:所述微區掃描裝置還包括成像系統、光分束器、三維移動平臺、電機控制器； 樣品放置于三維移動平臺上;光分束器位于光束轉折器的光直線出口光路上，所述成像系統與光譜收集器分別位于光分束器的兩路光分路上;所述成像系統與脈沖延時發生器、微處理器分別電性連接，并對樣品進行成像;微處理器電性連接電機控制器，電機控制器驅動三維移動平臺。
[0006]作為上述方案的進一步改進，脈沖延時發生器控制激光器、微波發生器、光譜儀及所述成像系統之間的時序;所述成像系統對樣品進行成像，并確定樣品的各燒蝕點的坐標， 微處理器根據燒蝕點的坐標控制三維移動平臺的移動。
[0007]進一步地，脈沖延時發生器觸發激光器發出脈沖式激光光束，激光光束通過準直系統準直后，經光學聚焦系統將激光光束的能量聚焦于樣品的表面，激光光束與樣品相互作用產生高溫、高密度的等離子體;脈沖延時發生器然后觸發微波發生器，微波發生器發出微波脈沖并控制微波脈沖對等離子體再次激發，脈沖延時發生器再觸發光譜儀對等離子體產生的光譜信號進行采集，完成了一次光譜信號的采集;然后電機控制器根據燒蝕點坐標的設計，控制三維移動平臺移至下一個燒蝕點，開始第二個燒蝕點的光譜信號采集。
[0008]作為上述方案的進一步改進，所述成像系統包括成像鏡頭、探測器;成像鏡頭通過光分束器對樣品進行成像，探測器根據所述成像確定樣品的各燒蝕點的坐標;成像鏡頭、探測器一方面分別與脈沖延時發生器電性連接，另一方面還分別與微處理器電性連接。
[0009]作為上述方案的進一步改進，所述微區掃描裝置還包括磁控管，微波發生器通過磁控管控制微波脈沖對等離子體再次激發。
[0010]進一步地，所述微區掃描裝置還包括微波衰減器，微波衰減器安裝在磁控管之后用于衰減所述微波脈沖。
[0011]再進一步地，樣品放置在微波屏蔽腔內，微波屏蔽腔屏蔽微波向外面傳輸;所述微區掃描裝置還包括環形天線，環形天線放置在微波屏蔽腔內，微波發生器通過磁控管和微波衰減器產生的微波脈沖，采用環形天線對等離子體再次激發。
[0012]作為上述方案的進一步改進，所述微區掃描裝置還包括光纖，等離子體產生的光譜信號通過光譜收集器收集并耦合至光纖，通過光纖傳輸至光譜儀進行分光和探測。
[0013]作為上述方案的進一步改進，脈沖延時發生器通過若干信號線連接于激光器、微波發生器、光譜儀、所述成像系統;光譜儀通過數據線連接于微處理器。
[0014]本發明還提供一種光譜檢測元素分布的微區掃描方法，其應用于上述任意光譜檢測元素分布的微區掃描裝置中，所述微區掃描方法包括以下步驟:
[0015]一、樣品放置于三維移動平臺；
[0016]二、脈沖延時發生器首先觸發成像系統，所述成像系統對樣品進行成像并確定各燒蝕點的坐標；
[0017]三、脈沖延時發生器觸發激光器發出脈沖式激光光束，激光光束通過準直系統準直后，經光學聚焦系統將激光光束的能量聚焦于樣品的表面，激光光束與樣品相互作用產生高溫、高密度的等離子體；
[0018]四、脈沖延時發生器然后觸發微波發生器，微波發生器發出微波脈沖并控制微波脈沖對等離子體再次激發，進而提高了光譜信號強度；
[0019]五、脈沖延時發生器再觸發光譜儀，光譜儀對所述光譜信號進行采集，完成了一次光譜信號的采集；
[0020]六、微處理器根據燒蝕點坐標驅動三維移動平臺的移動，控制三維移動平臺移至下一個燒蝕點，開始第二個燒蝕點的光譜信號采集;依次循環，根據燒蝕點坐標完成全部檢測，并對樣品各燒蝕點的光譜信號進行定量分析，進而繪制出各元素在該樣品中的分布。
[0021]本發明將微波輔助激光誘導擊穿光譜技術與微區掃描相結合，實現樣品微區掃描檢測。本發明的優點在于:相對于其它LIBS信號增強技術，微波輔助激光誘導擊穿光譜只需要少的燒蝕量就能實現信號的高靈敏度檢測，而少的燒蝕量是實現高空間分辨率微區掃描的必要條件，所以微波輔助激光誘導擊穿光譜技術和微區掃描相結合，解決了靈敏度和空間分辨率之間的矛盾，保證了能夠實現對痕量元素的微區掃描檢測。另外該裝置能夠根據微區掃面檢測結果繪制各元素在樣品中的分布規律，為樣品研究提供了一種有效手段。【附圖說明】
