熱輻射屏蔽組件以及使用該熱輻射屏蔽組件的系統的制作方法
【專利摘要】本發明揭示一種磁共振成像系統，該磁共振成像系統包括至少一個梯度線圈，至少一個線圈支承件，熱輻射屏蔽組件以及至少一個連接件。該至少一個梯度線圈設置成用于在所接收的脈沖信號的作用下產生至少一個沿著某一方向的梯度磁場。該至少一個線圈支承件設置成用于支承至少一個線圈。該熱輻射屏蔽組件與該至少一個線圈支承件相鄰設置。該至少一個連接件用于通過將該熱輻射屏蔽組件的至少一部分與該線圈支承件進行機械連接，以增強該熱輻射屏蔽組件的機械剛度，以降低至少由于梯度線圈感應渦電流與磁場相作用所引起的機械振動。本發明還揭示一種熱輻射屏蔽組件。
【專利說明】熱輻射屏蔽組件以及使用該熱輻射屏蔽組件的系統
【技術領域】
[0001]本發明公開的實施方式涉及磁共振成像系統，特別涉及一種在該磁共振成像系統中使用的熱輻射屏蔽組件。
【背景技術】
[0002]至少一些已知的磁共振成像系統中使用熱福射屏蔽屏(thermal shield)組件，以阻止熱被從暖區(例如，被成像物體所放置的區域)輻射或者傳遞到冷區(例如，一個或者多個主磁體或者超導線圈所放置的區域)。然而，由于熱輻射屏蔽屏組件一般由金屬材料制成，例如，鋁材料制成，因此，當磁共振成像系統在進行實際的成像操作時，通過施加脈沖電流信號至梯度線圈組件，以使得梯度線圈組件可以產生疊加在由主磁體或者超導線圈產生的主磁場的梯度磁場的情況下，由于梯度磁場引發的變化電磁波會在熱屏上感應出渦電流。該感應的渦電流進一步與主磁場相互作用，從而使得該熱屏受到一定大小的洛倫茲力的作用，該洛倫茲力使得熱輻射屏蔽組件進行振動，或者使得熱輻射屏蔽組件處于一個或者多個共振模式。熱輻射屏蔽組件振動或者共振而導致的結果是主磁體或者超導線圈會接收到更多的熱。在磁共振成像時，為了維持主磁體或者超導線圈在低溫下工作，必須將多余的熱帶走，因此，帶走由熱輻射屏蔽組件振動或者共振引發的熱會導致過多的冷卻介質或者冷卻劑的熱蒸發。在一些運行狀況下，如果熱輻射屏蔽組件振動或者共振引發的熱沒有被及時帶走，可能會導致主磁體或者超導線圈失超(quench )。
[0003]因此，有必要對現有的磁共振系統進行改進，以在一定程度上降低熱屏的振動。
【發明內容】
[0004]有鑒于上文提及之技術問題，本發明的一個方面在于提供一種磁共振成像系統，該磁共振成像系統包括至少一個梯度線圈，至少一個線圈支承件，熱輻射屏蔽組件以及至少一個連接件。該至少一個梯度線圈設置成用于在所接收的脈沖信號的作用下產生至少一個沿著某一方向的梯度磁場。該至少一個線圈支承件設置成用于支承至少一個線圈。該熱輻射屏蔽組件與該至少一個線圈支承件相鄰設置。該至少一個連接件用于通過將該熱輻射屏蔽組件的至少一部分與該線圈支承件進行機械連接，以增強該熱輻射屏蔽組件的機械剛度，以降低至少由于梯度線圈感應渦電流與磁場相作用所引起的機械振動。
[0005]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，該至少一個線圈支承件包括主線圈支承件，該主線圈支承件與該內熱輻射屏蔽件相鄰設置。該至少一個連接件包括多個內連接件，該多個內連接件沿該內熱輻射屏蔽件的至少一個徑向方向將該內熱輻射屏蔽件與該主線圈支撐件機械連接在一起。
[0006]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括外熱輻射屏蔽件，該外熱輻射屏蔽件與該內熱輻射屏蔽件呈同心設置。該至少一個線圈支承件還包括屏蔽線圈支承件，該屏蔽線圈支承件與該主線圈支撐件沿徑向方向分離設置。該至少一個連接件還包括多個外連接件，該多個外連接件沿該外熱福射屏蔽件的至少一個徑向方向將該外熱福射屏蔽件與該屏蔽線圈支承件機械連接在一起。
[0007]在提供的磁共振成像系統中，該主線圈支承件通過至少一個支撐件與該屏蔽線圈支承件相連接。該至少一個連接件還包括多個軸向連接件，該多個軸向連接件與該至少一個支撐件以及法蘭件機械連接，該法蘭件連接該內熱輻射屏蔽件以及該外熱輻射屏蔽件。
[0008]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件還包括至少一個支撐件和至少一個加強件，該至少一個支撐件與該主線圈支承件以及該屏蔽線圈支承件連接，該至少一個加強件與該支撐件以及該主線圈支承件連接，以加強該支撐件。該至少一個連接件還包括多個軸向連接件，該多個軸向連接件與該至少一個加強件以及法蘭件機械連接，該法蘭件連接該內熱福射屏蔽件以及該外熱福射屏蔽件。
[0009]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，外熱輻射屏蔽件以及至少兩個法蘭件。該外熱輻射屏蔽件與該內熱輻射屏蔽件相隔一定的距離設置。該至少兩個法蘭件連接該內熱輻射屏蔽件以及該外熱輻射屏蔽件。
[0010]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括多個第一徑向連接件，該多個第一徑向連接件在第一軸向位置穿過主線圈支承件，該多個第一徑向連接件沿徑向方向將該內熱福射屏蔽件和該外熱福射屏蔽件連接在一起。
[0011]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括多個第二徑向連接件，該多個第二徑向連接件在第二軸向位置穿過該主線圈支承件，該多個第二徑向連接件沿徑向方向將該內熱福射屏蔽件和該外熱福射屏蔽件連接在一起。
[0012]在提供的磁共振成像系統中，該多個第二徑向連接件還在該第二軸向位置穿過由該主線圈支承件支撐的屏蔽線圈支承件，該多個第二徑向連接件連接該屏蔽線圈支承件。
[0013]在提供的磁共振成像系統中，該多個第一徑向連接件均勻分布在第一平面內，該多個第二徑向連接件均勻分布在第二平面內。該多個第一徑向連接件中的每一者與該多個第二徑向連接件對應的每一者之間形成非零的夾角。
[0014]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件包括多個第一軸向連接件，該多個第一軸向連接件在第一徑向位置連接在兩個法蘭件之間。
[0015]在提供的磁共振成像系統中，該熱輻射屏蔽組件還包括多個第二軸向連接件，該多個第二軸向連接件在第二徑向位置連接在該兩個法蘭件之間。
