線柵偏振片以及光傳感器的制作方法

專利名稱：線柵偏振片以及光傳感器的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及ー種具有透過軸方向互相不同的投光用偏振部和受光用偏振部的光傳感器用的線柵偏振片。又，還涉及ー種使用該線柵偏振片的光傳感器。
背景技術：
在回歸反射型光電傳感器或生物認 證裝置中，為了提高檢測精度，具有在投光器中具有投光用偏振片、在受光器中具有受光用偏振片的結構。出于裝置的小型化、探測精度提高的觀點考慮，大多數具有偏振片的光傳感器都使得投光器與受光器接近，例如如圖7所示的光傳感器201，出于裝置設計的觀點考慮，將透過軸方向互相不同的所述投光用偏振片202以及受光用偏振片203配設為在大致相同的平面上(在圖7中，光傳感器201的框體的ー個面上)。在制造這樣的光傳感器吋，是ー個一個組裝透過軸方向互相不同的投光用偏振片202以及受光用偏振片203，但在通常的光的條件下難以判別偏振片的偏振軸方向，為了防止錯誤組裝，需要在改變投光用偏振片202和受光用偏振片203的形狀等方面想辦法。由此,部件數量增加,成為成本上升的主要原因。作為這樣的課題的解決方法，例如提出了專利文獻I所公開的技術。該技術的概要如下。首先，對偏振片304進行剪裁加工使得投光用偏振片301的一對角線301a以及受光用偏振片302的一對角線301b位于一直線上，形成其相対的角由連接部303而結合的兩個四邊形(參照圖8的(A))。接著，以連接部303為中心將由連接部303結合的兩個四邊形中的一個四邊形向面方向旋轉90度，由此做成透過軸方向互相不同的投光用偏振片301以及受光用偏振片302(參照圖8的(B))。并且，將這樣制造的偏振片組裝到光傳感器上。但是，采用該技術的話，就會對偏振片的形狀設計造成限制。又，由于彎曲具有厚度的偏振片并將其組裝在光傳感器的框體上，因此作業效率下降。又，由于使偏振片以連接部303為中心旋轉(彎曲)，所以容易產生連接部303周邊發生彎曲、隆起，投射光不通過投光用偏振片301就出射，或者測量光不透過受光用偏振片302就入射到受光器中這樣的問題、以及光傳感器的探測精度降低這樣的問題。現有技術文獻專利文獻專利文獻I :日本專利公開平7-220590號公報
實用新型內容實用新型要解決的課題這樣，采用現有的技術的話，不降低光傳感器的探測精度地提高光傳感器的生產率是比較困難的。本實用新型正是鑒于該問題點而作出的，其目的在于，提供ー種能夠確保光學特性且能夠提高光傳感器的生產率的光傳感器用的線柵偏振片。解決課題的手段本實用新型的線柵偏振片是使用于具有投光器和受光器的光傳感器的線柵偏振片，其特征在于，所述投光器被配設為發出入射到線柵偏振片的投光用偏振部的投射光，所述受光器被配設為對透過所述線柵偏振片的受光用偏振部的測量光受光，在同一基材表面上制入有透過軸方向互相不同的所述投光用偏振部和所述受光用偏振部。基于這樣的結構，投光用偏振部以及受光用偏振部被制入在同一基材表面上，因此能夠實現向光傳感器組裝的組裝エ序的簡化，且能夠防止錯誤組裝。又，由于在同一基材表面上具有透過軸方向不同的投光用以及受光用偏振部，因此不需要進行彎曲偏振片等的加工。由此，能夠防止偏振片的漏光所導致的誤探測的 發生，因此光傳感器的探測精度不會降低。又，所述投光用偏振部能夠具有在與該投光用偏振部的凹凸結構延伸方向垂直的截面(以下，記載為“剖面視圖”)中，凹凸結構以規定的間隔向第一方向延伸的第I凹凸結構部，以及被偏設在所述第I凹凸結構部的凸部的某一方的側面上的第I導電體，所述受光用偏振部能夠具有凹凸結構以規定的間隔向與所述第一方向不同的第2方向延伸的第2凹凸結構部，以及被偏設在所述第2凹凸結構部的凸部的某一方的側面上的第2導電體。基于這樣的構成，導電體被偏設在各個凹凸結構部的某一方的側面上，因此能夠提聞各個偏振部的偏振分尚特性。又，所述凹凸結構能夠通過由樹脂形成的基材來構成。基于這樣的構成，能夠實施輥軋成形エ序，因此能夠提高線柵偏振片的生產率。又，能夠不產生漏光等問題地使線柵偏振片彎曲并加以使用，此外還能夠實現輕量化。又，在與所述凹凸結構延伸方向垂直的截面中，所述凹凸結構為大致正弦波狀的形狀，并能夠使得通過導電體的頂部且沿著導電體的立設方向的導電體軸與通過所述凹凸結構的凸部的頂部且沿著所述凸部的立設方向的凸部軸不同。基于這樣的構成，能夠增加導電體和凹凸結構的接觸面積，因此能夠防止導電體的剝離，另外，由于能夠容易地形成高度較高的導電體，從而能夠提高線柵偏振片的偏振分離特性。又，能夠將所述基材表面的所述投光用偏振部與所述受光用偏振部的邊界部作為沒有凹凸結構的區域，該凹凸結構的區域是與形成所述投光用偏振部或者所述受光用偏振部的所述凹凸結構相連的。基于這樣的構成，不存在與投光用偏振部和受光用偏振部的邊界部連接的凹凸結構，在邊界部的基材表面涂敷涂料等時，能夠降低涂料等以毛細管現象流入凹凸結構，侵入投光用偏振部或者受光用偏振部的可能性。又，所述凹凸結構能夠采用由鑄模制作的金屬壓模通過同一系列的エ序形成，所述鑄模在同一面上具有設有與所述凹凸結構相對應的凹凸結構的區域。基于這樣的構成，能夠通過同一系列的エ序形成線柵偏振片的凹凸結構，因此能夠提高線柵偏振片的生產率。又，由于能夠在金屬壓模的制造時決定凹凸結構的延伸方向，因此能夠抑制向基材表面制造凹凸結構時的各個偏振部的凹凸結構的延伸方向的偏差，能夠降低被制造的制品的性能偏差。又，所述鑄模能夠通過對在表面具有凹凸結構的多個版進行接合來制作。基于這樣的構成，在鑄模的同一面內制作凹凸結構的延伸方向不同的多個區域變得容易，能夠進行與最終制品相符的線柵偏振片的定制、縮短鑄模的制作期間。[0024]又，在將表面具有凹凸結構的多個版的凹凸結構面貼合在低粘著性粘著片上之后，能夠通過接合多個版來制作所述鑄摸。基于這樣的構成，具有凹凸結構的多個版的固定變得容易，能夠提高鑄模制造時的操作性。又，在所述投光用偏振部或者所述受光用偏振部中，能夠將所述第I導電體的延伸方向的偏差或者所述第2導電體的延伸方向的偏差設置在±3度以內。基于這樣的構成，能夠提聞偏振性能，提聞傳感器的探測精度。又，所述第I導電體以及所述第2導電體能夠由粘結性樹脂包埋。基于這樣的構成，由于導電體由粘結性物質包埋，因此能夠防止線柵偏振片的損傷。 又，能夠將所述投光用偏振部和所述受光用偏振部的邊界部設為低透過率。基于這樣的構成，能夠容易地識別邊界部，因此光傳感器的投光器與投光用偏振部的位置對準、光傳感器的受光器與受光用偏振部的位置對準變得容易。又，分離光傳感器裝置內部的投光光路和受光光路變得容易，能夠使得在裝置內部投射光不直接入射到受光器中。又在所述基材上能夠具有基板。由于具有基板，能夠提高線柵偏振片的強度。又，所述投光用偏振部的偏振軸的延伸方向和所述受光用偏振部的偏振軸的延伸方向是正交關系，所述投光用偏振部的偏振軸的延伸方向或者所述受光用偏振部的偏振軸的延伸方向能夠與所述基板的MD方向成45度。基于這樣的構成，在制造エ序中，能夠將蒸鍍源放置在基板的MD方向上，因此能夠提高生產效率。