[0022]圖1為本發明較佳實施例提供的微區掃描光譜檢測裝置的模塊結構示意圖。
[0023]圖2為本發明微區掃描燒蝕點的方向及位移的示意圖。【具體實施方式】
[0024]以下結合實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不限定本發明。
[0025]請參閱圖1，本實施例的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置包括激光器1、微波發生器2、脈沖延時發生器3、磁控管4、準直系統5、光束轉折器6、微處理器8、光譜儀9、光學聚焦系統13、光譜收集器20、成像系統、光分束器12、三維移動平臺17、電機控制器21、微波衰減器18、環形天線16、光纖15。成像系統包括成像鏡頭22、探測器19。成像系統能夠對樣品11 進行成像，確定各燒蝕點的坐標，當然了，成像系統也肯定能夠對樣品11上空因反應而產生的等離子體10進行成像。
[0026]脈沖延時發生器3與激光器1、微波發生器2、光譜儀9、成像系統分別電性連接。在成像系統中，成像鏡頭22、探測器19一方面分別與脈沖延時發生器3電性連接，另一方面還分別與微處理器8電性連接。脈沖延時發生器3控制激光器1、微波發生器2、光譜儀9及成像系統(成像鏡頭22和探測器19)之間的時序。成像鏡頭22對樣品11進行成像，樣品11放置于三維移動平臺17上，光譜儀9還與光譜收集器20、微處理器8分別電性連接。微處理器8電性連接電機控制器21，電機控制器21驅動三維移動平臺17。脈沖延時發生器3可通過若干信號線連控制激光器1、微波發生器2、光譜儀9、成像系統;光譜儀9可通過數據線7連接于微處理器8〇
[0027]光束轉折器6的光轉折入口、準直系統5均位于激光器1的光路上，準直系統5位于激光器1與光束轉折器6之間。樣品11和光學聚焦系統13均位于光束轉折器6的光轉折出口的光路上，光學聚焦系統13位于樣品11與光束轉折器6之間。微波發生器2發出微波脈沖并控制微波脈沖，對激光光束與樣品11相互作用產生高溫、高密度的等離子體10進行激發。光分束器12位于光束轉折器6的光直線出口光路上，所述成像系統與光譜收集器20分別位于光分束器12的兩路光分路上。
[0028]光束轉折器6表面鍍有對應于激光器1發出激光波長的全反射膜，能夠將準直后的激光光束通過光束轉折器6改變光束傳輸方向，以準確傳輸至光學聚焦系統13，同時光束轉折器6不影響其他波段光的傳輸。[〇〇29]激光傳輸與光譜傳輸方向共線相反，光分束器12能夠對等離子體產生的發生光譜分成兩束，一束被光譜儀9采集，另一束傳輸至成像系統，兩束光的分束比根據實際需求來定。
[0030]請結合圖2,微區掃描裝置的微區掃描方法包括以下步驟。
[0031]一、樣品11放置于三維移動平臺17。
[0032]二、脈沖延時發生器3首先觸發成像系統，所述成像系統對樣品11進行成像并確定各燒蝕點23的坐標。[〇〇33] 三、脈沖延時發生器3觸發激光器1發出脈沖式激光光束，激光光束通過準直系統5 準直后，并通過光束轉折器6改變光路方向，再通過光學聚焦系統13將激光光束的能量聚焦于樣品11的表面，激光光束與樣品11相互作用產生高溫、高密度的等離子體10。
[0034]其中，光學聚焦系統13可控制激光燒蝕樣品的燒蝕點23的大小。
[0035]四、脈沖延時發生器3然后觸發微波發生器2,微波發生器2發出微波脈沖并控制微波脈沖對等離子體10再次激發，進而提高了光譜信號強度。在電磁場的作用下，等離子體10 被再次激發，等離子體10在演化過程中產生發射光譜信號即特定波長的特征光譜。
