專利名稱：用于磁共振成像系統的末端凸緣和制造方法
技術領域：
本說明書中公開的主題大致涉及低溫冷卻的磁共振成像(MRI)系統，并且更具體而言，涉及MRI系統的真空容器的末端凸緣。
背景技術：
在超導線圈MRI系統中，使用氦容器來低溫冷卻構成超導磁體的所述線圏。這些MRI系統中的ー些的冷凍劑冷卻系統可在系統操作期間連續地冷卻超導磁體線圈。另外，可設置熱屏蔽，其典型地安置在真空容器內且在該真空容器和氦容器之間。用于MRI系統的真空容器的常規凸緣必須構成為用于支承其中的組件的厚金屬 結構。這些厚金屬凸緣對總MRI系統增加了成本和重量。此外，在末端凸緣上典型地設置有覆蓋物，且其間有間隙。因此，對于MRI系統的給定的占有范圍，由于該間隙所產生的間隔，就造成對超導磁體組裝件的更短的線圈長度。該更短的線圈長度導致降低的電磁(EM)包絡。
發明內容
依照各種實施例，提供ー種用于磁共振成像(MRI)系統的真空容器。所述真空容器包括配置成在其中收容磁體組裝件的殼體和構成所述殼體的末端的末端凸緣。所述凸緣包括外表面、內表面和聯接在所述外和內表面之間的芯，其中所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度。依照其它實施例，提供ー種用于磁共振成像(MRI)裝置的磁體系統。所述磁體系統包括具有至少ー個末端凸緣的真空容器，用具有構成平面壁的外和內表面的非實心芯構成所述至少ー個末端凸緣。所述非實心芯具有比所述外和內表面大的剛度。所述磁體系統還包括在其中具有液體氦的冷凍劑容器，所述冷凍劑容器在所述真空容器內。所述磁體系統還包括所述冷凍劑容器內的超導磁體。依照另外其它的實施例，提供一種制造用于磁共振成像(MRI)系統的真空容器的凸緣的方法。所述方法包括構成真空容器凸緣的芯、外表面和內表面，其中所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度。所述方法還包括將所述芯與所述外和內表面聯接在一起，其中，所述芯在所述外和內表面之間，并且一起限定大致平面的真空容器凸緣。—方面，提供ー種真空容器，用于磁共振成像(MRI)系統，所述真空容器包含殼體，其配置成在其中收容磁體組裝件；以及末端凸緣，其構成所述殼體的末端，其中，所述末端凸緣包括外表面、內表面、和聯接在所述外和內表面之間的芯，所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度。另ー方面，所述末端凸緣是大致平面的。再一方面，用金屬材料構成所述外和內表面，而用復合材料構成所述芯。再另一方面，所述金屬材料是不銹鋼。再另一方面，所述金屬材料具有大約ニ毫米的厚度。
再另一方面，用玻璃纖維構成所述外和內表面。再另一方面，以蜂房類型配置用金屬構成所述芯。再另一方面，所述金屬是招。再另一方面，所述外表面包含可燃性阻抗材料。再另一方面，所述外表面限定所述真空容器的外殼體并且不包括覆蓋物。再另一方面，所述外表面、所述內表面和所述芯以夾層布置聯接在一起并且具有大約十毫米的總厚度。再另一方面，提供ー種磁體系統，用于磁共振成像(MRI)裝置，所述磁體系統包含真空容器，其具有至少ー個末端凸緣，用具有構成平面壁的外和內表面的非實心芯構成 所述至少ー個末端凸緣，所述非實心芯具有比所述外和內表面大的剛度；冷凍劑容器，其中具有液體氦，所述冷凍劑容器在所述真空容器內；以及超導磁體，其在所述冷凍劑容器內。再另一方面，用金屬材料構成所述外和內表面，而用復合材料構成所述非實心芯。再另一方面，所述金屬材料是不銹鋼并且具有大約ニ毫米的厚度，并且所述外表面、所述內表面和所述芯以夾層布置聯接在一起并且具有大約十毫米的總厚度。