一種x射線有效防輻射劑量泄露裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，屬于X射線設備制造領域。
【背景技術】
[0002]作為一種特種檢測手段，X射線具有穿透能力強，能夠探測物體內部結構而在各行各業得到廣泛的應用。但是，由于X射線的肉眼不可見性和對人體傷害的不可逆性，X射線的設備的應用在各個國家都有嚴格的管理規定和嚴格的市場準入限制，其中一個很重要的指標就是輻射泄露劑量的限定，目前在國際上，除美國限定5 μ Sv/h外，其他國家都限定輻射劑量率小于1 μ Sv/h。目前很多的設備是采用鉛防護，這樣子不僅增加了整機的重量，增加了工藝方面的難度，而且還引入了有毒性的重金屬鉛的污染。
【發明內容】
[0003]本發明所要解決的技術問題在于:一種有效的防射線泄露的X射線有效防輻射劑量泄露裝置
[0004]本發明所要解決的技術問題采取以下技術方案來實現:
[0005]—種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其包括X射線源、光路限制狹縫盒、光源支撐架、物料通道、射線線陣探測器和整機機械架，所述X射線源、光路限制狹縫盒連接在光源支撐架上，所述X射線源設在光路限制狹縫盒上方，所述光路限制狹縫盒具有一定厚度且底部有一狹縫的鋼材料的腔室，所述狹縫的寬度方向與物料通道方向一致，所述物料通道在光路限制狹縫盒下方，且有與光路限制狹縫盒上狹縫方向一致的射線通道，所述射線線陣探測器設在射線通道正下方且固定在整機機械架上，使狹縫、射線通道和射線線陣探測器在一條直線上。
[0006]光路限制狹縫盒的狹縫結構，此狹縫結構通過將不必要的射線遮擋，只允許接近于狹縫寬度的光下行至探測器，從而有效的降低了輻射劑量的泄露和防護的難度。
[0007]作為優選實例，所述X射線源出光是兩個垂直方向上發散角不同的扇形光束，其中發散角較大的方向垂直于物料通道方向。
[0008]作為優選實例，所述X射線源在光源支撐架上要具有一定的容差調節移動范圍。
[0009]作為優選實例，所述物料通道的進口和出口還設有鉛簾懸掛，用以泄露保護。
[0010]本發明的有益效果是:本發明將X射線源連接采用帶有狹縫結構的鋼材料的光路限制狹縫盒，從射線入射的源頭控制，將輻射泄露控制在一定的范圍內，同時，本發明的防護措施中，并沒有使用鉛，降低了工藝的難度、整機的重量以及減少了不必要的鉛污染，這對一些食品檢測行業尤為重要。
【附圖說明】
[0011]圖1為本發明的結構示意圖；
[0012]圖2為本發明光路限制狹縫盒的結構示意圖；
[0013]圖3為本發明光路限制狹縫盒的截面圖；
[0014]圖4為本發明光路光路的幾何示意圖。
[0015]圖中:X射線源1，光路限制狹縫盒2，狹縫2.1，光源支撐架3，物料通道4，射線通道4.1，射線線陣探測器5，整機機械架6。
【具體實施方式】
[0016]為了對本發明的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體圖示，進一步闡述本發明。
[0017]如圖1至4所示，一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其包括X射線源1、光路限制狹縫盒2、光源支撐架3、物料通道4、射線線陣探測器5和整機機械架6，所述X射線源1、光路限制狹縫盒2連接在光源支撐架3上，所述X射線源1設在光路限制狹縫盒2上方，所述光路限制狹縫盒2具有一定厚度且底部有一狹縫2.1的鋼材料的腔室，所述狹縫2.1的寬度方向與物料通道4方向一致，所述物料通道4在光路限制狹縫盒2下方，且有與光路限制狹縫盒2上狹縫2.1方向一致的射線通道4.1，所述射線線陣探測器5設在射線通道正下方且固定在整機機械架6上，使狹縫2.1、射線通道4.1和射線線陣探測器5在一條直線上，若X射線源1到狹縫2.1的距離是L1，狹縫2.1的寬度wl，線陣探測器5的距離L2，一般線陣探測器5的物料通道4方向的的寬度為毫米的量級，狹縫的寬度為(Ll/L2)*wl。