[0016]本發明的另一個方面在于提供一種熱輻射屏蔽組件，其應用于磁共振成像系統中。該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，外熱輻射屏蔽件以及至少一個連接件。該內熱輻射屏蔽件設置在相對該磁共振成像系統中的至少一個線圈支承件的第一位置。該外熱輻射屏蔽件設置在相對該至少一個線圈支承件的第二位置。該至少一個連接件由熱絕緣材料制成，該至少一個連接件或者在該內熱輻射屏蔽件和該至少一個線圈支承件之間建立機械連接，以增強該內熱輻射屏蔽件的剛度，或者在該外熱輻射屏蔽件和該至少一個線圈支承件之間建立機械連接，以增強該外熱輻射屏蔽件的剛度。
[0017]在提供的熱輻射屏蔽組件中，該至少一個連接件由碳石墨材料制成。
[0018]在提供的熱輻射屏蔽組件中，該至少一個連接件通過環氧樹脂材料與該至少一個線圈支承件固定連接。
[0019]在提供的熱輻射屏蔽組件中，該至少一個連接件通過鎖固件與該內熱輻射屏蔽件固設在一起或者與該外熱輻射屏蔽件固設在一起。
[0020]在提供的熱輻射屏蔽組件中，該至少一個連接件具有中空的管狀結構。
[0021]本發明的另一個方面在于提供一種磁共振成像系統，該磁共振成像系統包括第一種梯度線圈，第二種梯度線圈，主線圈支承件，熱輻射屏蔽組件以及多個剛度增強件。該第一種梯度線圈設置成在第一脈沖信號的作用下產生沿第一坐標軸方向的第一梯度磁場。該第二種梯度線圈設置成在第二脈沖信號的作用下產生沿第二坐標軸方向的第二梯度磁場。該主線圈支承件用于支承產生主磁場的主線圈，該主磁場與該第一梯度磁場垂直并且與該第二梯度磁場垂直。該熱輻射屏蔽組件與該主線圈支承件相鄰設置。該多個剛度增強件至少沿著第一軸向方向和第二軸向方向與該熱輻射屏蔽組件以及該主線圈支承件機械連接。其中，該多個剛度增強件的至少第一部分降低由該第一種梯度線圈和該熱輻射屏蔽組件之間的磁場相互作用而在該第一坐標軸方向產生的振動。該多個剛度增強件的至少第二部分降低由該第二種梯度線圈和該熱輻射屏蔽組件之間的磁場相互作用而在該第二坐標軸方向產生的振動。
[0022]在提供的磁共振成像系統中，該第一種梯度線圈為X軸梯度線圈，該第二種梯度線圈為Y軸梯度線圈。
[0023]本發明提供的熱輻射屏蔽組件以及使用該熱輻射屏蔽組件的磁共振成像系統所能帶來的技術優點或者有益效果是:至少通過剛度增強元件增強熱輻射屏蔽組件的機械剛度，可以降低由于梯度線圈感應渦電流引發的機械振動，從而，可以避免冷卻劑的過度熱蒸發問題，并且可以避免潛在的超導線圈的失超問題。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0024]通過結合附圖對于本發明的實施方式進行描述，可以更好地理解本發明，在附圖中:
[0025]圖1所示為本發明提供的成像系統的一種實施方式的概括模塊示意圖；
[0026]圖2所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他兀件的一種實施方式的軸向截面不意圖；
[0027]圖3所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0028]圖4所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0029]圖5所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0030]圖6所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0031]圖7所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0032]圖8所示為圖7所示的多個第一組連接件的一種實施方式的徑向截面示意圖；
[0033]圖9所示為圖7所示的多個第二組連接件的一種實施方式的徑向截面示意圖；
[0034]圖10所示為可以在圖7所示的熱輻射屏蔽組件中使用的連接件的一種實施方式的立體示意圖；
[0035]圖11所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0036]圖12所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；
[0037]圖13所示為圖1所示的成像系統中的熱輻射屏蔽組件的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖；以及
[0038]圖14所示為一種傳統的熱輻射屏蔽組件和本發明提供的一種熱輻射屏蔽組件所產生的與頻率相關的焦耳熱功率曲線示意圖。
【具體實施方式】
[0039]本發明揭露的實施方式主要涉及改進的成像系統，特別為磁共振成像系統，該磁共振成像系統通過對其熱輻射屏蔽組件進行新的配置，從而可以有助于降低機械振動。更具體而言，在本發明揭示的一個或者多個實施方式中，通過剛度增強手段來增強熱輻射屏蔽組件，從而可以提高該熱輻射屏蔽組件的機械剛度。在一些實施方式中，通過特定的方式配置該剛度增強手段可以有效地打破該熱輻射屏蔽組件的一個或者多個共振模式，其中，該一個或者多個共振模式主要由梯度線圈感應渦電流和主磁場之間的相互作用而產生。在一些實施方式中，多個連接件(或者也可以稱作支柱剛度增強手段)被用來將熱輻射屏蔽組件和至少一個線圈支承件機械連接在一起，以此來增加該熱輻射屏蔽組件的機械剛度。
[0040]執行本發明提供的通過剛度增強手段來增加熱輻射屏蔽組件的機械剛度的技術解決方案所能夠帶來的技術優點或者有益效果至少有三個:其一，由梯度線圈感應渦電流引起的熱輻射屏蔽組件機械振動可以被有效地降低；其二，由于熱輻射屏蔽組件機械振動被有效地降低，用于磁共振成像系統低溫冷卻的冷卻介質(例如，液氦等)可以避免遭受到過度的熱蒸發；其三，至少由熱輻射屏蔽組件機械振動引發的潛在的超導線圈失超問題可以被避免。
[0041]以下將描述本發明的多個【具體實施方式】。首先要指出的是，在這些實施方式的具體描述過程中，為了進行簡明扼要的描述，本說明書不可能對實際的實施方式的所有特征均作詳盡的描述。應當可以理解的是，在任意一種實施方式的實際實施過程中，正如在任意一個工程項目或者設計項目的過程中，為了實現開發者的具體目標，或者為了滿足系統相關的或者商業相關的限制，常常會做出各種各樣的具體決策，而這也會從一種實施方式到另一種實施方式之間發生改變。此外，還可以理解的是，雖然這種開發過程中所作出的努力可能是復雜并且冗長的，然而對于與本發明公開的內容相關的本領域的普通技術人員而言，在本公開揭露的技術內容的基礎上進行的一些設計，制造或者生產等變更只是常規的技術手段，不應當理解為本公開的內容不充分。