再另一方面，用玻璃纖維構成所述外和內表面。再另一方面，以蜂房類型配置用金屬構成所述非實心芯。再另一方面，所述外表面包含可燃性阻抗材料。再另一方面，所述外表面限定所述真空容器的外殼體并且不包括覆蓋物。再另一方面，提供一種制造用于磁共振成像(MRI)系統的真空容器的凸緣的方法，所述方法包含構成真空容器凸緣的芯、外表面和內表面，所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度；以及將所述芯與所述外和內表面聯接在一起，所述芯在所述外和內表面之間并一起限定大致平面的真空容器凸緣。再另一方面，用金屬材料構成所述外和內表面，而用復合材料構成所述芯，以及所述芯以夾層布置與所述外和內表面聯接在一起并且具有大約十毫米的總厚度。
圖I是依照ー實施例所構成的磁共振成像(MRI)磁體系統的簡化框圖。圖2是示出依照各種實施例所構成的末端凸緣的MRI磁體系統的橫截面視圖。圖3是示出依照各種實施例所構成的具有凸緣的真空容器的簡化圖；圖4是示出依照各種實施例所構成的具有凸緣的真空容器的簡化框圖；圖5是依照一實施例所構成的真空容器凸緣中的一部分的橫截面視圖；圖6是依照另ー實施例所構成的真空容器凸緣中的一部分的橫截面視圖；圖7是圖6的真空容器凸緣的芯中的一部分的平面視圖；圖8是圖6的真空容器凸緣的芯中的一部分的透視圖；圖9是依照各種實施例的ー種制造用于MRI系統的真空容器的凸緣的方法的流程圖；圖10是依照各種實施例所構成的真空容器凸緣在其中可實現的MRI系統的框圖。構件列表MRI磁體系統20
氦容器22真空容器24熱屏蔽26冷頭28冷頭套30真空容器凸緣32 超導線圈34通道36通道38通道40馬達42外表面44內表面46芯48再凝結系統50超導MRI磁體60線圈62孔64外壁66線圈架70線圈架72蜂房類型配置80六角形單元82壁84方法90用具有增加剛度的材料或配置構成用于凸緣的芯在92用降低厚度或較低剛度的材料構成外和內表面在94將外和內表面聯接到芯以構成凸緣在96將凸緣聯接到用于MRI系統的真空容器在98MRI 系統 100成像部分102處理部分104機架106熱隔離112磁梯度線圈114RF傳送線圈116控制器118主磁場控件120梯度場控件122
存儲器124顯示裝置126T-R 開關 128RF 傳送器 130接收器132孔13具體實施例方式當結合隨附附圖閱讀時，將更好地理解上述概要以及某些實施例的以下詳細描述。在附圖示出各種實施例的功能框的圖方面來說，這些功能框不一定表示硬件之間的劃分。因此，例如，功能框的ー個或更多可在單塊硬件或多塊硬件中實現。應該理解的是，各種實施例不限于附圖中示出的布置和手段。如本說明書中使用的，以單數敘述的并且采用字“一”在前的要素或步驟應該理解為不排除所述要素或步驟的復數，除非明確地聲明這樣的排除。此外，提到“一個實施例”不是用來解釋為排除也結合敘述的特征的另外的實施例的存在。而且，除非明確地聲明與此相反，“包含”或“具有”具有特定性質的一要素或多個要素的實施例可包括不具有該性質的另外的這樣的要素。各種實施例提供用于磁共振成像(MRI)系統的真空容器的一個或更多末端凸緣。在一些實施例中，這些末端凸緣構成為具有用與末端凸緣的外和內表面相比不同的材料構成的芯的多材料結構。在其它實施例中，該芯具有與外和內表面相比不同的結構。通過實踐至少一個實施例，MRI磁體的總長度可以縮短或者如果磁體長度保持相同，則可增加電磁(EM)包絡。還通過實踐至少ー個實施例，用于磁體組裝件的覆蓋物可以不需要并且可降低MRI系統的聲噪。圖I是依照各種實施例所構成的MRI磁體系統20的簡化框圖。