本實用新型的線柵偏振片是使用于具有投光器和受光器的光傳感器的線柵偏振片，其特征在于，所述投光器被配設為發出入射到線柵偏振片的投光用偏振部的投射光，所述受光器被配設為對透過所述線柵偏振片的受光用偏振部的測量光受光，所述線柵偏振片具有所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部，將具有在規定方向上延伸的導電體的偏振部的一部分切出為規定的形狀，分離成被切出的構件和具有與所述被切出的構件相對應的開ロ部的作為切出母材的構件，使所述被切出的構件或者所述作為切出母材的構件旋轉，以使得所述被切出的構件所具有的導電體的延伸方向與所述作為切出母材的構件所具有的導電體的延伸方向成規定的角度，并將所述被切出的構件固定在所述作為切出母材的構件的開ロ部上，由此形成所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部。基于這樣的構成，能夠準確地控制透過投光用偏振部以及受光用偏振部的透過光的偏振方向。進ー步地，在使被切出的構件旋轉后，再將其固定在開ロ部區域，因此尺寸對準等較為容易。又，所述被切出的構件具有η次対稱的形狀，η為正整數，所述被切出的構件或者所述作為切出母材的構件的旋轉角度可以為360° /η。本實用新型的光傳感器的特征在于，使用上述的線柵偏振片。基于這樣的配設，能夠將在光傳感器的制造時ー個一個組裝的偏振片ー下子同時進行組裝，能夠使得エ序簡化以及防止錯誤組裝。又，由于在同一基材表面上具有透過軸方向不同的投光用偏振部以及受光用偏振部，因此不需要進行彎曲偏振片等的加工，確保偏振片的光學特性變得容易。由此，能夠防止偏振片的漏光所導致的誤探測的發生。又，優選的情況為，在基材表面上設有所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部的凹凸結構和導電體的線柵偏振片的與所述基材表面相反的面側，配設有光傳感器的投光器和受光器。通過進行這樣的配設，在線柵偏振片具有基材、以及基板的情況下，即便基板的面內相位差發生了變化，光傳感器也能夠維持優良的探測精度。實用新型的效果通過在具有投光偏振片以及受光用偏振片的光傳感器的制造時使用所述線柵偏振片，能夠同時組裝投光用偏振片以及受光用偏振片，因此與個別組裝這些偏振片的情形相比較，能夠使得偏振片的組裝エ序簡化以及防止錯誤組裝。又，由于在同一基材上具有透 過軸方向不同的投光用偏振部以及受光用偏振部，因此不需要進行彎曲偏振片等的加工，確保偏振片的光學特性變得容易。由此，能夠防止偏振片的漏光所導致的誤探測的問題的發生。

圖I是示出實施形態I所涉及的線柵偏振片的構成的示意圖。圖2是示出實施形態I所涉及的線柵偏振片的構成的截面示意圖。圖3是示出實施形態I所涉及的線柵偏振片的構成的示意圖。圖4的(A) (D)是對實施形態I所涉及的金屬壓模的制造エ序進行說明的截面示意圖。圖5是示出實施形態I所涉及的光傳感器的構成的示意圖。圖6的(A) (B)是示出實施形態I所涉及的光傳感器檢驗出物體的情況的示意圖。圖7是示出光傳感器的構成的示意圖。圖8的(A) (B)是示出光傳感器用的偏振片的制造エ序的示意圖。圖9是示出實施形態2所涉及的線柵偏振片的ー構成的示意圖。圖10是示出實施形態2所涉及的線柵偏振片的其他構成的示意圖。圖11的(A) (C)是示出實施形態2所涉及的線柵偏振片的制造方法的圖。符號說明I、2、3線柵偏振片11投光用偏振部12受光用偏振部13 基材21導電體22凹凸結構101回歸反射型光電傳感器102投光部103 受光部。
具體實施方式
(實施形態I)關于實用新型的實施形態，下面進行具體說明。<線柵偏振片>本實施形態的線柵偏振片被使用于配設了投光器和受光器的光傳感器，該投光器被配設為所發出的投射光入射到線柵偏振片的投光用偏振部，且該受光器被配設為對入射并透過所述線柵偏振片的受光用偏振部的測量光受光。該線柵偏振片是以在相同基材表面上組裝透過軸方向互相不同的投光用偏振部和受光用偏振部而成為特征的線柵偏振片。該線柵偏振片分別具有ー個以上的獨立的投光用偏振部和受光用偏振部。在圖I中不出在基材13表面具有投光用偏振部11和受光用偏振部12的線柵偏振片I的實例。在圖I中，投光用偏振部11中的橫方向(X方向)延伸的線和受光用偏振部12中的縱方向(Y方向)延伸的線表示細線狀的導電體，表示在線柵偏振片I的投光用偏振部11或者受光用偏振部12中，多個細線狀的導電體互相大致平行地(條紋狀地)設置。具有這樣的結構的導電體的線柵偏振片I能夠使與導電體延伸方向垂直的方向(透過軸方向)的偏振光透過。線柵偏振片I的投光用偏振部11和受光用偏振部12的導電體的延伸方向相差90°，由于能使偏振方向有90°差異的兩種偏振光透過，因此能夠使用于利用兩種偏振光的光傳感器。圖2是投光用偏振部11的部分截面不意圖。另外，圖2所不的截面是與導電體延伸方向垂直的方向的截面。在線柵偏振片I中，投光用偏振部11具有形成于基材13上的凹凸結構22和形成在凹凸結構22上的導電體21。在投光用偏振部11中，凹凸結構22(第I凹凸結構)以規定的間隔(間距)向規定的方向(第I方向、在圖2中為垂直于紙面的方向、X方向)延伸。又，導電體21偏設在凹凸結構22的凸部的某一方的側面。S卩，在投光用偏振部11中，導電體21在與凹凸結構22延伸的方向平行的方向上延伸。關于受光用偏振部12,除了導電體21和凹凸結構22的延伸方向之外,都與投光用偏振部11相同。在受光用偏振部12中，凹凸結構22 (第2凹凸結構)以規定的間隔(間距)向規定的方向(第2方向、Y方向)延伸。又，導電體21偏設在凹凸結構22的凸部的某一方的側面，在與凹凸結構22延伸的方向平行的方向上延伸。這樣，通過使導電體21向兩個不同的方向(第I方向和第2方向)延伸，能夠使得透過投光部的偏振光與透過受光部的偏振光不同，因此能夠提高光傳感器的探測精度。又，大多數光傳感器都是將投光用偏振部11的透過軸方向和受光用偏振部12的透過軸方向設成大致正交的關系，因此優選為將第I方向和第2方向設為大致正交的關系。又，由干與光傳感器的光學設計相應的投光用偏振部11以及受光用偏振部12的配置的自由度高，因此能夠在相同基材上分別具有ー個以上投光用偏振部11和受光用偏振部12。例如，如圖3所示，能夠設置4處投光用偏振部11，設置I處受光用偏振部12。又，從偏振性能和使用于光傳感器時的探測精度的觀點考慮，優選為相同的偏振部(例如，投光用偏振部11或者受光用偏振部12)內的任意3點的導電體的延伸方向為±3度以內。投光用偏振部11和受光用偏振部12的邊界部14由難以透過的導電體或難以透光的樹脂包覆，能夠對于規定的波長的光設成低透過率。由此，能夠容易地識別其邊界，因此投光器與投光用偏振部11的位置對準、受光器與受光用偏振部12的位置對準變得容易。又，分離光傳感器裝置內部的投光光路和受光光路變得容易，能夠使得在裝置內部投射光不直接入射到受光器中。另外，低透過率意味著規定波長的光的透過率比投光用偏振部11以及受光用偏振部12的對于規定的波長的光的透過率低。