[0042]除非另作定義，在本說明書和權利要求書中使用的技術術語或者科學術語應當解釋成本發明所屬【技術領域】內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本說明書以及權利要求書中使用的“第一”或者“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。“一個”或者“一”等類似詞語并不表示數量限制，而只是表示存在至少一個。“或者”包括所列舉的項目中的任意一者或者全部。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵蓋出現在“包括”或者“包含”后面列舉的元件或者物件及其等同元件，并不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。此外，“電路”或者“電路系統”以及“控制器”等可以包括單一組件或者由多個主動元件或者被動元件直接或者間接相連的集合，例如一個或者多個集成電路芯片，以提供所對應描述的功能。
[0043]接下來請參閱附圖，首先請參閱圖1，其所示為本發明提供的成像系統10的一種實施方式的概括模塊示意圖。該成像系統10可以具體實施為磁共振成像系統，以用于通過非介入方式獲得人體組織內部的解剖影像。在其他實施方式中，該成像系統10也可以被用來對非人體組織進行成像，或者也可以被用于其他的光譜分析領域。
[0044]在圖示的實施方式中，該成像系統10包括主磁體組件12，該主磁體組件12包括主磁體14。在一些實施方式中，該主磁體14可以為超導磁體，該超導磁體通過支承在超導線圈支承結構或者支承件的超導線圈形成。在其他實施方式中，該主磁體14也可以為永磁體。該主磁體組件12可以包括低溫冷卻容器18，該低溫冷卻容器18環繞該主磁體14設置。該低溫冷卻容器18通常填充有低溫冷卻介質，例如液氦或者液氮，以用于將超導線圈冷卻到極低的工作溫度，從而即便在外界電源斷開之后，該超導線圈之中仍然有電流流動，以維持均勻恒定的主磁場。
[0045]在圖1所示的實施方式中，該主磁體組件12可以包括熱輻射屏蔽組件16，該熱輻射屏蔽組件16環繞該低溫冷卻容器18以及該主磁體14設置。在一種實施方式中，該熱輻射屏蔽組件16可以包括內熱輻射屏蔽組件162和外熱輻射屏蔽組件164。該內熱輻射屏蔽組件162呈中空的圓柱形，并且沿徑向放置在主磁體14的內部區域，該內熱輻射屏蔽組件162被設置成用來阻止熱量從暖區輻射或者傳遞到冷區，在此所謂的“暖區”通常是待成像對象例如人體所放置的區域，在此所謂的“冷區”通常是主磁體所放置的區域。在一種實施方式中，該外熱輻射屏蔽組件164也基本呈中空的圓柱形，并且其相對該內熱輻射屏蔽組件162呈同心設置。該外熱輻射屏蔽組件164沿徑向方向被設置在該主磁體14的外部區域，以用于阻止熱量從外部環境輻射或者傳遞進該主磁體14。
[0046]在一些實施方式中，該熱輻射屏蔽組件16由金屬材料制成，例如，由鋁材料制成，該鋁材料在外加變化電磁場的作用下會在熱輻射屏蔽組件16上或者其中產生渦電流，該渦電流又可以進一步產生渦電流磁場，例如，在主磁場區域內產生非期望的渦電流磁場。在一種實施方式中，該變化電磁場的一種為由一個或者多個梯度線圈在脈沖電流作用下所產生的變化電磁場。
[0047]在一些實施方式中，該主磁體組件12可以包括真空容器19，該真空容器19環繞該熱輻射屏蔽組件16設置，并且該真空容器19可以在具體運作時使得主磁體14與外界環境隔絕。
[0048]在圖1所示的實施方式中，該成像系統10包括梯度線圈組件22，該梯度線圈組件22放置在由該內熱輻射屏蔽件162所定義的內部空間。該梯度線圈組件22被配置成選擇性地在一個或者多個軸向上施加一個或者多個梯度磁場，以進行空間編碼。在一些實施方式中，該梯度線圈組件22可以具有梯度線圈屏蔽結構或者非屏蔽結構。在此所謂的“梯度線圈屏蔽結構”是指提供一個或者多個屏蔽梯度線圈來產生抵消由正常梯度線圈所產生的邊緣或者泄露磁場。該梯度線圈組件22可以包括X軸梯度線圈，其被配置成在第一脈沖電流信號的作用下在X軸方向上提供X軸梯度磁場。該梯度線圈組件22還可以包括Y軸梯度線圈，其被配置成在第二脈沖電流信號的作用下在Y軸方向上提供Y軸梯度磁場。該梯度線圈組件22還可以包括Z軸梯度線圈，其被配置成在第三脈沖電流信號的作用下在Z軸方向上提供Z軸梯度磁場。該梯度線圈組件22所施加的至少一個梯度磁場可以使得由人體激勵產生的射頻回波信號的具體空間物理位置能夠被識別出來，以方便成像。
[0049]在圖1所示的實施方式中，該成像系統10可以包括控制器30，主磁場控制電路32，梯度磁場控制電路34，存儲裝置36，顯示裝置38，發射接收轉換開關40，射頻發射電路42以及接收電路44等。
[0050]在正常運作時，待檢查的目標或者物體，例如病人(圖未示出)，或者待成像的仿體(phantom)等，可以被放置在合適的支撐結構上(例如，電機驅動的平臺或者其他合適的病床等)，并被放置在孔狀成像區域46內。該主磁體14沿著該孔狀成像區域46產生均勻穩定的主磁場該孔狀成像區域46內以及相對應地該病人所處空間內的主磁場Bci,由主磁場控制電路32進行控制，該主磁場控制電路32控制提供給主磁體14的電流，該主磁場控制電路32受控制器30控制。該梯度線圈組件120被梯度磁場控制電路34電激勵，并且該梯度磁場控制電路34也受控制器30控制，因此可以在相互垂直的X，Y，Z任意一個方向上，在孔狀成像區域46內的主磁場Btl施加對應的梯度磁場。
[0051]該射頻發射線圈24可以包括多個線圈，例如，表面共振線圈，其被設置成發射脈沖激勵信號，或者還可選地被設置成檢測來自于病人的磁共振回波信號，在其他實施方式中，還可以由單獨設置的接收線圈檢測來自于病人的磁共振回波信號。該射頻發射線圈24以及表面接收線圈(如果存在的話)，可以選擇性的通過控制該發射接收轉換開關40以與該射頻發射電路42或者該接收電路44相連接。該射頻發射電路42以及該發射接收轉換開關40受控制器30的控制，以此可以通過該射頻發射電路42產生射頻脈沖信號，并選擇性地作用到病人的內部組織，以激勵病人體內組織中的原子發生磁共振。
[0052]病人體內組織中的原子在經過射頻脈沖信號的作用后發生磁共振，然后，可以通過控制器30觸發發射接收開關40，以將該射頻發射電路42與射頻發射線圈24斷開，以檢測病人體內組織中的原子經激勵而發射的磁共振回波信號。該檢測到的磁共振回波信號被接收電路44接收，并被傳送給控制器30，該控制器30然后對該接收到的磁共振回波信號進行處理，并以一定的格式存儲在存儲裝置36中。該控制器30可以包括一個或者多個處理器48，該一個或者多個處理器48控制該磁共振回波信號的處理，以產生代表病人內部組織圖像的信號。該處理的代表病人內部組織圖像的信號被傳送給顯示裝置48，以提供圖像的視覺顯示。
