透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，屬于顯微鏡支持膜技術領域。
【背景技術】
[0002]目前市場上能購買到的適用于透射電子顯微鏡分析微米、納米材料的支持膜，全部是單一型的，也就是支持膜是一種材料制成的。通常是在金屬如銅、金、鎳等或其它材質的網格上沉積一層碳或金屬物如鎳薄膜。該薄膜分為致密無孔和帶孔的兩種類型。有些生產者還在支持膜和金屬網格之間或者金屬網格的背面鍍一層弗姆瓦薄膜。現有支持膜的缺點是一旦材料中含有同支持膜相同的成分時，則無法檢測該材料中是否真正含有該種元素，更無法確定該元素的相對含量。
[0003]透射電鏡用的支持膜網格多呈直徑3毫米的薄片狀，常見的有200目、400目的孔。其上可沉積單一材質的致密無孔或有孔的碳膜、鎳膜等。圖5是金屬網格及其上沉積的多孔碳支持膜正面示意圖；圖6為其實物立體示意圖。由于支持膜較脆弱，通常可再沉積一層弗姆瓦支撐膜。弗姆瓦支撐膜可在薄膜和金屬網格之間，亦可與支持膜分于金屬網格的兩面。圖7是金屬網格及其上沉積碳膜橫截面示意圖，圖8是金屬網格單面上按順序依次沉積弗姆瓦膜和碳膜的橫截面示意圖，圖9是金屬網格雙面分別沉積弗姆瓦膜和碳膜的橫截面示意圖。
[0004]所述弗姆瓦，英文為Formvar，指聚乙烯醇縮甲醛和氯醋聚乙烯醇三元共聚物的一系列廣品。
【發明內容】
[0005]本發明目的是為了解決現有透射電子顯微鏡支持膜采用一種材料制成，當被檢測材料中含有同支持膜相同的成分時，則無法檢測該材料中是否真正含有該種元素，更無法確定該元素的相對含量的問題，提供了一種透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜。
[0006]本發明所述透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，它包括待沉積網格，它還包括復合支持膜，該復合支持膜為致密無孔型和帶孔型，該復合支持膜由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接組成;所述第一半段和第二半段的材質不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材質各不相同；
[0007]所述復合支持膜沉積在待沉積網格的上表面上。
[0008]它還包括弗姆瓦膜，所述弗姆瓦膜處于復合支持膜與待沉積網格之間。
[0009]它還包括弗姆瓦膜，弗姆瓦膜沉積在待沉積網格的下表面上。
[0010]復合支持膜由第一半段和第二半段拼接形成，第一半段為碳膜，第二半段為鎳膜。[0011 ]所述待沉積網格為金屬網格。
[0012]本發明的優點:本發明在同一片網格上沉積上兩種、三種或多種不同材質的復合支持膜，使得對不同待檢測分析的試樣材料均可進行檢測，當待檢測分析的試樣材料與復合支持膜中某一成分相同時，則可采用其它成分的拼接段位置進行檢測，使用者不必事先購置大量的不同材質的單一支持膜，尤其是在不清楚待檢測材料的物質成分的情況下，不必更換支持膜重新制備透射電鏡樣品。既方便了使用，提高研究效率，而且降低使用者的費用。
【附圖說明】
[0013]圖1是本發明所述透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜的立體結構示意圖；圖中復合支持膜由兩種材質的半圓膜復合而成；
[0014]圖2是待沉積網格與復合支持膜的截面示意圖；圖中復合支持膜的左半段和右半段分別由兩種不同的材質制成；
[0015]圖3是待沉積網格、復合支持膜與弗姆瓦膜的截面示意圖，弗姆瓦膜與復合支持膜位于待沉積網格的同側表面;圖中復合支持膜的左半段和右半段分別由兩種不同的材質制成；
[0016]圖4是是待沉積網格、復合支持膜與弗姆瓦膜的截面示意圖，弗姆瓦膜與復合支持膜位于待沉積網格的兩側表面；圖中復合支持膜的左半段和右半段分別由兩種不同的材質制成；
[0017]圖5是金屬網格及其上沉積的多孔碳支持膜正面示意圖；
[0018]圖6是金屬網格及其上沉積的多孔碳支持膜實物立體圖；
[0019]圖7是金屬網格及其上沉積碳膜橫截面示意圖；
[0020]圖8是金屬網格單面上按順序依次沉積弗姆瓦膜和碳膜的橫截面示意圖；
[0021 ]圖9是金屬網格雙面分別沉積弗姆瓦膜和碳膜的橫截面示意圖。
【具體實施方式】
[0022]【具體實施方式】一:下面結合圖1至圖2說明本實施方式，本實施方式所述透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，它包括待沉積網格I，它還包括復合支持膜2，該復合支持膜2為致密無孔型和帶孔型，該復合支持膜2由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接組成;所述第一半段和第二半段的材質不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材質各不相同；
[0023]所述復合支持膜2沉積在待沉積網格I的上表面上。