[0036]微波發生器2可通過磁控管4控制微波脈沖對等離子體10再次激發，微波衰減器18 安裝在磁控管4之后用于衰減所述微波脈沖。環形天線16放置在微波屏蔽腔14內，微波發生器2通過磁控管4和微波衰減器18產生的微波脈沖，采用環形天線16對等離子體10再次激發。微波環狀天線16的圈數、高度、半徑等參數應根據等離子體10的大小來設計。其中三維移動平臺17也放置于微波屏蔽腔14內。
[0037]五、脈沖延時發生器3再觸發光譜儀9，光譜儀9對所述光譜信號進行采集，完成了一次光譜信號的采集。光譜儀9可通過光譜收集器20對所述燒蝕點23產生的光譜信號進行采集。所述光譜信號可通過光譜收集器20收集并耦合至光纖15傳輸至光譜儀9進行分光和探測。所述光譜信號通過光譜儀9傳輸至微處理器8,通過微處理器8對光譜信號采集和保存。[〇〇38]六、微處理器8根據燒蝕點23坐標驅動三維移動平臺17的移動，控制三維移動平臺 17移至下一個燒蝕點23,開始第二個燒蝕點的光譜信號采集;依次循環，根據燒蝕點23坐標完成全部檢測，并對樣品各燒蝕點23的光譜信號進行定量分析，進而繪制出各元素在該樣品中的分布。[〇〇39]當然，在應用本發明的微區掃描裝置之前，最好進行適當的誤差調節。如，首先調節激光的聚焦位置至樣品11之間的距離，然后成像系統(成像鏡頭22和探測器19)對樣品11 成像，通過對樣品11的成像確定激光燒蝕點的坐標23,燒蝕點23的坐標是激光檢測的位置點。這樣提高微處理器8后續的數據精度:微處理器8根據燒蝕點23坐標設計三維移動平臺 17的移動，經步進電機控制器控制三維精密移動平臺的移動方向、X位移24和Y位移25(如圖 2所示)。
[0040] 故，電機控制器21控制三維精密移動平臺即三維移動平臺17移動實現對樣品11各位置的光譜檢測，通過微處理器8進行設定三維移動平臺17每次坐標，移動的坐標與各燒蝕點23的坐標相對應。
[0041]綜上所述，本發明的優勢在于:
[0042] 1.通過微波輔助激光誘導擊穿光譜與微區掃描相結合，能夠實現對樣品11的微區快速掃描檢測；
[0043] 2.微區掃描的燒蝕點23大小可以通過光學聚焦系統13進行調節，可以實現對樣品 11各種燒蝕點23大小進行掃描檢測；
[0044] 3.通過成像系統(成像鏡頭22和探測器19)設定樣品11被檢測的燒蝕點23坐標，并通過微處理系統8相互配合，控制三維移動平臺17移動的方向及位移，實現自動快速掃描檢測；
[0045] 4.激光傳輸與光譜收集方向共線，通過光分束器12能夠對燒蝕點23光譜信號和等離子體10圖像同時采集，同時能夠實現整個裝置結構的緊湊；
[0046] 5.相對于傳統的微區掃描裝置，該裝置具有結構簡單、掃描速度快、操作方便、價格便宜等優點。
[0047]為了更好的證明本發明的有益效果，本發明做了多次試驗，在本實施例中，具體介紹采用微波輔助激光誘導擊穿光譜微區掃描檢測水稻葉片中鈣、鐵、鎂和銅的分布，其檢測過程如下介紹。[〇〇48]首先對水稻葉片進行處理和固定于三維精密移動平臺，調節激光的聚焦位置與水稻葉片樣品11表面之間的距離，使激光燒蝕樣品點23的直徑為15微米。八通道脈沖延時發生器DG645觸發成像系統(成像鏡頭22和ICXD探測器19)對樣品成像，確定水稻各燒蝕點23 的坐標，并通過微處理器8設定三維精密移動平臺的移動方向和位移，位移大小為10微米。 [〇〇49] 脈沖延時發生器DG645然后觸發1064nm脈沖激光器1，激光能量20mJ，脈沖寬度 8ns，通過準直系統5將激光光束準直，并通過光束轉折器6改變光束傳輸方向，光束轉折器6 鍍有1064nm的45°窄帶高反射膜，不影響其它波段光的傳輸，激光光束通過焦距為40mm的光學聚焦系統13將脈沖激光能量聚焦于水稻葉片樣品11表面，脈沖激光與水稻葉片樣品11相互作用產生高溫、高密度的等離子體10。