[0053]請參閱圖2，圖2所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件200的至少一部分和成像系統10中其他元件的一種實施方式的軸向截面示意圖。該熱輻射屏蔽組件200包括內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204，該內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204通過一個或者多個法蘭件206相連接。在圖示的實施方式中，雖然僅僅示出了一個呈曲面狀的法蘭件206，其被設置在該內、外熱輻射屏蔽件202、204的一端部(也即圖2所示的左端部)，可以理解的是，該內、外熱輻射屏蔽件202、204的另一端部(也即圖2所示的右端部)，也可以對稱設置有曲面狀的法蘭件206，以將該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204連接在一起。該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204在徑向方向上分離設置，從而可以形成一個容納諸多元件的收容空間。為了方便描述本發明，在圖2所示的實施方式中，包括主線圈支承件212，多個主線圈214、216、218，屏蔽線圈支承件222，屏蔽線圈224以及支撐件226在內的幾種元件被容納在由內、外熱輻射屏件202、204所形成的收容空間內。在其他實施方式中，其他元件，例如與冷卻系統相關的元件也可以被放置在該收容空間內。
[0054]請進一步參閱圖2，在一種實施方式中，一個或者多個連接件228被提供用來將內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204機械連接在一起。該一個或者多個連接件228可以由較高剛度或者硬度的材料制成，因此，通過該高剛度或者硬度特性的連接件228將內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204連接在一起，可以增加或者增強該熱輻射屏蔽組件200的機械剛度。另外，該一個或者多個連接件228也可以由較高隔熱性能的材料制成，以避免在主線圈和熱屏蔽組件200之間產生不必要的熱傳導或者熱傳遞。在圖2所示的實施方式中，該一個或者多個連接件228大致被設置成桿狀，并且其從該內熱輻射屏蔽件202的外側延伸至該外熱輻射屏蔽件204的內側。這樣的連接方式可以在徑向方向234上增加該熱輻射屏蔽組件200的機械剛度。關于該一個或者多個連接件228將該內、外熱輻射屏蔽件202、204機械連接在一起的具體位置則可以根據一些參數加以確定，這樣的參數包括但不限于主線圈和梯度線圈的設計參數，熱輻射屏蔽組件200的尺寸參數等。在圖2所示的實施方式中，該一個或者多個連接件208被設置在有具有較大尺寸的第一主線圈214和具有中等尺寸的第二主線圈216所形成的區域內。另外，在一些實施方式中，也可以在沿著軸向方向232的同一位置提供多個連接件228，并且將該多個連接件228均勻或者非均勻分布在同一平面內。
[0055]請進一步參閱圖2，在一些實施方式中，該一個或者多個連接件228也可以被設置成穿過該主線圈支承件212，該主線圈支承件212被設置為給多個主線圈214、216、218等提供支承。在圖2所示的實施方式中，單體式的主線圈支承件212被設置成與該內熱輻射屏蔽件202相鄰，以支承具有不同尺寸的主線圈214、216、218等。該單體主線圈支承件212可以開設一個或者多個通孔，以使得該一個或者多個連接件228可以穿過該一個或者多個通孔，從而使得該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204可以機械連接在一起。在一些實施方式中，粘接材料(例如，環氧樹脂等)和/或任何其他合適的鎖固元件(例如，螺母元件等)可以被用來將該一個或者多個連接件228與主線圈支承件212固定連接在一起。因此，通過使該連接件228進一步與該主線圈支承件212形成機械連接可以進一步增加或者增強該熱輻射屏蔽組件200的機械剛度。在其他實施方式中，該主線圈支承件212也可以被設置成多段式結構，并且每一段主線圈支承件可以用來繞設對應的主線圈。在多段式主線圈支承件結構的實施方式中，該一個或者多個連接件228可以被設置成與至少一段主線圈支承件進行機械連接，以增加或者增強該熱輻射屏蔽組件200的機械剛度。
[0056]請進一步參閱圖2，在圖2所示的實施方式中，該一個或者多個連接件228被設置成與該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204相垂直。在其他實施方式中，該一個或者多個連接件228也可以被設置成與該內熱輻射屏蔽件202或者與該外熱輻射屏蔽件204不垂直。關于該非垂直方式設置的多個連接件228可以如圖3所示。
[0057]接下來請參閱圖3，其所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件210的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖3所示的熱輻射屏蔽組件210的結構基本上與圖2所示的熱輻射屏蔽組件200的結構相類似，因此，與圖2中的相關元件相同的元件，在圖3中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。在圖3所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件210包括多個連接件236，該多個連接件236機械連接于該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204之間。更具體而言，該多個連接件236中的每一者的一端與該內熱輻射屏蔽件202固定連接，而其另一端則與該外熱輻射屏蔽件204固定連接。進一步，在圖示的實施方式中，該多個連接件236被設置成使得每一個連接件236與內熱輻射屏蔽件202之間形成一個夾角，該夾角的具體數值可以根據需要在O度和90度之間設置。