優選為，自然光入射時的透過率為25%以下，進ー步地優選為15%以下。用所述難以透過的導電體或難以透光的樹脂包覆投光用偏振部11和受光用偏振部12的邊界部14時，在邊界部14的基材13表面不存在與形成投光用偏振部11和受光用偏振部12的凹凸結構連接的凹凸結構比較理想。由此，在邊界部的基材表面涂敷含有難以透光的樹脂的涂料時，能夠降低所述涂料以毛細管現象流入凹凸結構、侵入投光用偏振部11以及受光用偏振部12的可能性。另外，從光學特性上來看，優選為導電體21選擇性地設置在被設于基材13上的凹凸結構22的凸部的某一方的側面。另外，優選情況為導電體21的至少一部分位于凹凸結構22的凸部的頂部的上方。通過將導電體21設置成延伸到凸部的頂部的上方，能夠提高偏振分離特性，減少光的損失。又，在與凹凸結構22的延伸方向垂直的面(圖2中所示的 截面，以下稱為“剖面視圖”)中，位于凸部的頂部的上方的導電體21的側面相對于鉛垂方向傾斜，其形狀為頂端逐漸變細，優選情況為與三角形類似的尖鋭形狀。通過將剖面視圖中的位于凸部的頂部上方的導電體21的形狀設為尖鋭形狀，能夠抑制在線柵偏振片I的導電體21結構面設置粘結性樹脂、用粘結性樹脂包埋所述導電體時的平行透過率的降低。又，凹凸結構22在剖面視圖中優選為大致正弦波狀(參照圖2)。由此，能夠ー邊通過斜向蒸鍍法和各向同性蝕刻法將截面中的位于凸部的頂部上方的導電體21的形狀設為尖鋭形狀，一邊使得導電體的厚度(與基材13的主面平行的方向的厚度)等于或者厚于從被設置在基材13上的凹凸結構22的凸部的最高部起沿高度方向下降1/3位置的凸部的厚度。又，由此，能夠抑制由粘結性樹脂包埋線柵偏振片I的導電體21時的平行透過率以及偏振度的降低。又，優選為通過凸部的頂部、沿著凸部的立設方向的凸部軸與通過導電體21的頂部、沿著立設方向的導電體軸不相同(不重疊)的構成。由此，由于能夠增加導電體21和凹凸結構22的接觸面積，因此能夠防止導電體21的剝離。又，由于能夠充分地増大導電體21的厚度(高度)，因此能夠提高線柵偏振片I的偏振分離特性。< 基材>作為構成凹凸結構22的基材13，例如，可以使用玻璃等的無機物材料或者樹脂材料。特別是，通過使用樹脂材料來形成基材13，具有能夠利用輥軋法(英文roll process ；日文ロールプロセス)，以及能夠使線柵偏振片I具有柔韌性(彎曲性)等的優點，因此比較理想。作為基材13能夠使用的樹脂，例如有，聚甲基丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯こ烯樹脂、環烯烴樹脂(C0P)、交聯聚こ烯樹脂、聚氯こ烯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯醚樹脂、變性聚苯醚樹脂、聚醚酰亞胺樹脂、聚醚砜樹脂、聚砜樹脂、聚醚酮樹脂等非結晶性熱塑性樹脂，或者聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)樹脂、聚萘ニ甲酸こニ醇酯樹脂、聚こ烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚對苯ニ甲酸丁ニ醇酯樹脂、芳香族聚酯樹脂、聚甲醛樹脂、聚酰胺樹脂等的結晶性熱塑性樹脂，或者丙烯酸類、環氧類、聚氨酯類等的紫外線(UV)固化型樹脂或熱固化型樹月旨。另外，也可以是將UV固化型樹脂或熱固化型樹脂，和玻璃等的無機基板、所述熱塑性樹月旨、三醋酸酯樹脂組合使用，或者単獨使用來構成基材13。另外，也可以在凹凸結構22的表面上設置用于提高構成凹凸結構22的基材13和導電體21的附著性的薄膜。[0078]另外，作為基材13，可以使用在形成有導電體21的表面上預先設置了凹凸結構22的基材13。另外，如上所述，優選情況為，在與凹凸結構22的延伸方向垂直的的剖面視圖中，由基材13構成的凹凸結構22大致為正弦波形狀。另外，基材13只要在目標波長區域實質上透明即可。另外，在規定的方向上延伸是指，只要凹凸結構22在規定的方向實質上延伸即可，并不需要凹凸結構22的凹凸各自嚴格地平行延伸。表面具有凹凸結構22的基材13的制造方法沒有被特別地限定。例如，可以是本申請人的申請日本專利第4147247號公報所記載的制造方法。在該制造方法中，利用具有采用干渉曝光法而制作的凹凸結構的金屬壓模，將凹凸結構熱轉印到熱塑性樹脂上，并在與賦予了凹凸結構的熱塑性樹脂的凹凸結構的延伸方向相平行的方向上實施自由端ー軸延伸加工。其結果是，轉印到熱塑性樹脂上的凹凸結構的間距被縮小，能夠得到具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)。接著，由得到的具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)，利用電鍍法等方法，制作具有微細的凹凸結構的金屬壓模。利用該金屬壓模，在基材13表面上轉印、形成微細的凹凸結構，由此能夠得到具有凹凸結構的基材13。這時，按照規定的凹凸結構的延伸方向將多個具有微細的凹凸結構的樹脂版(延 伸完成后)切成規定的大小并接合，由此能夠制作在同一版上具有凹凸結構的延伸方向互相不同的區域的樹脂版。因此，能夠采用電鍍法等制作在同一壓模上具有凹凸結構的延伸方向互相不同的區域的金屬壓模。具體地說，在能夠配置多個具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)的平坦的鑄模板31上貼合低粘著性粘著片32(參照圖4的(A))，該低粘著性粘著片32的兩面具有與被附著體的親和性優良、通過剝離而不污染被附著體的低粘著、易剝離性的粘著層。并且，將按照規定的凹凸結構的延伸方向切成規定大小的多個具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)33a、33b設置成規定的配置，以氣泡等不會混入鑄模板上的狀態在低粘著性粘著片32上貼合凹凸結構面(參照圖4的(B))。在這里，為了制作圖I所示的線柵偏振片I用的金屬壓模，對樹脂版33a、33b進行配置使得樹脂版33a與樹脂版33b的凹凸結構大致正交。即，樹脂版33a的凹凸結構相當于線柵偏振片I的投光用偏振部11的凹凸結構，樹脂版33b的凹凸結構相當于線柵偏振片I的受光用偏振部12的凹凸結構。其后，根據需要在多個具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)33a以及33b的間隙填充接合用樹脂34，通過規定的方法進行固化處理并予以接合。進ー步地，將具有粘著層的板35貼合在樹脂版(延伸完成后)33a以及33b的具有凹凸結構面的相反側(參照圖4的(C))。通過將具有微細的凹凸結構的樹脂版(延伸完成后)33a、33b的凹凸結構面貼合于低粘著性粘著片32,能夠降低接合用樹脂34以毛細管現象侵入樹脂版33a、33b的凹凸結構的可能性。