MRI磁體系統20包括容器22，其容納液體冷凍劑，諸如液體氦。因此，在該實施例中，容器22是氦容器，其也可稱為氦壓力容器。容器22被真空容器24包圍并且在其中和/或在其間包括熱屏蔽26。熱屏蔽26可以是例如熱隔離輻射屏蔽。真空容器24包括位于其ー個或更多末端的ー個或更多末端凸緣32，該ー個或更多末端凸緣32可以在包括氦容器22的磁體組裝件的末端。在各種實施例中，末端凸緣32包括芯以及外和內表面(如本說明書中更詳細地描述，用不同材料或結構構成的)。冷頭28 (其在各種實施例中是低溫冷卻機)在冷頭套30 (例如，殼體)內延伸穿過真空容器24。因此，冷頭28的冷末端可安置在冷頭套30內而不影響真空容器24內的真空。使用任何合適的方式，諸如ー個或更多凸緣和螺栓，或本領域已知的其它方式，將冷頭28插入并固定在冷頭套30內。此外，在真空容器24之外設置冷頭28的馬達42 (圖2中所示)。ー個或更多磁體線圈34 (其在各種實施例中構成超導磁體)設置在氦容器22內部并如本說明書中更詳細地描述在MRI系統的操作期間被控制以獲得MRI圖像數據。另外，在MRI系統的操作期間，MRI磁體系統20的氦容器22內的液體氦冷卻超導磁體線圈34。可冷卻超導磁體線圈34到超導溫度，例如，4. 2開爾文(K)。冷卻過程可包括通過氦再凝結系統(圖I中未示出)將汽化的氦氣體再凝結為液體并返回到氦容器22。應該注意的是，汽化的氦可通過將氦容器22連接到熱屏蔽26的氣體通道36。氦氣體從氣體通道36到熱屏蔽26的流通產生冷卻熱屏蔽26的效果。冷卻系統還包括將氦容器22連接到冷頭28的氣體通道38和40 (例如，管)以冷卻冷凍劑。在各種實施例中，例如圖I和2中所示的，氣體通道38和氣體通道40分別操作成從氦容器22傳遞或發送氦氣體以使汽化的氦氣體循環往返于冷頭28。另外，通道36操作成例如在正常操作期間或在冷頭28的電源斷開條件期間從氦容器22傳遞或發送氦氣體以在熱屏蔽26中或在熱屏蔽26處使來自氦容器22的氦氣體(例如，汽化的氦氣體)循環。應該注意的是，可使用用于傳遞氦往返于氦容器22的任何聯接的布置或方式。因此，冷頭28 (其在各種實施例中是低溫冷卻機)在冷頭套30 (例如，殼體)內延伸穿過真空容器24，其中冷頭28的馬達42設置在真空容器24之外。冷 卻過程可包括通過氦再凝結系統50將汽化的氦氣體再凝結為液體并返回到氦容器22。應該注意的是，汽化的氦可通過將氦容器22連接到再凝結系統50的氣體通道38，并且再凝結的氦可穿過通道40返回到氦容器。圖2是示出依照各種實施例所構成的具有末端凸緣32的真空容器24的MRI磁體系統20中的一部分的橫截面視圖。應該注意的是，所有附圖中同樣的數字表示同樣的或類似的構件。如所示的，氦容器22被真空容器24包圍并在其中和/或其間包括熱屏蔽26，該熱屏蔽可以是例如熱隔離輻射屏蔽。真空容器24的末端凸緣32包括外表面44和內表面46,夕卜表面44和內表面46分別大致限定真空容器24的外和內壁的部分。外表面44大致是暴露于環境或大氣(例如，對操作員可見的)的表面，而內表面46沿著末端凸緣32限定真空容器24的內部表面。末端凸緣32包括外和內表面44和46之間的芯48。因此，在各種實施例中，芯48被夾在外和內表面44和46之間。在一個實施例中，用不同于外和內表面44和46的材料或結構(例如，具有實心外和內表面44和46的非實心芯)構成芯48。另外,可用相同或不同的材料構成外和內表面44和46。圖3中示出MRI磁體系統20的ー個配置，其是示出各種殼體、超導磁體線圈34和冷頭28的簡化示意圖。