[0024]上述各分段內材質是均一的;所述各分段可為面積上的等分，亦可非等分。
[0025]【具體實施方式】二:下面結合圖3說明本實施方式，本實施方式對實施方式一作進一步說明，它還包括弗姆瓦膜3，所述弗姆瓦膜3處于復合支持膜2與待沉積網格I之間。
[0026]【具體實施方式】三:下面結合圖4說明本實施方式，本實施方式對實施方式一作進一步說明，它還包括弗姆瓦膜3，弗姆瓦膜3沉積在待沉積網格I的下表面上。
[0027]【具體實施方式】四:本實施方式對實施方式一、二或三作進一步說明，復合支持膜2由第一半段和第二半段拼接形成，第一半段為碳膜，第二半段為鎳膜。
[0028]所述第一半段可選擇為碳膜或其它材質膜，第二半段可選擇為鎳膜或其它材質膜。
[0029]【具體實施方式】五:本實施方式對實施方式一、二、三或四作進一步說明，所述待沉積網格I為金屬網格。[0030 ]所述待沉積網格I可采用導電導熱材質制成。
[0031]本發明在同一片金屬網格或者其它導電導熱材質的網格上沉積上兩種或多種不同材質的復合支持膜。支持膜材料為碳、鎳或其它材料;支持膜厚度和層數不限定;支持膜為有孔或者無孔的形式:孔的大小和形狀不限定。支持膜的支撐物多為弗姆瓦，可在薄膜和金屬網格之間，亦可與支持膜分列于金屬網格的兩面；網格采用金屬或其它導電導熱材質，厚度不定;網格孔為100目、200目,400目或其它合適大小均可。
[0032]圖1中，復合支持膜的面積上碳和鎳各占一半；圖2中復合支持膜的面積上碳和鎳各占一半；圖3中金屬網格單面上按順序依次沉積弗姆瓦膜和各占一半面積的碳膜和鎳膜；圖4中金屬網格雙面分別沉積弗姆瓦膜和各占一半面積的碳膜和鎳膜。
[0033]本發明在制作時，可事先覆蓋住網格的一半，并在未覆蓋的一半上沉積第一種材質的支持膜，如碳膜;然后將沉積有碳膜的那一半覆蓋住，露出未沉積的另外一半，并沉積第二種材質的支持膜，如鎳膜。大批量生產時，可事先在一大塊平板上加工出直徑3.1毫米，厚0.5毫米圓坑，這些圓坑成規則的二維排列，便于規則地覆蓋保護和沉積工藝。其后，將外購的或自制的外徑大約3毫米的網格單個填充在這些淺坑中，所述網格為金屬或其它導電導熱材料。設計特殊的蓋板，一次蓋住所有網格的一半，沉積第一種材質的支持膜;然后移動蓋板，保護好已沉積的部分，漏出新的部分網格，沉積第二種材質的支持膜。
[0034]三種或多種材質的支持膜的沉積工藝可參照上述方案制定。
[0035]本發明適用于顯微學，電子顯微學，尤其是透射電子顯微學及其周邊試樣制備技術。
【主權項】
1.一種透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，它包括待沉積網格(I)，其特征在于，它還包括復合支持膜(2)，該復合支持膜(2)為致密無孔型和帶孔型，該復合支持膜(2)由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接組成;所述第一半段和第二半段的材質不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材質各不相同； 所述復合支持膜(2)沉積在待沉積網格(I)的上表面上。2.根據權利要求1所述的透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，其特征在于，它還包括弗姆瓦膜(3)，所述弗姆瓦膜(3)處于復合支持膜(2)與待沉積網格(I)之間。3.根據權利要求1所述的透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，其特征在于，它還包括弗姆瓦膜(3)，弗姆瓦膜(3)沉積在待沉積網格(I)的下表面上。4.根據權利要求1、2或3所述的透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，其特征在于，復合支持膜(2)由第一半段和第二半段拼接形成，第一半段為碳膜，第二半段為鎳膜。5.根據權利要求1、2或3所述的透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，其特征在于，所述待沉積網格(I)為金屬網格。
【專利摘要】透射電子顯微鏡用多功能復合支持膜，屬于顯微鏡支持膜技術領域。本發明是為了解決現有透射電子顯微鏡支持膜采用一種材料制成，當被檢測材料中含有同支持膜相同的成分時，則無法檢測該材料中是否真正含有該種元素，更無法確定該元素的相對含量的問題。它的復合支持膜為致密無孔型和帶孔型，該復合支持膜由第一半段和第二半段拼接形成，或者由第一分段、第二分段和第三分段依次拼接組成；所述第一半段和第二半段的材質不相同，第一分段、第二分段和第三分段的材質各不相同，所述復合支持膜沉積在待沉積網格的上表面上。本發明作為一種顯微鏡支持膜。
【IPC分類】G01Q30/20
【公開號】CN105548616
【申請號】CN201511018326
【發明人】饒建存, 周玉
【申請人】哈爾濱工業大學
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年12月29日