作為接合用樹脂34，并沒有特別的限定，在采用固化型的接合用樹脂34的情況下，為了防止樹脂版33a、33b的端部的變形、配置位置的變化，優選為將固化前后的體積收縮率設為10%以下，更優選的情況是體積收縮率為5%以下。又，只要粘度為lOOOcps (溫度25度)以上，就能夠降低接合時接合用樹脂34侵入凹凸結構的可能性。作為固化型的接合用樹脂34，例如有丙烯酸系、環氧系，聚氨酯系等的光固化型樹脂等，根據需要，在氮氣氛圍下實施固化處理(光照射)較為理想。使接合用樹脂34固化之后，從所述鑄模板31上的粘著片32剝離，由此能夠制造在同一版上具有凹凸結構的延伸方向互相不同區域的樹脂版(參照圖4(D))，能夠采用電鍍法等制作在同一壓模上具有凹凸結構的延伸方向互相不同的區域的金屬壓模。[0082]其他，還有應用半導體制造的光刻在硅系基板等形成微細的凹凸結構而采用的方法。采用該方法的話，例如，采用與上述方法相同的方法接合形成有微細的凹凸結構的硅系基板，將接合了的硅系基板作為鑄模制作在表面具有微細的凹凸結構的樹脂版。并且，由樹脂板，采用電鍍法等方法，制作具有微細的凹凸結構的金屬壓模。<導電體>導電體21被設置在具有凹凸結構22的基材13的表面上。如上述那樣，在表面形成有凹凸結構22的基材13上設置導電體21吋，優選設置成導電體21與凸部的一方的側面相接，且導電體21的上部延伸到凸部的頂部的上方。導電體21，與在規定的方向上延伸的凹凸結構22的凸部大致平行地以規定的間隔(周期)被形成為直線狀，在該直線狀的導電體21的周期比可見光的波長小的情況下，可以成為反射相對于導電體21在平行方向上振動的偏振成分、且透射垂直的偏振成分的偏振部件。作為導電體21可以使用鋁、銀、銅、白金、金，或者以這些金屬中的某ー種為成分的 合金，且可以通過斜向噴鍍法、斜向蒸鍍法形成。特別是，通過使用鋁或者銀形成導電體21能夠減小可見光的吸收損失，因此較為理想。一般來說具有線柵結構的偏振片，導電體21的間隔(間距)越小則越在較寬波長區域內呈現優良的偏振特性。在導電體21與空氣(折射率為I. O)接觸、不被粘結性物質包埋的情況下，通過將導電體21的間距設為作為對象的光的波長的1/4 1/3，可以呈現實用上充分的偏振特性，然而在用粘結性物質包埋導電體的情況下，考慮到粘結性物質的折射率的影響，更優的情況為將間距設為作為對象的光的波長的1/5 1/4。光傳感器所使用的光的波長大多數情況為600nm以上。因此，只要是間距為150nm以下的線柵偏振片，即便為了防止導電體的損傷而用粘結性樹脂包埋，也不會在光學特性方面產生實用上的問題。但是，在需要具有高偏振特性、且高耐損傷性的線柵偏振片的情況下，不僅減小間距，而且使得剖面視圖中的導電體的形狀最優化的方法也是有效的。作為由粘結性樹脂包埋時的優選的導電體的形狀，如上所述，在剖面視圖中，使得導電體的厚度等于或者厚于從基材表面的凹凸結構的凸部的最高部起沿高度方向下降1/3位置的凸部的厚度。又，位于所述基材表面的凹凸結構的凸部的頂部的上方的導電體的側面相對于基材表面的垂直方向傾斜，其形狀為頂端逐漸變細，優選情況為做成與三角形類似的尖鋭形狀。這樣的形狀的導電體，在剖面視圖中，基材表面的凹凸結構為正弦波形狀，通過采用后述的斜向蒸鍍法和各向同性蝕刻法，可以容易地實現。通過制作具有這樣的導電體的形狀的線柵偏振片，即便用粘結性樹脂包埋導電體，也能夠抑制600nm以上的波長的光的偏振度的降低，且能夠抑制不到600nm的短波長的光的偏振度的降低，能夠做成具有通用性的光傳感器用線柵偏振片。<導電體形成方法>考慮到生產率、光學特性等，導電體21的形成方法采用的是從相對于基材13 (凹凸結構22)的垂直方向傾斜的方向進行蒸鍍的方法(斜向蒸鍍法)。斜向蒸鍍法是指，以金屬粒子相對于與基材13表面垂直的方向從規定的角度入射的方式進行蒸鍍并層積金屬的方法。入射角度由凹凸結構22的凸部和所制作的導電體21的剖面形狀來決定優選的范圍，一般來說，優選為5° 45°，更優選為5° 35°。進ー步，考慮到蒸鍍中層積的金屬的投影效果，逐漸地減小或者増加入射角度，適合于控制導電體21的高度等剖面形狀。另外，在基材13表面彎曲的情況下，也可以從相對于基材13表面的法線方向傾斜的方向進行蒸鍍。具體來說，基材13在表面具有在特定方向以規定的間距大致平行地延伸的凹凸結構，相對于基材13表面的被蒸鍍區域的中心的垂直方向在5°以上不到45°的方向上設置蒸鍍源的中心，從而在凹凸結構上形成導電體21。進ー步優選為,在相對于基材13表面的被蒸鍍區域的中心的垂直方向為5°以上不到35°的角度方向上、且在相對于基材13表面上的凹凸結構22的延伸方向為40°以上90°以下的角度方向上設置蒸鍍源的中心。由此，能夠將導電體21有選擇地設置在基材13上所具有的凹凸結構22的凸部的某一方側面上。另外，在邊傳送基材13 —邊蒸鍍的情況下，也可以是以在某一瞬間被蒸鍍區域的中心和蒸鍍源的中心滿足上述的條件的狀態進行蒸鍍。又，只要避免從投光用偏振部11和受光用偏振部12的凹凸結構22的延伸方向進行蒸鍍的情況，導電體21就能夠形成。由于大多數光傳感器都將投光用偏振部11的透過軸方向和受光用偏振部12的透過軸方向做成大致正交的關系，考慮到上述的蒸鍍源的位置條件，優選為線柵偏振片I的投光用偏振部11的凹凸結構22的延伸方向和受光用偏振·鍍源放置在基材13的MD方向上，因此能夠提高生產效率。利用上述斜向蒸鍍法的情況下，基材表面的凹凸結構22的凸部和導電體21的延伸方向相同。為了達成導電體21的形狀的金屬蒸鍍量由凹凸結構22的凸部的形狀而定，但一般來說，平均蒸鍍厚度為50nm 200nm左右。這里所說的平均厚度是指，假定在平滑玻璃基板上從與玻璃面相垂直的方向蒸鍍物質時的蒸鍍物的厚度，作為金屬蒸鍍量的參考值來使用。另外，從光學特性的觀點來看，優選為通過刻蝕去除不必要的導電體21。對于刻蝕方法沒有特別的限制，只要是不會給構成凹凸結構22的基材13、介電體層帶來不良影響，能夠有選擇性地去除導電體21的方法即可，從生產率以及導電體21的形狀控制的觀點出發，優選為浸潰到堿性的水溶液中的方法。〈介電體〉在本實施形態所示的線柵犏振片I中，為了提高構成基材13的材料和導電體21之間的附著性，可以在兩者之間適當地使用與兩者的附著性都較高的介電體材料。例如，可以使用ニ氧化硅等硅(Si)的氧化物、氮化物、鹵化物、碳化物的單ー成分或者其混合物(向介電體單一成分中混入其他元素、單ー成分、或者化合物的介電體)、鋁(Al)、鉻(Cr)、釔(Y)、鋯(Zr)、鉭(Ta)、鈦(Ti)、鋇(Ba)、銦(In)、錫(Sn)、鋅(Zn)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鈰(Ce)、銅(Cu)等的金屬的氧化物、氮化物、鹵化物、碳化物的單ー成分或者它們的混合物。只要介電體材料在想要獲得透過偏振性能的波長區域內實質上透明即可。對介電體材料的層積方法沒有特別的限制，例如，可以適當地使用真空蒸鍍法、噴鍍法、離子鍍敷法等物理蒸鍍法。< 基板 >本實用新型的線柵犏振片I也能夠使用保持具有凹凸結構22的基材13的基板。