在該實施例中，MRI磁體系統20包括用同心超導主線圈34和補償線圈62 (在高導熱性的圓柱形殼(例如，一個或更多線圈支承売)內部支承的并且由操作為低溫制冷機系統的冷頭28所冷卻的)構成的超導MRI磁體60。在各種實施例中，用環氧樹脂對超導線圈34和/或62鑄模。例如，鑄模線圈可用濕環氧樹脂(wet epoxy)來纏繞并固化以構成自支承結構。超導線圈34和/或62然后可結合到線圈支承売。使構成的超導線圈34和/或62大小合適以限定穿過它的孔64，其用于使對象(例如，患者)成像。例如，可限定視場(FOV)以使對象的特定部分成像，如本說明書中更詳細描述的。如能看到的，真空容器24包括大致平面的外壁66，其包括同樣地大致是平面的或平坦的末端凸緣32。圖4中示出一個實施例，其中氦容器22在其中包括構成磁體60的一個或更多線圈。例如，可在線圈架70(例如，主磁體線圈架)上支承和保持多個線圈34，而可在線圈架72 (例如，次線圈架)上支承和保持多個線圈62。線圈架70和72可以是能夠支承和保持用于超導磁體的線圈的任何合適的線圈架。在一個實施例中，線圈34是主磁體線圈而線圈62是補償或屏蔽線圏。可按期望或需要來變更線圈34和62的數量和定位。將線圈34和62浸入用氦容器22裝的液體氦中。在該實施例中，如下更詳細描述，用較薄的結構構成真空容器凸緣32。例如，在一個實施例中，用多個材料和/或多個結構或配置(具有大約10毫米(mm)的總厚度)構成真空容器凸緣32，其中外和內表面44和46各自大約2mm厚。在各種實施例中，如圖5中所示，與芯48相比，用具有更高彎曲模量(或彈性模量)的材料構成外和內表面44和46，而與外和內表面44和46相比，用具有更高剪切模量(或剛性模量)的材料或結構構成芯48。應該注意的是，在一些實施例中，用相同材料構成芯48和外和內表面44和46，但是具有不同的厚度或結構以影響各自的性質。因此，在各種實施例中，主要通過芯48的結構限定凸緣32的剛性，外和內表面44和46限定剛性芯的覆蓋件或殼體。 在一個實施例中，用一片或ー層金屬，例如，2_厚的一層不銹鋼或其它合適的金屬構成外和內表面44和46。然而,可使用非金屬材料以構成外或內表面44和46中的至少ー個。例如，在一個實施例中，用玻璃纖維材料或其它加強聚合物構成外表面46，其是可見的表面。在一些實施例中，可使用基于碳纖維的材料。當用玻璃纖維或類似的材料(具有磨光過的外形)構成外表面46時，不設置另外的覆蓋物(對MRI磁體系統20的美學外形)。因此，外表面46構成MRI磁體系統20的最外的表面，其是MRI磁體系統20的可見殼體。在一些實施例中，用復合材料構成芯48。大致用襯底和樹脂構成復合材料。該復合材料也可以是纖維加強的。例如，可用碳纖維加強塑料或玻璃加強塑料構成芯48。復合材料也可包括金屬纖維，其加強諸如在金屬基復合物中的其它金屬。其它非金屬復合物可被使用并且包括例如陶瓷基復合物和熱塑復合物。因此，在各種實施例中，可用高密度復合物構成芯48。在一些實施例中，用非實心結構的金屬材料構成芯48。在這些實施例中，可用金屬材料或非金屬材料構成外和內表面44和46。通過在ー個實施例中包括具有多個六角形單元(cell) 82的圖6直至8中所示的蜂房類型配置80的結構來限定芯48。蜂房類型配置80結構的幾何形狀能夠改變并示為由壁84所分離的中空六角形單元82的陣列(如圖8中所示)，壁84可以是例如薄的垂直壁(例如,具有大約l_5mm的厚度的壁)。在該實施例中，六角形単元82是柱狀的。然而，應該注意的是，可以采用不同于六角形的不同形狀(例如，菱形的或八角形形狀的，等)構成單元82。