[0058]在一些實施方式中，該多個非垂直方式設置的連接件236還可以進一步被設置成穿過該主線圈支承件212，并且與該主線圈支承件212進行機械連接，以進一步增加或者增強該熱輻射屏蔽組件210的機械剛度。在進行實際的運作時，由于該多個連接件236相對該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204而言呈非垂直方式設置，因此，該熱輻射屏蔽組件210沿徑向方向234和沿軸向方向232產生的機械振動均可以在一定程度上被減輕，并且，該減輕的機械振動進一步會導致較少的熱量被產生，因此，可以避免冷卻介質(例如，液氦等)被過度地熱蒸發。
[0059]圖4所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件220的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖4所示的熱輻射屏蔽組件220的結構基本上與圖2所示的熱輻射屏蔽組件200的結構相類似，因此，與圖2中的相關元件相同的元件，在圖4中以相同的標號進行標示,并且,該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0060]在圖4所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件220包括第一組連接件228和第二組連接件238。雖然圖4僅示出了兩組連接件，在其他實施方式中，該熱輻射屏蔽組件220也可以包括多于兩組的連接件。該第一組連接件228被設置在沿著軸向方向232的第一位置處。在圖4所示的實施方式中，該第一位置位于在較大尺寸的第一主線圈214和中等尺寸的第二主線圈216之間形成的區域。該多個第一組連接件228可以在與該軸向方向232垂直的第一徑向平面內均勻分布或者非均勻分布。該多個第一組連接件228的每一者與該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204機械連接。與上文結合圖2和圖3所描述的實施方式相類似，該多個第一組連接件228可以被設置成與內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204相垂直或者不垂直。在一些實施方式中，該多個第一組連接件228可以進一步被設置成與主線圈支承件212進行機械連接，以增強或者增加該熱輻射屏蔽組件220的機械剛度，從而，由梯度線圈感應渦電流引起的一個或者多個共振模式可以被破壞或者尤其引起的機械振動被降低。
[0061]請進一步參閱圖4，該第二組連接件238被設置在沿著軸向方向232的第二位置處。在圖示的實施方式中，該第二位置位于由中等尺寸的第二主線圈216和較小尺寸的第三主線圈218之間形成的區域。該多個第二組連接件238可以在與該軸向方向232垂直的第二徑向平面內均勻分布或者非均勻分布。該多個第二組連接件238的每一者與該內熱輻射屏蔽件202和該外熱輻射屏蔽件204機械連接。與上文結合圖2和圖3所描述的實施方式相類似，該多個第二組連接件238可以被設置成與內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204相垂直或者不垂直。在一些實施方式中，該多個第二組連接件238可以進一步被設置成與主線圈支承件212進行機械連接，以增強或者增加該熱輻射屏蔽組件220的機械剛度。此外，在一些實施方式中，該多個第二組連接件238還可以進一步被設置成與屏蔽線圈支承件222進行機械連接，以進一步增加或者增強該熱輻射屏蔽組件220的機械剛度。
[0062]圖5所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件230的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖5所示的熱輻射屏蔽組件230的結構基本上與圖2所示的熱輻射屏蔽組件200的結構相類似，因此，與圖2中的相關元件相同的元件，在圖5中以相同的標號進行標示,并且,該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0063]在圖5所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件230包括多個徑向連接件228和多個軸向連接件242。該多個徑向連接件228被設置成沿著徑向方向234與內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204機械連接，以降低該熱輻射屏蔽組件230在徑向方向234所產生的機械振動。該多個軸向連接件242機械連接在安排在兩個法蘭件206之間，其中，該兩個法蘭件206被設置在該熱輻射屏蔽組件230兩個端部，以用于將內熱輻射屏蔽件202和外熱輻射屏蔽件204連接在一起。通過在軸向方向232設置多個軸向連接件242來增強該熱輻射屏蔽組件230的機械剛度，可以進一步降低該熱輻射屏蔽組件203在軸向方向的機械振動。
[0064]在一些實施方式中，如圖5所示，該多個軸向連接件242還可以被設置成與支撐件226機械連接，該支撐件226用于將主線圈支承件212和屏蔽線圈支承件222連接在一起。通過使得該多個軸向連接件242進一步與該支撐件226形成固定的機械連接，可以進一步增加該熱輻射屏蔽組件230沿著軸向方向232的機械剛度，因此，可以使得該熱輻射屏蔽組件230沿著軸向方向232的機械振動被進一步降低。
[0065]圖6所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件240的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖6所示的熱輻射屏蔽組件240的結構基本上與圖2所示的熱輻射屏蔽組件200的結構相類似，因此，與圖2中的相關元件相同的元件，在圖6中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0066]在圖6所示的實施方式中，除了至少一組徑向連接件228之外，該熱輻射屏蔽組件240包括第一組軸向連接件242和第二組軸向連接件244。該第一組軸向連接件242被設置在沿著徑向方向234的第一位置處，并且，該第一位置靠近該外熱輻射屏蔽件204設置。該第二組軸向連接件244被設置在沿著徑向方向234的第二位置處，并且，該第二位置靠近該內熱輻射屏蔽件202設置。該多個第一組軸向連接件242的每一者通過鎖固件(例如，螺母元件)與兩個法蘭件206固定連接。類似地，該多個第二組連接件244的每一者也通過鎖固件(例如，螺母元件)與兩個法蘭件206固定連接。通過使用該第一組連接件242和該第二組連接件244與該兩個法蘭件206建立固定的機械連接，可以進一步增加或者增強該熱輻射屏蔽組件240沿著軸向方向232的機械剛度。因此，該熱輻射屏蔽組件240沿著軸向方向232的一個或者多個振動模式可以被破壞，或者該熱輻射屏蔽組件240沿著軸向方向232的機械振動被降低。