作為基板，可以使用玻璃等無機材料、樹脂材料，但優選為使用能夠通過輥軋法制造線柵偏振片I的平板狀的樹脂材料。另外，基板在線柵偏振片I中不是必須的構成。例如，僅采用基材13也能夠構成線柵偏振片I。[0099]作為樹脂材料，例如有，聚甲基丙烯酸樹脂(PMMA)、聚碳酸酯樹脂、聚苯こ烯樹脂、環烯烴樹脂(C0P)、交聯聚こ烯樹脂、聚氯こ烯樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯醚樹脂、改性聚苯醚樹脂、聚醚酰亞胺樹脂、聚醚砜樹脂、聚砜樹脂、聚醚酮樹脂、聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)樹脂、聚萘ニ甲酸こニ醇酯樹脂、聚こ烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚對苯ニ甲酸丁ニ醇酯樹月旨、芳香族聚酯樹脂、聚甲醛樹脂、聚酰胺樹脂、三醋酸酯纖維素系樹脂(TAC)等、或者丙烯酸類、環氧類、聚氨酯類等的紫外線(UV)固化型樹脂或熱固化型樹脂。另タト，也可以將UV固化型樹脂或熱固化型樹脂，和玻璃等的無機基板、熱塑性樹脂等組合使用，或者単獨使用這些材料。為了避免偏振度低下，優選為降低相對于規定波長的基板的面內相位差值，例如考慮利用可見光時，優選為相對于波長550nm的相位差的值為30nm以下。更為優選的情況為15nm以下。另外，為了防止線柵偏振片I引起的偏振的偏振度在面內不均勻，需要對基板面內的任意兩點的相位差值進行管理，例如考慮利用可見光時，優選為相對于波長550nm的面內相位差值為IOnm以下，更為優選的情況是相位差值為5nm以下。作為具有如此特性的基板，優選使用TAC (三醋酸酯纖維素)樹脂、COP (環烯烴聚合物)、PC (聚碳酸酷)、PMMA(聚甲基丙烯酸)等樹脂材料。〈粘結性樹脂〉本實用新型的線柵偏振片1，出于其導電體21的形狀考慮，將粘結性樹脂設置在所述線柵偏振片I的導電體21的結構面上，由粘結性樹脂包埋所述導電體21，即便在這種情況下也能夠減小平行透過率以及偏振度的降低幅度。因此，也可以將粘結性樹脂設置在線柵偏振片I的導電體結構面上。又，也能夠在其相反的面設置粘結性樹脂。通過設置粘結性樹脂，能夠進行與其他光學構件的貼合。又，在線柵偏振片I的基板上采用樹脂材料(光學用途的膜等所使用的材料)的情況下，能夠提高在高溫高濕環境下的制品可靠性。又，通過在所述線柵偏振片I的導電體21結構面設置粘結性樹脂，導電體21由粘結性物質包埋，因此能夠將粘結性樹脂做成用于防止損傷的保護層。被控制了面內相位差值的光學用途的膜的慢軸方向，一般來說與作為基板使用的膜的MD方向或者TD方向大致一致。例如，在使線柵偏振片I的投光用偏振部11的透過軸方向和受光用偏振部12的透過軸方向為大致正交的關系時，投光用偏振部11的凹凸結構的延伸方向和受光用偏振部12的凹凸結構的延伸方向優選為與基板的MD方向成大約45度，但這樣構成的話，將光學用途的膜用作基板，通過輥軋法制造的線柵偏振片的各個偏振部的透過軸方向相對于基板的慢軸方向傾斜而不一致。光學用途的膜如果在高溫高濕度環 境下長期保管的話，膜的定向狀態發生變化，其結果，面內相位差值會發生變化，例如，在由TAC樹脂構成的膜中，就有面內相位差值增大的情況。本實用新型的線柵偏振片I由于基板的慢軸與投光用偏振部11以及受光用偏振部12的凹凸結構的延伸方向即透過軸方向不基本一致，因此容易受到所述面內相位差值的増大的影響，偏振度有時會下降。為了減小膜的定向狀態的變化，防止線柵偏振片I的各個偏振部的偏振度降低，通過粘結性樹脂將使用由TAC樹脂構成的膜作為基板的線柵偏振片I進ー步地粘合在固定材、例如玻璃板上是有效的。由此，可以提聞制品的可·性。作為粘結性樹脂，例如能夠使用通過UV照射固化的UV固化型樹脂或將粘著劑制成片狀的粘著片。尤其是，在導電體構造面上具有粘結性樹脂來包埋導電體21的情況下，優選為使用在所述粘結性樹脂中盡可能不含酸的材料。通過用盡可能不含酸的材料包覆線柵偏振片I的導電體21，能夠在不產生由粘結性樹脂所含有的酸引起的導電體21的劣化的狀態下，防止導電體21的劃傷以及抑制上述的各個偏振部的偏振度降低。又，在基材表面或者基板表面具有所述粘結性樹脂的情況下，能夠在不產生由粘結性樹脂所含有的酸引起的基材13或者基板的劣化的狀態下，抑制上述的各個偏振部的偏振度降低。又，通過使用粘著片，當在高溫高濕度環境下長期保管時，能夠緩和線柵偏振片I的基板等的膨脹以及收縮，能夠抑制基板等的面相位差值的變化，因此比較理想。作為粘著片，相對于玻璃的粘著力為I. 5N/25mm以上，優選為使用5. 0N/25mm以上的粘著片。另外，由丙烯酸系樹脂、硅系樹脂、聚氨酯系樹脂、聚酯系樹脂、環氧系樹脂等的樹脂構成的粘著片，從光學特性、膠粘力、成本等的觀點來看較為理想。另外，本實用新型所涉及的線柵偏振片I能夠在可見光、近紅外光、以及紅外光的區域不損害光學特性地使用，因此能夠在利用該區域的回歸反射型光電傳感器或生物認證裝置這樣的光傳感器的用途上適用。然而，本實用新型并不限于所述的實施形態，可以進行各種變更來實施。另外，所述實施形態的材質、數量等僅為一個示例，可能進行適當地變更。 另外，可以在不超出本實用新型的技術上的思想的范圍內進行適當地變更來實施。<光傳感器>在光傳感器中，配設投光器使得該投光器所發出的投射光入射到線柵偏振片I的投光用偏振部11，且配設受光器以對入射并透過所述線柵偏振片I的受光用偏振部12的測量光受光。作為投光器，例如使用的是LED，作為受光器，例如使用光敏電阻(7 ^■卜> 7 7夕)。作為光傳感器，例如有回歸反射型光電傳感器101 (參照圖5)。回歸反射型光電傳感器101的投光部102和受光部103相鄰接，各個偏振片在大致同一平面上(在圖5中，回歸反射型光電傳感器101的框體的一個面上)，其透過軸成為大致正交的關系。在將線柵偏振片I用于回歸反射型光電傳感器101中時,在投光部102配置有投光用偏振部11,在受光部103配置有受光用偏振部12。回歸反射型光電傳感器101，作為其使用方法的一個實例，其被用于生產線上的制品輸送狀況等的檢測。這時，使用能夠通過反射使偏振狀態變化的回歸反射板104。又，回歸反射板104配置為，能夠使來自回歸反射型光電傳感器101的投光部102的光反射并使其入射到受光部103。在從投光部102發出的偏振光由回歸反射板104反射了的情況下，反射光的偏振狀態相對于入射光發生變化，因此反射光能夠透過受光用偏振片，受光器所受到的光的強度變大(參照圖6的(A))。另一個方面，在從投光部102發出的偏振光碰到通過傳感器以及回歸反射板之間的物體105時，受光器所受到的光的強度變小(參照圖6的(B))。因此，通過反射光的強度能夠檢驗出通過回歸反射型光電傳感器101以及回歸反射板104之間的物體的有無。這樣，通過將圖I等所示的本實施形態的線柵偏振片I用于光傳感器，能夠將在偏振片光傳感器的制造時一個一個組裝的偏振片一下子同時進行組裝，能夠使得工序簡化以及防止錯誤組裝。又，線柵偏振片I能夠使投光用偏振部11和受光用偏振部12的邊界部14為低透過率，因此投射光和入射光的分離特性良好，能夠提高傳感器的檢測精度以及防止誤探測。[0112]又，由于在同一基材13表面上具有透過軸方向不同的投光用偏振部11以及受光用偏振部12，因此不需要進行彎曲偏振片等的加工，確保偏振片的光學特性變得容易。由此，能夠防止偏振片的漏光所導致的誤探測的問題的發生。另外，在線柵偏振片I的所述投光用偏振部和所述受光用偏振部的設置有凹凸結構和導電體的基材表面的相反的面(背面)側，配設投光器和受光器比較理想。通過進行這樣的配設，即便線柵偏振片的基板的面內相位差發生了變化，光傳感器也能夠維持優良的探測精度。(實施形態2)在本實施形態中，對與上述實施形態不同樣態的線柵偏振片進行說明。另外，在本實施形態中，僅對與上述實施形態不同的部分進行說明，對于共同的部分將省略其說明。圖9以及圖10是示出本實施形態所涉及的線柵偏振片2以及線柵偏振片3的構成的示意圖。