通常，在這些實施例中，用提供具有降低的或最小的密度和相對高的平面外壓縮性質和平面外剪切性質(如本說明書中所描述的)的材料的結構構成芯84。例如，使用蜂房類型配置80，在一些實施例中，使用所述材料的大約四分之一(與實心芯比較)，提供大約四倍的剪切模量增加。應該注意的是，可選擇構成凸緣32的層或組件的各種材料以具有可期望或要求的另外性質。例如，可用提供對MRI應用的美國保險商實驗室(UnderwritersLaboratories, UL)可燃性要求兼容性的材料構成外表面44。備選地,可例如用ー層UL可燃性阻抗材料涂覆外表面44。使用任何合適的緊固方式，可將凸緣32的各種組件(包括外和內表面44和46),以及芯48聯接在一起。例如，諸如使用螺釘或螺栓，可將各種組件機械地緊固在一起。作為其它示例，可使用粘合劑或膠水，諸如環氧樹脂。另外其它示例包括，例如，將各種組件焊接在一起。因此，在各種實施例中，用夾層或分層結構(例如，多層結構)構成凸緣32，其中夾層類型復合物結構使得凸緣32能夠更薄并且提供相同或類似特性或性質，例如，與實心凸緣相同或類似的支承。在各種實施例中，芯48的材料提供增加剛性或剛度，允許外和內表面44和46用具有較小剛性和/或較小厚度的材料來構成。各種實施例還提供一種如圖9中所示的用于制造用于MRI系統的真空容器的凸緣的方法90。該方法包括在92用提供增加的剛性或剛度的材料或具有提供增加的剛性或剛度的配置來構成用于凸緣的芯。如本說明書中所描述的，所述芯可用選擇成提供増加的剛性或剛度的材料來構成，或以具有增加的剛性或剛度的配置(例如，蜂房形狀的)來設置。例如，可構成芯以具有高的剪切模量，例如，75GPa以上。在一些實施例中，可構成具有大約或至少與鋼一樣高的剪切模量的芯，其具有大約79. 3GPa的剪切模量。 該方法還包括在94用降低厚度或較低剛度材料構成外和內表面。例如，在ー個實施例中，用ー薄層金屬，例如用具有大約2mm厚度的不銹鋼材料來構成外和內表面。在96，然后將芯和外和內表面聯接在一起以構成用于真空容器的末端凸緣。使用本說明書中描述的任何合適的方式，可將這些組件聯接在一起。外和內表面大致限定末端凸緣的外和內壁，其間的芯限定末端凸緣的主體。在98，末端凸緣然后聯接到用于MRI系統的真空容器。例如，使用任何合適的聯接方式，可將末端凸緣聯接到真空容器側。應該注意的是，雖然可與用于具有超導磁體的MRI系統的真空容器的末端凸緣結合來描述ー些實施例，但是可與具有超導磁體的系統的任何類型結合來實現各種實施例。可以在醫學成像裝置的其它類型以及非醫學成像裝置中來實現超導磁體。而且，可與MRI系統的其它類型結合來實現各種實施例。因此，可與用于MRI系統的不同類型的真空容器結合來實現各種實施例。例如，可用圖10中示出的MRI系統100來實現各種實施例。應該意識到的是，雖然系統100示為單一形態成像系統，但是可以以或用多形態成像系統來實現各種實施例。系統100示為MRI成像系統并可與醫學成像系統的不同類型(諸如，計算斷層攝影(CT)、電子發射斷層攝影(PET)、單光子發射計算斷層攝影(SPECT)、以及超聲系統，或能夠生成圖像(諸如人的)的任何其它系統)來組合。而且，各種實施例不限于用于使人對象成像的醫學成像系統，但可包括用于使非人對象、行李等成像的獸醫或非醫學系統。參考圖10，MRI系統100大致包括成像部分102和處理部分104，其可包括處理器或其它計算或控制器裝置。MRI系統100包括機架(gantry) 106內的超導磁體線圈34，其可支承在磁體線圈支承結構上。氦容器22 (也稱為低溫恒溫器)包圍超導磁體線圈34并用液體氦裝填。所述液體氦可用于冷卻冷頭套和/或熱屏蔽(如本說明書中更詳細地描述的)。