專利名稱：用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置。
背景技術：
三甲基鋁(TMAl)是LED外延生長用非常重要的一種金屬有機化合物。其化學性質非常活潑，遇水爆炸、遇氧燃燒。所以必須在特定的氣氛中將其分解成性質溫和的無機物才能進入儀器進行雜質元素測定，根據方程式2 (CH3) 3A1+1202 = A1203+9H20+6C02 ；TMAl在少量空氣中會緩慢氧化成Al2O3，分解過程中會形成不同晶型的Al2O3，有些晶型的Al2O3無法完全溶解，從而造成分析結果的偏差。根據方程式(CH3) 3A1+3HC1 = A1C13+3CH4 ；采用HCl氣體與TMAl反應生成可溶性的AlCl3,用于后續的雜質元素分析。 發明內容本實用新型的目的是克服現有技術存在的不足，提供一種用HCl分解三甲基鋁樣品的裝置，用于TMAl中微量雜質元素分析。本實用新型的目的通過以下技術方案來實現用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置，特點是包括HCl氣體發生裝置和樣品分解室，高純氮氣保護裝置連接HCl氣體發生裝置，HCl氣體發生裝置上安裝濃硫酸分液漏斗，HCl氣體發生裝置連通濃硫酸干燥瓶，濃硫酸干燥瓶連通樣品分解室，樣品分解室中設有取樣瓶，樣品分解室連通緩沖瓶，緩沖瓶連通NaOH溶液吸收罐。進一步地，上述的用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置，其中， 所述樣品分解室為密閉的手套箱。本實用新型技術方案的實質性特點和進步主要體現在采用HCl分解TMA1，形成可溶性的AlCl3,裝置結構簡單、分解速度快、反應平和、 易于操作、分析結果重復性好。
以下結合附圖對本實用新型技術方案作進一步說明
圖1 本實用新型的構造示意圖。圖中各附圖標記的含義見下表
權利要求1.用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置，其特征在于包括HCl氣體發生裝置和樣品分解室，高純氮氣保護裝置連接HCl氣體發生裝置，HCl氣體發生裝置上安裝濃硫酸分液漏斗，HCl氣體發生裝置連通濃硫酸干燥瓶，濃硫酸干燥瓶連通樣品分解室，樣品分解室中設有取樣瓶，樣品分解室連通緩沖瓶，緩沖瓶連通NaOH溶液吸收罐。
2.根據權利要求1所述的用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置，其特征在于所述樣品分解室為密閉的手套箱。
專利摘要本實用新型提供一種用于三甲基鋁中微量雜質分析的三甲基鋁HCl分解裝置，包括HCl氣體發生裝置和樣品分解室，高純氮氣保護裝置連接HCl氣體發生裝置，HCl氣體發生裝置上安裝濃硫酸分液漏斗，HCl氣體發生裝置連通濃硫酸干燥瓶，濃硫酸干燥瓶連通樣品分解室，樣品分解室中設有取樣瓶，樣品分解室連通緩沖瓶，緩沖瓶連通NaOH溶液吸收罐。可避免氧化分解法中產生的不溶性的Al2O3造成分析結果的偏差，具有過程簡單、易于操作、反應平和、同一樣品分析結果重復性好等優點。
文檔編號G01N1/28GK202024917SQ201120044280
公開日2011年11月2日 申請日期2011年2月22日 優先權日2011年2月22日
發明者呂寶源, 孫明璐, 徐春菊, 潘興華, 王佳銘, 邱良德 申請人:江蘇南大光電材料股份有限公司