專利名稱：一種雙光路x射線無損檢測裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及光學無損檢測技術領域，具體是指一種雙光路X射線無損檢測裝置。
背景技術：
無損檢測是在不影響檢測對象未來使用功能或現在的運行狀態前提下，采用射線、超聲、紅外、電磁等原理技術儀器對材料、零件、設備進行缺陷、化學、物理參數的檢測技術。無損檢測是工業發展必不可少的有效工具，在一定程度上反映了一個國家的工業發展水平，其重要性已得到公認。目前在化工行業中常使用射線法對工件進行檢測，射線法可以獲得缺陷的直觀圖像，定性準確，對長度、寬度尺寸的定量也比較準確，檢測結果有直接記錄，可長期保存，但是現有的射線檢測工具也存在有一些缺陷，例如對面積型缺陷(未焊透、未熔合、裂紋等)，如果照相角度不適當，容易漏檢；不宜檢測較厚的工件；不適宜檢驗角焊縫以及板材、棒材、鍛件等；對缺陷在工件中厚度方向的位置、尺寸(高度)的確定比較困難。
發明內容為解決上述問題，本實用新型提供一種雙光路X射線無損檢測裝置。本實用新型的技術方案是一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統，所述放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器放置于保護外殼內，所述前準直器放置在放射源和被測工件之間，所述后準直器放置在康普頓探測器、線陣探測器與被測工件之間。進一步，所述放射源和線陣探測器處于固定位置，康普頓探測器、測量臺的運行軌跡則由控制系統進行控制。進一步，所述保護外殼為含鉛玻璃，重金屬材料可以有效吸收X射線，避免X射線對操作人員造成傷害。進一步，所述前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。通常出射光面積越小分辨率越高，無散射狹縫的設置可以保證出射光無散射，基本平行，而且面積小，可以提供較高的分辨率。進一步，所述測量臺為三維可旋轉測量臺，其可以在平面內以非常低的角速度的速度進行旋轉，亦可以再水平平面和豎直平面內移動，以完成測量工件所需要的位移；此外測量臺在水品方向的移動還可以實現對被測工件某一感興趣區的放大和縮小，得到更加詳實數據。進一步，測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。進一步，所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。[0012]本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數的放大掃描，使用方便。
圖1是本實用新型的結構示意圖。圖中:1.放射源2.前準直器3.測量臺4.被測工件5.后準直器6.康普頓探測器 7.線陣探測器 8.保護外殼9.控制系統
具體實施方式
以下結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。參照圖1對本實用新型進行說明，一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源1、前準直器2、測量臺3、被測工件4、后準直器5、康普頓探測器6、線陣探測器7、保護外殼8以及控制系統9，所 述放射源1、前準直器2、測量臺3、被測工件4、后準直器5、線陣探測器7、康普頓探測器6放置于保護外殼內，所述前準直器2放置在放射源I和被測工件4之間，所述后準直器5放置在康普頓探測器6、線陣探測器7與被測工件4之間。放射源I和線陣探測器7處于固定位置，康普頓探測器6、測量臺3的運行軌跡則由控制系統9進行控制。保護外殼8為含鉛玻璃，重金屬材料可以有效吸收X射線，避免X射線對操作人員造成傷害，前準直器2為無散射狹縫，后準直器5為高分辨率的多平行束準直器。通常出射光面積越小分辨率越高，無散射狹縫的設置可以保證出射光無散射，基本平行，而且面積小，可以提供較聞的分辨率。測量臺3為三維可旋轉測量臺，其可以在平面內以非常低的角速度的速度進行旋轉，亦可以再水平平面和豎直平面內移動，以完成測量工件所需要的位移；此外測量臺在水品方向的移動還可以實現對被測工件某一感興趣區的放大和縮小，得到更加詳實數據。測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數的放大掃描，使用方便。
權利要求1.一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統，所述放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器放置于保護外殼內，所述前準直器放置在放射源和被測工件之間，所述后準直器放置在康普頓探測器、線陣探測器與被測工件之間。
2.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述放射源和線陣探測器處于固定位置，康普頓探測器、測量臺的運行軌跡則由控制系統進行控制。
3.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述保護外殼為含鉛玻璃。
4.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。
5.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述測量臺為三維可旋轉測量臺。
6.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:測量時，所述放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位。
7.根據權利要求1所述的一種雙光路X射線無損檢測裝置，其特征是:所述放射源為分體式X射線管，使用Cu靶為射線源。
專利摘要本實用新型提供一種雙光路X射線無損檢測裝置，包括放射源、前準直器、測量臺、被測工件、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器、保護外殼以及控制系統，其中前準直器為無散射狹縫，后準直器為高分辨率的多平行束準直器。測量時，通過控制系統控制測量臺進行圓周方向步進轉動和豎直方向的移動，放射源、前準直器、后準直器、線陣探測器、康普頓探測器的中心延長線均指向被測工件上的檢測部位；所述后準直器設于康普頓探測器和線陣探測器前端以排除雜散射線。本實用新型使用兩條光路，不但可以進行工件整體分析，還可以進行工件表面分析，分辨率高，可進行不同倍數的放大掃描，使用方便。
文檔編號G01N23/04GK203025127SQ201220754700
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月27日 優先權日2012年12月27日
發明者韓曉耕, 張勇, 田文文, 段輝 申請人:天津欣維檢測技術有限公司