真空容器24包圍氦容器34并包括圖I直至8中所示的以及如本說明書中描述的末端凸緣32。熱隔離112設置成包圍氦容器22的外表面和超導磁體線圈34的內表面。多個磁梯度線圈114設置在超導磁體線圈34的內部，并且RF傳送線圈114設置在多個磁梯度線圈114內。在一些實施例中，可用傳送和接收線圈代替RF傳送線圈116。機架106內的這些組件大致構成成像部分102。應該注意的是，雖然超導磁體線圈34是圓柱形的形狀，但是能夠使用磁體的其它形狀。處理部分104大致包括控制器118、主磁場控件120、梯度場控件122、存儲器124、顯示裝置126、傳送-接收(T-R)開關128、RF傳送器130和接收器132。在操作中，對象的主體(諸如要成像的患者或模型(phantom))放置在孔134中合適的支承件(例如，患者臺)上。超導磁體線圈34產生跨越孔134的均勻且靜態的主磁場Bo0孔134中以及對應地患者中的電磁場強度通過控制器118經由主磁場控件120來被控制，主磁場控件120還控制到超導磁體線圈34的激勵電流的供應。設置磁梯度線圈114 (其包括一個或更多梯度線圈元件)，以便磁梯度能夠朝三個正交的方向X、y和z的任何ー個或多個方向來施加于超導磁體線圈34內的孔134中的磁·場Bo。磁梯度線圈114通過梯度場控件122來被激勵并且也通過控制器118來被控制。布置RF傳送線圈116 (其可包括多個線圈)以傳送磁脈沖和/或如果還設置有接收線圈元件，諸如配置為RF接收線圈的表面線圈，則可選地同時檢測來自患者的MR信號。RF接收線圈可以是任何類型或配置，例如，分離接收表面線圈。接收表面線圈可以是設置在RF傳送線圈116內的RF線圈的陣列。通過T-R開關128可選擇地分別將RF傳送線圈116和接收表面線圈互連到RF傳送器130或接收器132的ー個。控制器118控制RF傳送器130以及T-R開關128，以便RF場脈沖或信號通過RF傳送器130來生成并被選擇地應用到患者以便在患者中激發磁共振。雖然RF激發脈沖正被應用到患者，但是也可致動T-R開關128以將接收表面線圈從接收器132斷開。RF脈沖的應用之后，再次致動T-R開關128以將RF傳送線圈116從RF傳送器130斷開并將接收表面線圈連接到接收器132。該接收表面線圈操作成檢測或感測由患者中激發核產生的MR信號，并將MR信號發送到接收器132。這些檢測的MR信號又被發送到控制器118。控制器118包括例如處理器(例如，圖像重建處理器)，其控制MR信號的處理以產生表示患者圖像的信號。表示圖像的所處理的信號也被傳送到顯示裝置126以提供圖像的可視顯示。特定地，MR信號填充或構成被傅立葉變換以獲得可視圖像的k-空間。表示圖像的所處理的信號然后被傳送到顯示裝置126。要理解的是，上面的描述意為說明性的，以及非限制性的。例如，上面描述的實施例(和/或其的方面)可以與彼此結合來使用。另外，可作出許多修改以使特別的情形或材料適合于各種實施例的教導而不脫離它們的范圍。雖然本說明書中描述的材料的尺寸和類型是用來限定各種實施例的參數，但是它們決不是限制的而僅僅是示范的。當回顧上面的描述，許多其它實施例將對本領域的技術人員是明顯的。因此，應該通過參考隨附權利要求，連同與對這樣的權利要求賦予的等同物的全部范圍一道，來確定各種實施例的范圍。在隨附權利要求中，術語“包括”和“其中”用作相應的術語“包含”和“在其中”的易懂語的等同。而且，在以下權利要求中，術語“第一”、“第二”和“第三”等僅僅用作標記，以及不是用來施加關于它們的對象的數字要求。