[0067]圖7所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件250的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖7所示的熱輻射屏蔽組件250的結構基本上與圖2所示的熱輻射屏蔽組件200的結構相類似，因此，與圖2中的相關元件相同的元件，在圖7中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0068]在圖7所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件250可以包括第一組連接件(連接件也可以被稱作支柱)252和第二組連接件254。雖然圖7僅示出了兩組連接件252，254，在其他實施方式中，該熱輻射屏蔽組件250可以包括多于兩組連接件。該第一組連接件252被設置在該內熱輻射屏蔽件202和該主線圈支承件212之間。更具體而言，該多個第一組連接件252的每一者的一端與該內熱輻射屏蔽件202機械連接，而其相對的一端與該主線圈支承件212機械連接。在一種特定的實施方式中，粘接材料，例如環氧樹脂等，可以被用來將第一組連接件252的一端與該主線圈支承件212固定連接；而該第一組連接件252每一者的另一端則通過鎖固件，例如螺母元件等，與該內熱輻射屏蔽件202固定連接。并且，與上文結合圖2和圖3所作的描述相類似，該第一組連接件252可以被設置成與該內熱輻射屏蔽件202相垂直。在其他實施方式中，該第一組連接件252的每一者也可以被設置成與該內熱輻射屏蔽件202不垂直。
[0069]請進一步參閱圖7，該多個第一組連接件252被設置在沿著軸向方向232的第一位置處，并且，該第一位置位于由第一主線圈214和第二主線圈216之間形成的區域。在一些實施方式中，該第一位置被特別地選擇，以使得由梯度線圈感應渦電流引起的熱輻射屏蔽組件250的一個或者多個振動模式被破壞，或者使得所產生的振動被有效地降低。該多個第一組連接件252的具體分布方式可以更好地如圖8所示，其中，圖8所示為圖7所示的多個第一組連接件252的一種實施方式的徑向截面示意圖。
[0070]如圖8所示，該第一組連接件252包括第一連接件312，第二連接件314，第三連接件316以及第四連接件318。該第一、第二、第三、第四連接件312、314、316、318與內熱輻射屏蔽件202和主線圈支承件212機械連接。在圖示的實施方式中，該四個連接件312、314、316,318沿圓周方向均勻分布，或者，彼此相隔90度。通過這種設置方式，由梯度線圈感應渦電流所引起的至少四個振動模式可以被破壞。在一些特定的實施方式中，該第一連接件312和該第三連接件316可以被特別設置成破壞由X軸梯度線圈感應渦電流所引起的振動模式，或者減輕其引起的機械振動。該第二連接件314和該第四連接件318可以被特別設置成破壞由Y軸梯度線圈感應渦電流所引起的振動模式，或者減輕其引起的機械振動。此外，在其他實施方式中，該四個或者更多個連接件312、314、316、318也可以沿著圓周方向非均勻分布。
[0071]接著，請返回參閱圖7，該第二組連接件254也機械連接在該內熱輻射屏蔽件202和該主線圈支承件212之間。該第二組連接件254被設置在沿著軸向方向232的第二位置處，該第二位置位于由中等尺寸的第二主線圈216和較小尺寸的第三主線圈218之間定義的區域。在一些實施方式中，該第二位置也可以被特定的選擇，使得由梯度線圈感應渦電流所引起的一個或者多個振動模式被破壞。關于該第二組連接件254的具體配置可以更好地如圖9所示，其中，圖9所示為圖7所示的多個第二組連接件254的一種實施方式的徑向截面示意圖。
[0072]如圖9所示，該第二組連接件254包括第一連接件322，第二連接件324，第三連接件326以及第四連接件328。該第一、第二、第三、第四連接件322、324、326、328與內熱輻射屏蔽件202和主線圈支承件212機械連接。在一些實施方式中，粘接材料，例如，環氧樹脂等，可以被用來將該第一、第二、第三、第四連接件322、324、326、328的一端與主線圈支承件212固定連接，并且，該該第一、第二、第三、第四連接件322、324、326、328的另一端可以通過鎖固件，例如，螺母元件等，與該內熱輻射屏蔽件202固定連接。在圖9所示的實施方式中，該四個連接件322、324、326、328沿圓周方向均勻分布，或者，彼此相隔90度。更具體而言，該第一、第二、第三、第四連接件322、324、326、328中的每一者與該第一組連接件322中的第一、第二、第三、第四連接件312、314、316、318中的每一者之間，對應形成預設的角度。在一種特定的實施方式中，對應的兩個連接件318和328之間形成的預設角度為22.5度。類似地，對應的兩個連接件312和322 ；314和324 ；316和326之間形成的角度也為22.5度。然而，在此所述的具體角度值不應當在解釋本發明的權利要求時對其保護范圍構成限制，實際上，對應的連接件之間可以形成任意的角度。在其他實施方式中，該第一、第二、第三、第四連接件322、324、326、328也可以沿著圓周方向非均勻分布。
[0073]圖10所示為可以在圖7中所示的熱輻射屏蔽組件250使用的連接件340的一種實施方式的立體示意圖。如圖10所示，該連接件340被構建成具有中空的圓柱形結構或者管狀結構。該連接件340可以由具有較高剛度的材料制成，以給該熱輻射屏蔽組件250提供足夠的機械剛度，并且該連接件340所使用的材料也可以具有較佳的阻熱特性，以降低熱載(heat load)。關于可以用來制成該連接件340的材料的具體示例可以包括石墨碳。該連接件340可以包括內直徑為Cl1的內圓柱面344以及外直徑為d2的外圓柱面342，并且該連接件340的長度為L。在特定的實施方式中，關于該連接件340的內直徑Cl1，外直徑d2和長度L的具體數值可以根據實際的系統設計進行優化。