圖11的(A) (C)是示出本實施形態所涉及的線柵偏振片2的制造方法的圖。如圖9所示，本實施形態的線柵偏振片2包含含有在橫方向(X方向)延伸的細線狀的導電體的投光用偏振部11、以及含有在縱方向(Y方向)延伸的細線狀的導電體的受光用偏振部12而構成。投光用偏振部11的外形為大致正方形狀，在投光用偏振部11的中央附近配置有具有大致正方形狀的外形的受光用偏振部12。又，如圖10所示，本實施形態所涉及的線柵偏振片3包含含有在橫方向(X方向)延伸的細線狀的導電體的投光用偏振部11、以及含有在縱方向(Y方向)延伸的細線狀的導電體的受光用偏振部12而構成。投光用偏振部11的外形為大致正方形狀，在投光用偏振部11的中央附近配置有具有菱形狀的外形的受光用偏振部12。另外，根據設計，線柵偏振片2以及線柵偏振片3也可以固定在基板等上。投光用偏振部11以及受光用偏振部12的構成與線柵偏振片I相同。接著，對線柵偏振片2的制造方法進行說明。如圖11的(A)所示，首先，制作具有偏振部41的線柵偏振片。具有偏振部41的線柵偏振片能夠通過在構成凹凸結構的基材的表面形成在凹凸結構的延伸方向上延伸的細線狀的導電體來制作。接著，如圖11的(B)所示，之后將成為受光用偏振部12的偏振部41的一部分P切為正方形狀。由此，形成了具有正方形狀的開口部Q的投光用偏振部11。在這里，雖然切去了偏振部41的中央附近的一部分P，但切去的部分只要是投光用偏振部11的一部分即可，并沒有特別的限定。其后，如圖11的(C)所示，使切出的構件(偏振部41的一部分P)旋轉90°，并將其固定在投光用偏振部11的開口部Q中。由此，能夠得到以下這樣的線柵偏振片2，該線柵偏振片2具有導電體在規定方向上延伸的投光用偏振部11、以及由所切出的構件構成的、導電體以相對于規定方向呈90°的角度延伸的受光用偏振部12。另外，投光用偏振部11與受光用偏振部12的關系可以更換。即，可以使所切出的構件作為投光用偏振部11起作用。又，也可以不使所切出的構件(偏振部41的一部分P)旋轉，而是使作為切出母材的構件旋轉。另外，線柵偏振片3的制造方法與線柵偏振片2的制造方法相同。這樣，在采用從投光用偏振部11切出的構件構成受光用偏振部12的情況下，能夠通過高精度地進行切出(參照圖11的(B))來高精度地控制旋轉(參照圖11的(C))的角度，因此能夠準確地控制在投光用偏振部11透過的偏振方向和在受光用偏振部12透過的偏振方向。即，能夠準確地使在投光用偏振部11透過的偏振方向與在受光用偏振部12透過的偏振方向正交，能夠提高使用于光傳感器時的對比度性能。進一步地，在使被切出的構件旋轉后，再將其固定在開口區域，因此尺寸對準等較為容易。另外，在這里，是將投光用偏振部11的一部分P切出為正方形狀，但被切出的形狀并不限定于此。為了使得在投光用偏振部11透過的偏振方向與在受光用偏振部12透過的偏振方向準確地正交，至少被切出的形狀為4次對稱即可。一般來說，n次對稱(n次旋轉對稱)是指使某形狀繞其中心旋轉360° /n的角度時與其自身重合的情形。即，4次對稱是指使某形狀繞其中心旋轉360° /4=90°的角度時與其自身重合的情形。又，在投光用偏振部11透過的偏振方向與在受光用偏振部12透過的偏振方向可以以正交(90° )以外的關系進行控制。在投光用偏振部11透過的偏振方向與在受光用偏振部12透過的偏振方向所成的角度可以由所切出的構件的旋轉角度來控制。在這里，將旋轉角度設為360° /n (n為正整數)時，被切出的形狀為n次對稱即可。作為n次對稱的形狀，例如能夠列舉正n邊形。通過這樣控制被切出的形狀，能夠準確地控制旋轉的角度，因此能夠準確地控制在投光用偏振部11透過的偏振方向與在受光用偏振部12透過的偏振方向所成的角度。 又，被切出的區域可以有多處。進一步地，被切出的多個構件的旋轉角度可以根據用途而有所不同。例如，在某區域以3次對稱的形狀切出并使其旋轉120°，在其他區域以5次對稱的形狀切出并使其旋轉72°這樣的情況也是可以的。又，在本實施形態示出的制造方法，除了如上述那樣用于透過型的線柵偏振片的制造之外，在對于作為一般的反射型偏振片的樹脂層疊型的偏振片、使用玻璃基材的線柵偏振片等控制偏振方向時也能夠使用。在這些情況下，也能夠實現偏振方向的準確的控制。如上所述，本實施形態所涉及的線柵偏振片2以及線柵偏振片3能夠采用單一的線柵偏振片制作，因此不需要為了實現偏振方向而采用特殊的鑄模。由此，能夠抑制制造成本。另外，本實施形態的構成能夠與其他實施形態的構成適當地組合使用。(實施例I)在本實施例中，對于圖I等所示的線柵偏振片，確認將凹凸結構做成正弦波時的光學特性等。以下，進行詳細的說明，但是本實用新型并不限定于實施例的構成。(使用UV固化型樹脂的轉印膜的制作)首先，制作線柵偏振片所使用的、具有凹凸結構的延伸方向不同的區域的轉印膜。具有凹凸結構的延伸方向不同的區域的轉印膜的制造中使用的是Ni制的模具。接合在剖面視圖中具有大致正弦波狀的凹凸結構的樹脂版，制作在同一版上具有凹凸結構的延伸方向互相正交的區域的樹脂版(鑄模)，通過電鍍法由樹脂版(鑄模)制作Ni制的模具。將該Ni模具作為模具A (圖4的(A) (D)等)。作為基板，使用的是厚度為SOym的由三醋酸酯纖維素系樹脂構成的TAC膜(TD80UL — H :富士膠片株式會社制)。TAC膜的相對于波長550nm的面內相位差值為3. 3nm，慢軸與MD方向基本一致。另外，作為面內相位差值的測量設備，使用的是作為利用平行尼科耳法的偏振解析裝置的王子計測機器株式會社制的KOBRA - WR0測量光的波長為550nm，將入射角度為0度時的相位差值作為面內相位差值。在上述TAC膜上涂敷大約3 u m丙烯酸系UV固化型樹脂(折射率I. 52)，以模具A的凹凸結構的延伸方向與TAC膜上的MD方向所成的角度為45度的形態，將模具A重疊在TAC膜上。操作中心波長為365nm的UV燈，從TAC膜側進行lOOOmJ/cm2的UV照射，從而將模具A的凹凸結構轉印到UV固化型樹脂上。其后，將TAC膜從模具上剝離，從而制成長300mm、寬200mm的在由UV固化型樹脂構成的基材表面轉印了凹凸結構的轉印膜A。