另外，以下權利要求的限制沒有采用部件-加-功能格式來書寫并且不是意在基于35U. S. C. § 112第六段來解釋，除非以及直到這樣的限制清楚地使用跟隨無另外結構的功能聲明的短語“用于……的部件”。該書面描述使用示例以公開各種實施例，包括最佳模式，以及還使得本領域的任何技術人員能夠實踐各種實施例，包括制作和使用任何裝置或系統以及執行任何結合的方法。各種實施例的專利范圍由權利要求來限定，并可包括本領域的技術人員想到的其它示 例。這樣的其它示例如果具有與權利要求的文字語言沒有不同的結構要素，或者包括與權利要求的文字語言非實質不同的等同結構要素，則這些示例意在權利要求的范圍內。
權利要求
1.ー種真空容器(24)，用于磁共振成像MRI系統(20)，所述真空容器包含 殼體(24)，其配置成在其中收容磁體組裝件；以及 末端凸緣(32)，其構成所述殼體的末端，其中，所述末端凸緣包括外表面(44)、內表面(46)、和聯接在所述外和內表面之間的芯(48)，所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度。
2.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，所述末端凸緣(32)是大致平面的。
3.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，用金屬材料構成所述外和內表面(44、46)，而用復合材料構成所述芯(48)。
4.如權利要求3所述的真空容器(24)，其中，所述金屬材料是不銹鋼并具有大約ニ毫米的厚度。
5.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，用玻璃纖維構成所述外和內表面(44、46)。
6.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，以蜂房類型配置(80)用金屬構成所述芯(48)。
7.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，所述外表面(44)包含可燃性阻抗材料。
8.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，所述外表面(44)限定所述真空容器的外殼體并且不包括覆蓋物。
9.如權利要求I所述的真空容器(24)，其中，所述外表面(44)、所述內表面(46)和所述芯(48)以夾層布置聯接在一起并且具有大約十毫米的總厚度。
10.一種制造用于磁共振成像MRI系統的真空容器的凸緣的方法(90)，所述方法包含 構成(92、94)真空容器凸緣的芯、外表面和內表面，所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度；以及 將所述芯與所述外和內表面聯接(96)在一起，所述芯在所述外和內表面之間并且一起限定大致平面的真空容器凸緣。
全文摘要
本發明名稱為用于磁共振成像系統的末端凸緣和制造方法。提供一種用于磁共振成像(MRI)系統的末端凸緣和用于制造末端凸緣的方法。一個末端凸緣是用于MRI系統(20)的真空容器(24)。所述真空容器包括配置成在其中收容磁體組裝件的殼體(24)和構成所述殼體末端的末端凸緣(32)。所述凸緣包括外表面(44)、內表面(46)和聯接在所述外和內表面之間的芯(48)，其中所述芯具有比所述外表面和所述內表面大的剛度。
文檔編號G01R33/3815GK102955141SQ20121039507
公開日2013年3月6日 申請日期2012年7月27日 優先權日2011年7月27日
發明者江隆植 申請人:通用電氣公司