[0074]圖11所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件260的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖11所示的熱輻射屏蔽組件260的基本結構基本上與圖7所示的熱輻射屏蔽組件250的基本結構相類似，因此，與圖7中的相關元件相同的元件，在圖11中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0075]與上文結合圖7所作之詳細描述相類似，在圖11所示的實施方式中，通過提供第一組內連接件252和第二組內連接件254，在內熱輻射屏蔽件202和主線圈支承件212之間建立固定的機械連接，以增強該內熱輻射屏蔽件202的機械剛度。另外，在圖11所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件260還包括一組外連接件256。雖然圖11僅僅示出了一組外連接件256，在其他實施方式中，該熱輻射屏蔽組件260還可以包括多于一組的外連接件，并且該多于一組的外連接件可以沿著軸向方向232分離設置。在圖11所示的實施方式中，該一組外連接件256被設置成位于該外熱輻射屏蔽件204和該屏蔽線圈支承件222之間。與第一組內連接件252和第二組內連接件254的分布方式相類似，該一組外連接件256可以在同一徑向平面內均勻分布或者非均勻分布。進一步，該一組外連接件256的每一者均被設置成與該外熱輻射屏蔽件204和該屏蔽線圈支承件222進行機械連接，以增強該熱輻射屏蔽組件260的機械剛度。特別地，在一種實施方式中，粘接材料，例如，環氧樹脂等，可以被用來將該一組外連接件256的每一者的一端與該屏蔽線圈支承件222固定連接在一起；并且，該一組外連接件256的每一者的另一端通過鎖固元件，例如，螺母元件等，與該外熱輻射屏蔽件204固定連接在一起。通過使得該一組外連接件256在屏蔽線圈支承件222和外熱福射屏蔽件204之間建立固定的機械連接,可以進一步破壞由梯度線圈感應潤電流所引起的一個或者多個振動模式，或者減輕由梯度線圈感應渦電流所引起的機械振動。因此，在成像系統10進行實際運作時，冷卻劑的過度熱蒸發問題可以被避免。
[0076]圖12所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件270的至少一部分和成像系統10中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖12所示的熱輻射屏蔽組件270的結構基本上與圖11所示的熱輻射屏蔽組件260的結構相類似，因此，與圖11中的相關元件相同的元件，在圖12中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0077]在圖12所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件270可以進一步包括多個軸向連接件262。該多個軸向連接件262可以被設置在法蘭件206和支撐件226之間。更具體而言，該每一個軸向連接件262的一端可以通過一個或者多個鎖固件，例如，螺母元件，與法蘭件206固定連接在一起，該每一個軸向連接件262的另一端可以通過粘接材料，例如，環氧樹脂等，與支撐件226固定連接在一起。通過該多個軸向連接件262在該法蘭件206和該支撐件226之間建立固定的機械連接，可以進一步增加該熱輻射屏蔽組件270的機械剛度。因此，由梯度線圈感應渦電流引起的一個或者多個振動模式可以被破壞，或者所引起的機械振動被降低。進而，在該成像系統10進行實際運作時，冷卻劑的過度熱蒸發問題可以被避免。
[0078]圖13所示為圖1所示的成像系統10中的熱輻射屏蔽組件280的至少一部分和成像系統中其他元件的另一種實施方式的軸向截面示意圖。圖13所示的熱輻射屏蔽組件280的基本結構基本上與圖11所示的熱輻射屏蔽組件260的基本結構相類似，因此，與圖11中的相關元件相同的元件，在圖13中以相同的標號進行標示，并且，該等元件的詳細細節將不再作描述。
[0079]在圖13所示的實施方式中，該熱輻射屏蔽組件280可以包括多個離散的加強件264，該多個加強件264可以與該支撐件226以及該主線圈支承件212連接，以加強該支撐件226。在一些實施方式中，該多個加強件264可以與該支撐件226 —體形成,或者該多個加強件264與該主線圈支承件212 —體形成。該熱輻射屏蔽組件280可以進一步包括一個或者多個軸向連接件262，并且，該一個或者多個軸向連接件262設置在法蘭件206和加強件之間264。更具體而言，在一些實施方式中，該多個軸向連接件262的一端通過一個或者多個鎖固件，例如，螺母元件，與該法蘭件206固定連接在一起；該多個軸向連接件262的另一端可以通過粘接材料，例如，環氧樹脂等，與該加強件264連接在一起。通過使用該多個軸向連接件262在該法蘭件206和該加強件264之間形成固定的機械連接，可以進一步增加或者增強該熱輻射屏蔽組件280的機械剛度。因此，由梯度線圈感應渦電流所引起的該熱輻射屏蔽組件280的一個或者多個振動模式可以被破壞，或者由其引起的機械振動被降低。從而，在該成像系統10進行實際運行時，冷卻劑的過度熱蒸發問題可以被避免。
[0080]圖14所示為一種傳統的熱輻射屏蔽組件和本發明提供的一種熱輻射屏蔽組件所產生的與頻率相關的焦耳熱功率曲線示意圖。如圖14所示，第一曲線412代表一種傳統的熱輻射屏蔽組件結構所產生的隨頻率而變化的焦耳熱功率曲線示意圖，該傳統的熱輻射屏蔽組件不具有如本發明所提出的機械剛度加強結構，因此，在頻率600赫茲附近，該傳統的熱輻射屏蔽組件產生相對較大的焦耳熱功率，大約為0.5W。第二曲線414代表一種本發明提供的熱輻射屏蔽組件結構所產生的隨頻率而變化的焦耳熱功率曲線示意圖。從該第二曲線414可以看出，在頻率750赫茲附近，本發明的熱輻射屏蔽組件產生相對較大的焦耳熱功率，僅僅大約為0.1ff,顯著小于傳統的熱輻射屏蔽組件所產生的焦耳熱功率。至少從這一點來看，通過使用機械剛度增強手段增強該熱輻射屏蔽組件的機械剛度，可以降低由梯度線圈感應渦電流所引起的機械振動。因此，在進行磁共振成像時，冷卻劑的過度熱蒸發問題以及潛在的超導線圈失超問題均可以被有效地避免。
[0081]雖然結合特定的實施方式對本發明進行了說明，但本領域的技術人員可以理解，對本發明可以作出許多修改和變型。因此，要認識到，權利要求書的意圖在于涵蓋在本發明真正構思和范圍內的所有這些修改和變型。
【權利要求】