[0018]進一步的，所述X射線源1出光是兩個垂直方向上發散角不同的扇形光束，其中發散角較大的方向垂直于物料通道4方向。
[0019]進一步的，所述X射線源1在光源支撐架3上要具有一定的容差調節移動范圍。
[0020]進一步的，所述物料通道4的進口和出口還設有鉛簾懸掛，用以泄露保護。
[0021]光路限制狹縫盒2是由一定厚度的鋼部件通過緊固螺釘將其固定，X射線源1通過上方光源出射口下行，狹縫2.1外的射線會被遮擋，只有狹縫2.1位置的射線能夠通過，其余的都被鋼材料吸收，之后依次通過物料通道4上的射線通道4.1，最后到達線陣探測器5，這樣減少了不必要的下行的射線，而上方由于光源和光路限制的狹縫2.1緊貼，這樣上方的輻射泄露也大幅度的降低，便于輻射防護。這時就要求狹縫2.1、射線通道4.1和線陣探測器5—定要嚴格的對準，在一條直線上，否則可能會導致X射線被遮擋，甚至線陣探測器5無法接收到光。狹縫2.1將光路限制在剛好能夠覆蓋線陣探測器以及物料通道4的寬度上，使圖像采集范圍覆蓋整個物料通道4寬度。X射線源1發出的射線經過光路限制狹縫盒2將物料通道4方向上的光限制到很窄的范圍內，對物料通道的進出口的輻射防護難度大大降低，線陣探測器5下方由于存在多層的鋼板防護沒有問題。這樣本發明采用從X射線的源頭進行控制，巧妙地使用狹縫結構防止無關的射線造成的較大的輻射泄露，解決了以往的用鉛進行輻射防護中鉛的污染問題，同時，本發明的減少了整機的重量和制作成本，降低了工藝難度。
[0022]以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
【主權項】
1.一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其特征在于:其包括X射線源、光路限制狹縫盒、光源支撐架、物料通道、射線線陣探測器和整機機械架，所述X射線源、光路限制狹縫盒連接在光源支撐架上，所述X射線源設在光路限制狹縫盒上方，所述光路限制狹縫盒具有一定厚度且底部有一狹縫的鋼材料的腔室，所述狹縫的寬度方向與物料通道方向一致，所述物料通道在光路限制狹縫盒下方，且有與光路限制狹縫盒上狹縫方向一致的射線通道，所述射線線陣探測器設在射線通道正下方且固定在整機機械架上，使狹縫、射線通道和射線線陣探測器在一條直線上。2.根據權利要求1所述一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其特征在于:所述X射線源出光是兩個垂直方向上發散角不同的扇形光束，其中發散角較大的方向垂直于物料通道方向。3.根據權利要求1或2所述一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其特征在于:所述X射線源在光源支撐架上要具有一定的容差調節移動范圍。4.根據權利要求1所述一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，其特征在于:所述物料通道的進口和出口還設有鉛簾懸掛，用以泄露保護。
【專利摘要】本發明公開了一種X射線有效防輻射劑量泄露裝置，屬于X射線設備制造領域。其包括X射線源、光路限制狹縫盒、光源支撐架、物料通道、射線線陣探測器和整機機械架，所述光路限制狹縫盒是具有一定厚度并帶有狹縫結構的鋼材料的腔體；所述光源支撐架是用來支撐上方的光源的，所述射線探測器精確固定在物料通道下方鋼板的縫結構的中心位置下方。本發明采用從射線的源頭進行控制，使用狹縫結構防止無關的射線造成的較大的輻射泄露和防護難度，解決了以往的用鉛進行輻射防護中鉛的污染問題，同時減少了整機的重量和制作成本，降低了工藝難度。
【IPC分類】G01N23/00
【公開號】CN105372268
【申請號】CN201510845092
【發明人】葉孟候
【申請人】安徽宜桐機械有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年11月26日