[0050]當電子密度下降至微波再次激發所需閾值密度，八通道脈沖延時發生器DG645通過數據線觸發微波發生器通過磁控管4和微波衰減器18,產生功率為500瓦、頻率為 2.45GHz、脈沖寬度為300微秒的微波，采用高度為2mm，直徑為2mm環形天線16控制微波脈沖對等離子體10再次激發，等離子體在演變過程中會發射Cu、Mg、Ca、Mg等特定波長的特征光譜。[〇〇51] 脈沖延時發生器DG645通過信號線觸發光譜儀20對光譜信號進行采集。光譜儀20 的光譜響應范圍200-800nm，分辨率為0.lnm，光譜采集相對于激光產生等離子體10延時1.5 微秒。特征光譜信號通過收集器20收集并耦合至光纖15傳輸至光譜儀9進行分光和探測，最后通過數據線7傳輸至微處理器8保存，實現對該燒蝕點23的測量。[〇〇52]完成一次微區測量后，根據微處理器8設定的三維精密移動平臺向X軸方向移動10 微米，至下一個燒蝕點23,開展第二燒蝕點的光譜采集。依次循環微區掃描檢測，最終完成光譜測量，并通過微處理器8定量分析模型，對各燒蝕點23鈣、鐵、鎂和銅的光譜進行反演和分析，根據各燒蝕點23鈣、鐵、鎂和銅的定量分析結果，繪制它們在葉片中的分布規律。 [〇〇53]以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，并不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種光譜檢測元素分布的微區掃描裝置;其包括激光器(1)、微波發生器(2)、脈沖延 時發生器(3)、準直系統(5)、光束轉折器(6)、微處理器(8)、光譜儀(9)、光學聚焦系統(13)、 光譜收集器(20);脈沖延時發生器(3)與激光器(1)、微波發生器(2)、光譜儀(9)分別電性連 接，光譜儀(9)還與光譜收集器(20)、微處理器(8)分別電性連接;光束轉折器(6)的光轉折 入口、準直系統(5)均位于激光器(1)的光路上，準直系統(5)位于激光器(1)與光束轉折器 (6)之間；樣品(11)和光學聚焦系統(13)均位于光束轉折器(6)的光轉折出口的光路上，光 學聚焦系統(13)位于樣品(11)與光束轉折器(6)之間;微波發生器(2)發出微波脈沖并控制 微波脈沖，對激光光束與樣品(11)因相互作用而產生的高溫、高密度的等離子體(10)進行 激發；其特征在于:所述微區掃描裝置還包括成像系統、光分束器(12)、三維移動平臺(17)、電機控制器 (21);樣品(11)放置于三維移動平臺(17)上;光分束器(12)位于光束轉折器(6)的光直線出 口光路上，所述成像系統與光譜收集器(20)分別位于光分束器(12)的兩路光分路上;所述 成像系統與脈沖延時發生器(3)、微處理器(8)分別電性連接，并對樣品(11)進行成像;微處 理器(8)電性連接電機控制器(21)，電機控制器(21)驅動三維移動平臺(17)。2.如權利要求1所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:脈沖延時發生 器(3)控制激光器(1)、微波發生器(2)、光譜儀(9)及所述成像系統之間的時序;所述成像系 統對樣品(11)進行成像，并確定樣品(11)的各燒蝕點(23)的坐標，微處理器(8)根據燒蝕點 (23)的坐標控制三維移動平臺(17)的移動。3.如權利要求2所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:脈沖延時發生 器(3)觸發激光器(1)發出脈沖式激光光束，激光光束通過準直系統(5)準直后，經光學聚焦 系統(13)將激光光束的能量聚焦于樣品(11)的表面，激光光束與樣品(11)相互作用產生高 溫、高密度的等離子體(10);脈沖延時發生器(3)然后觸發微波發生器(2)，微波發生器(2) 發出微波脈沖并控制微波脈沖對等離子體(10)再次激發，脈沖延時發生器(3)再觸發光譜 儀(9)對等離子體(10)產生的光譜信號進行采集，完成了一次光譜信號的采集;然后電機控 制器(21)根據燒蝕點(23)坐標的設計，控制三維移動平臺(17)移至下一個燒蝕點(23)，開 始第二個燒蝕點的光譜信號采集。