一種輻射計光闌面積的高精度測量裝置制造方法
【專利摘要】本發明屬于光輻射計量領域中一種輻射計光闌面積的高精度測量裝置，是對有效面積法測量裝置的改進。本發明的測量裝置是由半導體激光器堆疊實現的照度均勻的光源系統，樣品支撐架，積分球，探測器等主要部分構成。本發明的積極效果是使測量過程簡單化，同時又減少了復雜的測量裝置中各個部分帶來的系統不確定度，間接的測量光闌的面積，測得的光闌面積為有效面積或輻射計量面積，并非光闌機械面積，這對光闌面積測量的實際應用有著很大的進步意義。本發明的測量裝置可以適用于多種需要精確測量光闌面積的系統，不僅僅局限于輻射計光闌面積的測量。
【專利說明】一種輻射計光闌面積的高精度測量裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及光輻射測量領域，具體涉及一種輻射計光闌面積的高精度測量裝置。【背景技術】
[0002]一些輻射學和光度學的測量是以高精度測量精密光闌面積為基礎的，面積的測量精度是限制輻射計和光度計測量精度的重要因素，因為孔徑光闌的大小限制了入射光幾何區域，決定了計算輻射照度時的入射面積以及輻射亮度的立體角，因此高精度測量孔徑光闌的面積有著至關重要的意義。
[0003]目前測量孔徑光闌面積的裝置有很多，比較常見的測量精度較高的一種是有效面積法的測量裝置，如圖1。有效面積法的測量過程為:首先調節HeNe激光器1，使其輸出穩定的高斯光束。光束經可變光闌2和光束分離器3后，50%能量反射50%能量透過，光束分離器3將一部分光束分到陷阱探測器4用來作為激光器的監視器，確保激光器輸出光束功率穩定。一部分透過光束打到被測孔徑光闌6表面。χ-y平移臺5帶動被測孔徑光闌6移動，等效生成照度穩定的光區域，積分球7和探測器8用來測量透過孔徑光闌6的輻射通量。
[0004]此測量裝置實際上用平移臺移動孔徑光闌6代替激光束疊加而得到恒定照度的光源分布。被測孔徑光闌6后面放有一個積分球探測器，用來測量輻射通量。被測光闌由x-y平移臺5帶動在X和y方向以恒定的步距Δχ，Ay在一個nx AxXny Ay測量范圍之內掃描。被測光闌在(j，k)位置時，探測器測得的功率值為
【權利要求】
1.一種輻射計光闌面積的高精度測量裝置，其特征在于，包括: 照度均勻的光源系統，其為孔徑光闌提供輻射通量； 設置在孔徑光闌后面的積分球探測器，用來測量輻射通量； 用來支撐孔徑光闌的支撐架。
2.根據權利要求1所述的輻射計光闌面積的高精度測量裝置，其特征在于，照度均勻的光源系統為半導體激光器堆疊光源。
【文檔編號】G01B11/28GK103591910SQ201310516880
【公開日】2014年2月19日 申請日期:2013年10月28日 優先權日:2013年10月28日
【發明者】方偉, 陳祥子, 楊振嶺 申請人:中國科學院長春光學精密機械與物理研究所