轉印膜A中，凹凸結構的延伸方向與TAC膜的MD方向所成角度為45度。確認轉印膜A的剖面視圖后發現，凹凸結構的間距為145nm，為大致正弦波狀。〈使用噴鍍法的介電體層的形成〉接著，在轉印膜A的具有凹凸結構的基材表面上，通過噴鍍法將二氧化硅成膜作為介電體層。噴鍍裝置的條件為，Ar氣體壓力0. 2Pa、噴鍍功率770W/cm2、覆蓋速度0. Inm/S。根據該條件，對介電體層進行成膜使得轉印膜A上的介電體層的厚度換算成平膜為3nm。(利用斜向蒸鍍法的導電體的形成)接著，在成膜了介電體層的轉印膜A的具有凹凸結構的基材表面上，通過真空蒸鍍將鋁(Al)成膜。鋁膜的成膜條件為常溫下、真空度2.0X10_3Pa、蒸鍍速度40nm/s。為了 測量鋁膜的厚度，將表面平滑的玻璃基板與轉印膜A同時插入到裝置中，將平滑玻璃基板上的鋁膜的厚度作為鋁膜的平均厚度。調整轉印膜A，以使得在與基板的膜寬方向(TD方向)垂直相交的平面內，蒸鍍源相對于基板的垂直方向位于30度的角度方向，又，調整轉印膜A，以使得蒸鍍源存在于與基板垂直的、與轉印膜A的凹凸結構的延伸方向呈45度角度的平面內，蒸鍍Al使得鋁膜的平均厚度為120nm。另外，在此所說的平均厚度是指，假設在平滑玻璃基板上從與玻璃面相垂直的方向蒸鍍物質時的蒸鍍物的厚度，作為蒸鍍量的參考值來使用。〈不必要的鋁膜的去除〉接著，以去除不必要的鋁膜為目的，將蒸鍍了鋁膜的轉印膜A在室溫下浸潰于0. I重量％的氫氧化鈉水溶液中70秒鐘,然后立即水洗,將膜干燥。<光學特性的評價>對以轉印膜A為母材制作的線柵偏振片A的任意的偏振部的平行透過率以及垂直透過率進行測量，從而計算偏振度。利用日本分光株式會社生產的VAP-7070測量平行透過率以及垂直透過率。測量裝置在光源附近具有測量用偏振片，測量線柵偏振片A的平行透過率以及垂直透過率時，被配置成光從線柵偏振片A的基材上的與導電體結構面相反的面(基板面)入射。將相對于導電體平行振動的波長入的光的透過率作為Imin，將在垂直方向振動的波長、的光的透過率作為Imax，通過以下的關系式求出波長\的偏振度P’ (A)0P，( A ) = [ (Imax-Imin) / (Imax+Imin) ] X 100%表I中記載了根據所述透過率測量方法算出的單體透過率(可見度校正值)和對于波長550nm的偏振度。另外，線柵偏振片A的導電體的延伸方向相對于基板的MD方向具有45度的角度，同一偏振部中的導電體的延伸方向的偏差在±0.6度以內。線柵偏振片A,在任意的偏振部的剖面視圖中，導電體都偏設在基材上的凹凸結構的凸部的一方的側面上。又，導電體的一部分存在于凹凸結構的凸部的頂部的上方，導電體的位于凸部的頂部的上方的側面相對于鉛垂方向傾斜，其形狀為與三角形相似的尖銳形狀。位于凸部側面的導電體的相對于基材平行的方向上的厚度為30nm以上。又，通過基材上的凹凸結構的凸部的頂部、且沿著凸部的立設方向的凸部軸與通過導電體的頂部、且沿著立設方向的導電體軸不同。[0142](實施例2)在本實施例中，對于圖I等所示的線柵偏振片，確認了將凹凸結構做成矩形形狀時的光學特性等。以下，進行詳細的說明，但是本實用新型并不限定于實施例的構成。<使用UV固化型樹脂的轉印膜的制作>首先，制作線柵偏振片所使用的、具有凹凸結構的延伸方向不同的區域的轉印膜。具有凹凸結構的延伸方向不同的區域的轉印膜的制造中使用的是Ni制的模具。接合在剖面視圖中具有大致矩形形狀的凹凸結構的樹脂版，制造在同一版上具有凹凸結構的延伸方向互相正交的區域的樹脂版(鑄模)，通過電鍍法由所述樹脂版(鑄模)制作Ni制的模具。將該Ni模具作為模具B。與實施例I的模具A的不同僅在于凹凸結構為大致矩形形狀這一點。通過與實施例I相同的工序，得到凹凸結構被轉印到由UV固化型樹脂構成的基材表面上的轉印膜B。另外，除了使用模具B替代模具A這一點之外，通過與實施例I相同的工序來制作轉印膜B。確認轉印膜B的剖面視圖后發現，凹凸結構的間距寬度為145nm，為大致矩形形狀。〈使用噴鍍法的介電體層的形成〉其后，通過與實施例I相同的工序，在轉印膜B的具有凹凸結構的基材表面上，通過噴鍍法將二氧化硅成膜作為介電體層。<利用斜向蒸鍍法的導電體的形成>接著，在成膜了電介質層的轉印膜B的具有凹凸結構的基材表面上，通過真空蒸鍍使鋁(Al)膜成膜。工序的詳細情況與實施例I相同。<不必要的鋁膜的去除>接著，以去除不必要的鋁膜為目的，將蒸鍍了鋁膜的轉印膜B在室溫下浸潰于0. I重量％的氫氧化鈉水溶液中70秒鐘。然后立即進行水洗,使膜干燥。<光學特性的評價>對以轉印膜B為母材制作的線柵偏振片B的任意的偏振部的平行透過率以及垂直透過率進行測量，從而計算偏振度。測量的詳細情況與實施例I相同。表I中記載了根據所述透過率測量方法算出的單體透過率(可見度校正值)和對于波長550nm的偏振度。另外，線柵偏振片B的導電體的延伸方向相對于基板的MD方向具有45度的角度，同一偏振部中的導電體的延伸方向的偏差在±0. 7度以內。線柵偏振片B,在任意的偏振部的剖面視圖中，導電體都偏設在基材上的凹凸結構的凸部的一方的側面上。又，導電體的一部分存在于凹凸結構的凸部的頂部的上方，但導電體的位于凸部的頂部的上方的側面相對于鉛垂方向大致平行，其形狀為大致矩形或者大致梯形形狀。又，通過基材上的凹凸結構的凸部的頂部、且沿著凸部的立設方向的凸部軸與通過導電體的頂部、且沿著立設方向的導電體軸不同。(實施例3)在本實施例中，確認了由粘結性樹脂包埋線柵偏振片的導電體時的光學特性等。以下，進行詳細的說明，但是本實用新型并不限定于實施例的構成。首先，將在兩表面都具有剝離膜的丙烯酸系粘著片的一方的剝離膜剝離，并將丙、烯酸系粘著片貼合在線柵偏振片A的基材上的導電體結構面上。其后，將包埋有導電體的線柵偏振片A的粘著片的剝離膜剝離，并將粘著片貼合于平板狀的玻璃板(TEMPAX、厚度
I.Imm)之后，在室溫下保管24小時。將所得物作為貼合體I。又，相同地，使用線柵偏振片B制作了貼合體II。<粘結強度的測量>對于貼合體I，測量丙烯酸系粘著片的與玻璃的粘結強度。粘著片的粘結強度，除了將試驗板從SUS鋼板變更為玻璃板之外，都按照JIS — Z — 0237標準來測量。將兩面具有剝離膜的粘著片切成寬度為25mm，將其一方的面貼合到PET膜上而制成試驗片，將該試驗片貼合到作為試驗板的玻璃板上。貼合到試驗板上，在室溫下放置20分鐘之后，利用拉伸試驗機(條件為剝離速度300mm/分、剝離角度180° )測量玻璃與粘著劑之間的粘結力。被這樣測量到的丙烯酸系粘著片的與玻璃的粘結強度為8. 6N/25mm。<光學特性的評價>測量貼合體I、貼合體II的任意的偏振部的平行透過率以及垂直透過率，從而計算偏振度。表I中記載了根據所述透過率測量方法算出的單體透過率(可見度校正值)和對于波長550nm的偏振度。貼合體I以及貼合體II是將丙烯酸系粘著片貼合在線柵偏振片A以及線柵偏振片B的基材上的導電體結構面上從而包埋了導電體。