專利名稱：一種用光纖位移傳感器測定工件圓度誤差的裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及ー種測定エ件圓度誤差的裝置，屬于測量技術領域。
背景技術：
在エ業控制和精密機械制造中，通常使用專業圓度儀來測量エ件的圓度誤差。被測エ件安裝在中心可做精確調整的微動定心臺上，用ー個精密回轉軸系上一個動點(測量裝置的觸頭)所產生的理想圓與被測輪廓進行比較，就可求得圓度誤差值。但是高精度的圓度儀售價相當昂貴，一般都是上百萬元才能買到，而且這種圓度儀專業性強、操作復雜、現 場測量能力差，對エ件的實時殘品控制應用不便。而用便攜式圓度儀測量時支撐轉子具有偏心誤差，圓盤エ件與支撐轉子之間也存在安裝偏心誤差，那么測量信號中就包含這些偏心誤差信號，為了測量圓盤エ件的圓度誤差就必須去除這些誤差信號，目前的技術人員還沒有找到較好的方法和裝置。
發明內容本實用新型提供一種用光纖位移傳感器測定エ件圓度誤差的裝置，可以快速的檢測出圓盤エ件的圓度誤差是否在正常范圍內，快速識別殘次品，它結構簡單、安裝調試方便、成本低廉、操作方便。為了解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案一種用光纖位移傳感器測定エ件圓度誤差的裝置，包括待測エ件I、支撐轉子2、反射式光纖位移傳感器I 4、雙蹤示波器5、反射式光纖位移傳感器II 6，待測エ件I安裝在支撐轉子2上，待測エ件I和支撐轉子2的側面一周均勻涂抹高反光材料3，反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6分別置于待測エ件I和支撐轉子2的反光材料3涂抹處，且都與雙蹤示波器5連接。所述的反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6為相同結構的光纖位移傳感器，反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6到反光材料3的距離均為5mm。所述的待測エ件I、支撐轉子2、反射式光纖位移傳感器I 4、雙蹤示波器5、反射式光纖位移傳感器II 6均為市售的普通元件。本實用新型的工作原理當兩個信號接入雙蹤示波器后，雙蹤示波器將待測エ件的信號和支撐轉子的信號相減，然后與標準エ件的信號比對，識別待測エ件的圓度誤差是否在允許的范圍，進而識別殘次品。本實用新型的有益效果是I、可以去除支撐轉子產生的偏心誤差和圓盤エ件與支撐轉子之間的安裝偏心誤差;2、可以在加工現場對圓盤エ件進行單個或者批次檢測；3、可快速的檢測出圓盤エ件的圓度誤差是否在正常范圍內，快速識別殘次品；[0012]4、結構簡單、安裝調試方便、操作方便、成本低廉。
[0013]圖I本實用新型的結構示意圖；圖中1_待測エ件、2-支撐轉子、3-高反光材料、4-反射式光纖位移傳感器I、5-雙蹤示波器、6-反射式光纖位移傳感器II。
具體實施方式
如
以下結合附圖和實施例對本實用新型進ー步說明，以方便技術人員理解。圖I所示本實用新型的結構示意圖，裝置包括待測エ件I、支撐轉子2、反射式光纖位移傳感器I 4、雙蹤示波器5、反射式光纖位移傳感器II 6，待測エ件I安裝在支撐轉子2上，待測エ件I和支撐轉子2的側面一周均勻涂抹高反光材料3，反射式光纖位移傳感器
I4和反射式光纖位移傳感器II 6分別置于待測エ件I和支撐轉子2的反光材料3涂抹處，且都與雙蹤示波器5連接，標定反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6到反光材料3的距離均為5mm。本實用新型的具體測量步驟如下(I)用如圖I所示的裝置測量標準エ件獲得標準信號。用標準エ件代替待測エ件1，標準エ件的側面一周也均勻涂抹高反光材料3，反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6分別從標準エ件和支撐轉子2處測得信號，兩個信號接入雙蹤示波器5，然后將標準エ件的信號和支撐轉子2的信號相減得到標準信號，用雙蹤示波器5儲存標準信號。(2)在圖I所示的裝置里安裝待測エ件1，待測エ件I和支撐轉子2的側面一周均勻涂抹高反光材料3,反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6分別置于待測エ件I和支撐轉子2的反光材料3涂抹處,標定反射式光纖位移傳感器I 4、反射式光纖位移傳感器II 6和反光材料3的距離為5mm,反射式光纖位移傳感器I 4和反射式光纖位移傳感器II 6分別從待測エ件I和支撐轉子2處測得信號，兩個信號接入雙蹤示波器5，然后將待測エ件I的信號和支撐轉子2的信號相減，最后與步驟(I)里雙蹤示波器5儲存的標準信號比對，識別待測エ件的圓度誤差是否在允許的范圍，進而識別殘次品。本實用新型是通過具體實施過程進行說明的，在不脫離本實用新型范圍的情況下，還可以對實用新型進行各種變換及等同代替，因此，本實用新型不局限于所公開的具體實施過程，而應當包括落入本實用新型權利要求范圍內的全部實施方案。
權利要求1.ー種利用光纖位移傳感器測定エ件圓度誤差的裝置，其特征在于包括待測エ件(I)、支撐轉子(2)、反射式光纖位移傳感器I (4)、雙蹤示波器(5)、反射式光纖位移傳感器II (6)，待測エ件(I)安裝在支撐轉子(2)上，待測エ件(I)和支撐轉子(2)的側面一周均勻涂抹高反光材料(3)，反射式光纖位移傳感器I (4)和反射式光纖位移傳感器II (6)分別置于待測エ件(I)和支撐轉子(2)的反光材料(3)涂抹處，且都與雙蹤示波器(5)連接。
2.根據權利要求I所述的利用光纖位移傳感器測定エ件圓度誤差的裝置，其特征在于反射式光纖位移傳感器I (4)和反射式光纖位移傳感器II (6)到反光材料(3)的距離均為 Smnin
3.根據權利要求I所述的利用光纖位移傳感器測定エ件圓度誤差的裝置，其特征在于所述的反射式光纖位移傳感器I (4)和反射式光纖位移傳感器II (6)為相同結構的光纖位移傳感器。
專利摘要本實用新型涉及一種用光纖位移傳感器測定工件圓度誤差的裝置，屬于測量技術領域，包括反射式光纖位移傳感器、待測工件、支撐轉子、雙蹤示波器組成，待測工件安裝在支撐轉子上，待測工件和支撐轉子的側面一周涂抹高反光材料，光纖位移傳感器分別置于待測工件和支撐轉子的反光材料涂抹處；本實用新型可以去除支撐轉子的偏心誤差和圓盤工件與支撐轉子之間的安裝偏心誤差，可以在加工現場對圓盤工件進行單個或者批次檢測，可快速的檢測出圓盤工件的圓度誤差是否在正常范圍內，快速識別殘次品，同時它結構簡單、安裝調試方便、成本低廉、操作方便。
文檔編號G01B11/24GK202403678SQ201120550129
公開日2012年8月29日 申請日期2011年12月26日 優先權日2011年12月26日
發明者劉志強, 吳加權, 曾春平, 李方江, 李迅鵬, 馬琨 申請人:昆明理工大學