4.如權利要求1所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:所述成像系統 包括成像鏡頭(22)、探測器(19);成像鏡頭(22)通過光分束器(12)對樣品(11)進行成像，探 測器(19)根據所述成像確定樣品(11)的各燒蝕點(23)的坐標;成像鏡頭(22)、探測器(19) 一方面分別與脈沖延時發生器(3)電性連接，另一方面還分別與微處理器(8)電性連接。5.如權利要求1所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:所述微區掃描 裝置還包括磁控管(4)，微波發生器(2)通過磁控管(4)控制微波脈沖對等離子體(10)再次 激發。6.如權利要求5所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:所述微區掃描 裝置還包括微波衰減器(18)，微波衰減器(18)安裝在磁控管(4)之后用于衰減所述微波脈 沖。7.如權利要求6所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:樣品(11)放置 在微波屏蔽腔(14)內，微波屏蔽腔(14)屏蔽微波向外面傳輸;所述微區掃描裝置還包括環形天線(16)，環形天線(16)放置在微波屏蔽腔(14)內，微波發生器(2)通過磁控管(4)和微 波衰減器(18)產生的微波脈沖，采用環形天線(16)對等離子體(10)再次激發。8.如權利要求1所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:所述微區掃描 裝置還包括光纖(15)，等離子體(10)產生的光譜信號通過光譜收集器(20)收集并耦合至光 纖(15 )，通過光纖(15)傳輸至光譜儀(9)進行分光和探測。9.如權利要求1所述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置，其特征在于:脈沖延時發生 器(3)通過若干信號線連接于激光器(1)、微波發生器(2)、光譜儀(9)、所述成像系統;光譜 儀(9)通過數據線(7)連接于微處理器(8)。10.—種光譜檢測元素分布的微區掃描方法，其應用于如權利要求1至9中任意一項所 述的光譜檢測元素分布的微區掃描裝置中，其特征在在于:所述微區掃描方法包括以下步 驟:一、樣品(11)放置于三維移動平臺(17);二、脈沖延時發生器(3)首先觸發成像系統，所述成像系統對樣品(11)進行成像并確定 各燒蝕點(23)的坐標；三、脈沖延時發生器(3)觸發激光器(1)發出脈沖式激光光束，激光光束通過準直系統 (5)準直后，經光學聚焦系統(13)將激光光束的能量聚焦于樣品(11)的表面，激光光束與樣 品(11)相互作用產生高溫、高密度的等離子體(10);四、脈沖延時發生器(3)然后觸發微波發生器(2)，微波發生器(2)發出微波脈沖并控制 微波脈沖對等離子體(10)再次激發，進而提高了光譜信號強度；五、脈沖延時發生器(3)再觸發光譜儀(9)，光譜儀(9)對所述光譜信號進行采集，完成 了一次光譜信號的采集；六、微處理器(8)根據燒蝕點(23)坐標驅動三維移動平臺(17)的移動，控制三維移動平 臺(17)移至下一個燒蝕點(23)，開始第二個燒蝕點的光譜信號采集;依次循環，根據燒蝕點 (23)坐標完成全部檢測，并對樣品各燒蝕點(23)的光譜信號進行定量分析，進而繪制出各 元素在該樣品中的分布。
【文檔編號】G01N21/71GK105973871SQ201610272808
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年4月27日
【發明人】王 琦, 陳慧茹, 吳躍進, 劉晶, 劉斌美, 林晏清, 范爽
【申請人】中國科學院合肥物質科學研究院