關于粘著片貼合前后的被校正了可見度的單體透過率以及對于波長550nm的偏振度的變化,與線柵偏振片B相比較,線柵偏振片A的變化較小，透過率以及偏振度的降低較小。這是因為，在剖面視圖中，線柵偏振片A的基材的凹凸結構為大致正弦波狀，位于凹凸結構的凸部的頂部的上方的導電體形狀為尖銳形狀，又，位于凸部側面的導電體的相對于基材平行的方向的厚度足夠厚，為30nm以上。(實施例4)在本實施例中，確認了將線柵偏振片貼合于固定材時的光學特性等。以下，進行詳細的說明，但是本實用新型并不限定于實施例的構成。首先，將在兩表面都具有剝離膜的丙烯酸系粘著片的一方的剝離膜剝離，并將丙烯酸系粘著片貼合在線柵偏振片A的基材上的與導電體結構面相反的面(基板面)上。其后，將在基板面具有所述粘著片的所述線柵偏振片A的粘著片的剝離膜剝離，并將粘著片貼合于平板狀的玻璃板(TEMPAX、厚度I. Imm)之后，在室溫下保管24小時。將所得物作為貼合體III。另外，丙烯酸系粘著片與實施例3相同。將線柵偏振片A以及貼合體III放入溫度為85度、相對濕度為85%的恒溫恒濕槽(型號U - 2002 ^ (Isuzu)制作所公司制)，進行了 600小時的恒溫恒濕試驗。表2中示出線柵偏振片A、貼合體III的任意的偏振部的偏振度的變化。在上述條件下進行了 600小時恒溫恒濕試驗之后，如上所述，線柵偏振片A發生了偏振度的降低，但是未發現將基板面貼合于玻璃板上的貼合體III發生變化。又，觀察線柵偏振片A的外觀的話，確認到在恒溫恒濕試驗以前未曾發現的外觀異常(線柵偏振片A發生卷邊或褶皺)，但是貼合體III上并沒有發現顯著的外觀變化。這是因為，使用于線柵偏振片A的基板的由TAC樹脂構成的膜由于在高溫高濕度環境下的長期保管，膜的定向狀態發生了變化，從而面內相位差發生了變化。貼合體III通過粘著片將以由TAC樹脂構成的膜作為基板的線柵偏振片貼合于固定材上，由于能夠減小在高溫高濕度環境下的長期保管所導致的所述膜的定向狀態的變化，因此能夠防止貼合體III的任意的偏振部的偏振度降低。表I
權利要求1.一種線柵偏振片，其是使用于具有投光器和受光器的光傳感器的線柵偏振片，其特征在于，所述投光器被配設為發出入射到線柵偏振片的投光用偏振部的投射光，所述受光器被配設為對透過所述線柵偏振片的受光用偏振部的測量光受光，在同一基材表面上制入有透過軸方向互相不同的所述投光用偏振部和所述受光用偏振部。
2.如權利要求I所述的線柵偏振片，其特征在于，所述投光用偏振部具有在與該投光用偏振部的凹凸結構延伸方向垂直的截面中，凹凸結構以規定的間隔向第一方向延伸的第I凹凸結構部，以及被偏設在所述第I凹凸結構部的凸部的某一方的側面上的第I導電體，所述受光用偏振部具有凹凸結構以規定的間隔向與所述第一方向不同的第2方向延伸的第2凹凸結構部，以及被偏設在所述第2凹凸結構部的凸部的某一方的側面上的第2導電體。
3.如權利要求2所述的線柵偏振片，其特征在于，所述凹凸結構通過由樹脂形成的基材來構成。
4.如權利要求2或3所述的線柵偏振片，其特征在于，在與所述凹凸結構延伸方向垂直的截面中，所述凹凸結構為大致正弦波狀的形狀，并使得通過導電體的頂部且沿著導電體的立設方向的導電體軸與通過所述凹凸結構的凸部的頂部且沿著所述凸部的立設方向的凸部軸不同。
5.如權利要求2或3所述的線柵偏振片，其特征在于，將所述基材表面的所述投光用偏振部與所述受光用偏振部的邊界部作為沒有凹凸結構的區域，該凹凸結構的區域是與形成所述投光用偏振部或者所述受光用偏振部的所述凹凸結構相連的。
6.如權利要求2或3所述的線柵偏振片，其特征在于，所述凹凸結構采用由鑄模制作的金屬壓模通過同一系列的エ序形成，所述鑄模在同一面上具有設有凹凸結構的區域。
7.如權利要求6所述的線柵偏振片，其特征在于，所述鑄模通過對在表面具有凹凸結構的多個版進行接合來制作。
8.如權利要求6所述的線柵偏振片，其特征在于，所述鑄模是在將表面具有凹凸結構的多個版的凹凸結構面貼合在低粘著性粘著片上之后，通過接合多個版而制作的。
9.如權利要求2或3所述的線柵偏振片，其特征在于，在所述投光用偏振部或者所述受光用偏振部中，所述第I導電體的延伸方向的偏差或者所述第2導電體的延伸方向的偏差在±3度以內。
10.如權利要求2或3所述的線柵偏振片，其特征在于，所述第I導電體以及所述第2導電體由粘結性樹脂包埋。
11.如權利要求I或2所述的線柵偏振片，其特征在于，所述投光用偏振部和所述受光用偏振部的邊界部為低透過率。
12.如權利要求I或2所述的線柵偏振片，其特征在于，在所述基材上具有基板。
13.如權利要求12所述的線柵偏振片，其特征在于，所述投光用偏振部的偏振軸的延伸方向和所述受光用偏振部的偏振軸的延伸方向是正交關系，所述投光用偏振部的偏振軸的延伸方向或者所述受光用偏振部的偏振軸的延伸方向與所述基板的MD方向成45度。
14.一種線柵偏振片，其是使用于具有投光器和受光器的光傳感器的線柵偏振片，其特征在于，所述投光器被配設為發出入射到線柵偏振片的投光用偏振部的投射光，所述受光器被配設為對透過所述線柵偏振片的受光用偏振部的測量光受光，所述線柵偏振片具有所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部，將具有在規定方向上延伸的導電體的偏振部的一部分切出為規定的形狀，分尚成被切出的構件和具有與所述被切出的構件相對應的開ロ部的作為切出母材的構件，使所述被切出的構件或者所述作為切出母材的構件旋轉，以使得所述被切出的構件所具有的導電體的延伸方向與所述作為切出母材的構件所具有的導電體的延伸方向成規定的角度，并將所述被切出的構件固定在所述作為切出母材的構件的開ロ部上，由此形成所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部。
15.如權利要求14所述的線柵偏振片，其特征在于，所述被切出的構件具有η次対稱的形狀，η為正整數，所述被切出的構件或者所述作為切出母材的構件的旋轉角度為360° /η。
16.ー種光傳感器，其特征在于，使用權利要求I或2所述的線柵偏振片。
17.如權利要求16所述的光傳感器，其特征在于，在所述基材表面上設有所述投光用偏振部以及所述受光用偏振部的凹凸結構和導電體的線柵偏振片的與所述基材表面相反的面側，配設有投光器和受光器。
專利摘要本實用新型提供一種光傳感器用的線柵偏振片，該線柵偏振片能夠確保光學特性且能夠提高光傳感器的生產率。本實用新型的線柵偏振片(1)是使用于具有投光器和受光器的光傳感器的線柵偏振片(1)，所述投光器被配設為發出入射到線柵偏振片(1)的投光用偏振部(11)的投射光，所述受光器被配設為對透過所述線柵偏振片(1)的受光用偏振部(12)的測量光受光，在同一基材表面上制入有透過軸方向互相不同的所述投光用偏振部(11)和所述受光用偏振部(12)。
文檔編號G01D5/34GK202472026SQ201120432829
公開日2012年10月3日 申請日期2011年11月4日 優先權日2010年11月5日
發明者加藤潤二, 杉山大, 杉村昌治 申請人:旭化成電子材料株式會社