1.一種磁共振成像系統，其特征在于:該磁共振成像系統包括至少一個梯度線圈，至少一個線圈支承件，熱輻射屏蔽組件以及至少一個連接件；該至少一個梯度線圈設置成用于在所接收的脈沖信號的作用下產生至少一個沿著某一方向的梯度磁場；該至少一個線圈支承件設置成用于支承至少一個線圈；該熱輻射屏蔽組件與該至少一個線圈支承件相鄰設置；該至少一個連接件用于通過將該熱輻射屏蔽組件的至少一部分與該線圈支承件進行機械連接，以增強該熱輻射屏蔽組件的機械剛度，以降低至少由于梯度線圈感應渦電流與磁場相作用所引起的機械振動。
2.如權利要求1所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，該至少一個線圈支承件包括主線圈支承件，該主線圈支承件與該內熱輻射屏蔽件相鄰設置；該至少一個連接件包括多個內連接件，該多個內連接件沿該內熱輻射屏蔽件的至少一個徑向方向將該內熱福射屏蔽件與該主線圈支撐件機械連接在一起。
3.如權利要求2所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括外熱輻射屏蔽件，該外熱輻射屏蔽件與該內熱輻射屏蔽件呈同心設置；該至少一個線圈支承件還包括屏蔽線圈支承件，該屏蔽線圈支承件與該主線圈支撐件沿徑向方向分離設置；該至少一個連接件還包括多個外連接件，該多個外連接件沿該外熱輻射屏蔽件的至少一個徑向方向將該外熱福射屏蔽件與該屏蔽線圈支承件機械連接在一起。
4.如權利要求3所述的磁共振成像系統，其特征在于:該主線圈支承件通過至少一個支撐件與該屏蔽線圈支承件相連接；該至少一個連接件還包括多個軸向連接件，該多個軸向連接件與該至少一個支撐件以及法蘭件機械連接，該法蘭件連接該內熱輻射屏蔽件以及該外熱福射屏蔽件。
5.如權利要求3所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件還包括至少一個支撐件和至少一個加強件，該至少一個支撐件與該主線圈支承件以及該屏蔽線圈支承件連接，該至少一個加強件與該支撐件以及該主線圈支承件連接，以加強該支撐件；該至少一個連接件還包括多個軸向連接件，該多個軸向連接件與該至少一個加強件以及法蘭件機械連接，該法蘭件連接該內熱福射屏蔽件以及該外熱福射屏蔽件。
6.如權利要求1所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，外熱輻射屏蔽件以及至少兩個法蘭件；該外熱輻射屏蔽件與該內熱輻射屏蔽件相隔一定的距離設置；該至少兩個法蘭件連接該內熱輻射屏蔽件以及該外熱輻射屏蔽件。
7.如權利要求6所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括多個第一徑向連接件，該多個第一徑向連接件在第一軸向位置穿過主線圈支承件，該多個第一徑向連接件沿徑向方向將該內熱福射屏蔽件和該外熱福射屏蔽件連接在一起。
8.如權利要求7所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括多個第二徑向連接件，該多個第二徑向連接件在第二軸向位置穿過該主線圈支承件，該多個第二徑向連接件沿徑向方向將該內熱福射屏蔽件和該外熱福射屏蔽件連接在一起。
9.如權利要求8所述的磁共振成像系統，其特征在于:該多個第二徑向連接件還在該第二軸向位置穿過由該主線圈支承件支撐的屏蔽線圈支承件，該多個第二徑向連接件連接該屏蔽線圈支承件。
10.如權利要求8所述的磁共振成像系統，其特征在于:該多個第一徑向連接件均勻分布在第一平面內，該多個第二徑向連接件均勻分布在第二平面內；該多個第一徑向連接件中的每一者與該多個第二徑向連接件對應的每一者之間形成非零的夾角。
11.如權利要求6所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括多個第一軸向連接件，該多個第一軸向連接件在第一徑向位置連接在兩個法蘭件之間。
12.如權利要求11所述的磁共振成像系統，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件還包括多個第二軸向連接件，該多個第二軸向連接件在第二徑向位置連接在該兩個法蘭件之間。
13.一種熱輻射屏蔽組件，應用于磁共振成像系統中，其特征在于:該熱輻射屏蔽組件包括內熱輻射屏蔽件，外熱輻射屏蔽件以及至少一個連接件；該內熱輻射屏蔽件設置在相對該磁共振成像系統中的至少一個線圈支承件的第一位置；該外熱輻射屏蔽件設置在相對該至少一個線圈支承件的第二位置；該至少一個連接件由熱絕緣材料制成，該至少一個連接件或者在該內熱輻射屏蔽件和該至少一個線圈支承件之間建立機械連接，以增強該內熱輻射屏蔽件的剛度，或者在該外熱輻射屏蔽件和該至少一個線圈支承件之間建立機械連接，以增強該外熱輻射屏蔽件的剛度。
14.如權利要求13所述的熱輻射屏蔽組件，其特征在于:該至少一個連接件由碳石墨材料制成。
15.如權利要求13所述的熱輻射屏蔽組件，其特征在于:該至少一個連接件通過環氧樹脂材料與該至少一個線圈支承件固定連接。
16.如權利要求13所述的熱輻射屏蔽組件，其特征在于:該至少一個連接件通過鎖固件與該內熱輻射屏蔽件固設在一起或者與該外熱輻射屏蔽件固設在一起。
17.如權利要求13所 述的熱輻射屏蔽組件，其特征在于:該至少一個連接件具有中空的管狀結構。
18.—種磁共振成像系統，其特征在于:該磁共振成像系統包括第一種梯度線圈，第二種梯度線圈，主線圈支承件，熱輻射屏蔽組件以及多個剛度增強件；該第一種梯度線圈設置成在第一脈沖信號的作用下產生沿第一坐標軸方向的第一梯度磁場；該第二種梯度線圈設置成在第二脈沖信號的作用下產生沿第二坐標軸方向的第二梯度磁場；該主線圈支承件用于支承產生主磁場的主線圈，該主磁場與該第一梯度磁場垂直并且與該第二梯度磁場垂直；該熱輻射屏蔽組件與該主線圈支承件相鄰設置；該多個剛度增強件至少沿著第一軸向方向和第二軸向方向與該熱輻射屏蔽組件以及該主線圈支承件機械連接；其中，該多個剛度增強件的至少第一部分降低由該第一種梯度線圈和該熱輻射屏蔽組件之間的磁場相互作用而在該第一坐標軸方向產生的振動；該多個剛度增強件的至少第二部分降低由該第二種梯度線圈和該熱輻射屏蔽組件之間的磁場相互作用而在該第二坐標軸方向產生的振動。
19.如權利要求18所述的磁共振成像系統，其特征在于:該第一種梯度線圈為X軸梯度線圈，該第二種梯度線圈為Y軸梯度線圈。
【文檔編號】G01R33/421GK104076306SQ201310110166
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2013年3月29日 優先權日:2013年3月29日
【發明者】伊萬格拉斯.T.拉斯卡里斯, 江隆植, 華夷和 申請人:通用電氣公司