專利名稱：一種待室檢測腔體的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種流體處理設備腔體，特指一種流體處理設備待處理腔室上安裝水質檢測系統的腔體，可廣泛用于工業循環水，民用循環水，制藥，化工，食品加工，環境工程，冶金，中央空調，電力，輕工等領域的流體處理設備上。
背景技術：
在現代工業循環水系統中，所有流體處理設備都沒有建立全面的水質檢測方案，從而缺少流體處理設備運行時水質檢測的技術支持，隨著科技的發展和進步，用水質檢測的數據進行設備的各種運行控制，其各種水質檢測數據變得重要，當流體處理設備工作一段時間后，這時就要對流體處理設備進行排污、反沖洗，甚至更換各種流體處理材料，而流體處理設備往往是閉式系統，進行這些工作的依據就來源于水質檢測的數據，本發明由于提供了一種流體處理設備水質取樣腔體，從而為正確取得這些數據創下了條件。
發明的目的
本發明的目的是提供一種流體處理設備腔體，主要是在流體處理設備待處理腔室上安裝水質檢測系統，從而為設備運行、反沖、排污給予技術數據支持，提供一種水質取樣腔體，填補其腔體結構在這方面的空白，使流體處理設備能在適當的位置上，取得各種準確的水質數據，使流體處理設備能夠更加科學合理的運行，從而提高流體處理設備的工作效率。技術方案
一種待室檢測腔體主要包含有；入口管道，出口管道，流體處理設備腔體，待處理腔室，已處理腔室，安裝孔。根據結構圖I所示入口管道安裝在流體處理設備腔體待處理腔室上，出口管道安裝在流體處理設備腔體已處理腔室上；在流體處理設備腔體待處理腔室上開口作為流體取樣孔，產生一種待室檢測腔體，如本發明結構圖I。本發明一種待檢測腔體在食品加工、環境工程、冶金、化工、中央空調、工業循環水、民用循環水、電力、輕工等流體凈化設備上均可廣泛使用，并制造成各種單泵，雙泵；正壓運行，負壓運行；旁流、直流等多種形式的流體處理設備。本發明在流體處理設備腔體上有一大創新
I.在流體處理設備待處理腔室上開有水質檢測系統安裝孔，為設備運行能準確的檢測到流體在待處理腔室的各種重要數據。下面結合附圖
和實施例對本發明作進一步說明。圖I是本發明一種待檢測腔體的結構圖。圖2是根據本發明圖I組一種待檢測腔體裝成的雙泵全負壓流體處理設備。圖3是根據本發明圖I 一種待檢測腔體，組裝成一臺雙泵全負壓流體處理流體處理設備并聯在工業循環水系統中作為旁流水處理設備的安裝結構圖，并聯在工業循環水系統中作為旁流水處理設備的安裝結構圖。
具體實施例方式圖I中，入口管道A，出口管道B，待處理腔室M，已處理腔室N，流體處理設備腔體w，檢測孔(在設備腔體待處理腔室M上)X。在圖I中，流體入口管道A接流體處理設備腔體W待處理腔室M上；出口管道B安裝在流體處理設備腔體W已處理腔室N上；然后在流體處理設備待處理腔室M上開檢測孔X產生結構圖I。如圖2所示，將結構圖I 一種待檢測腔體組裝成一臺雙泵全負壓流體處理設備(運行負壓與反沖負壓)由六大部份組成
1.在流體處理設備腔體W待處理腔室M上安裝運行入口部份 運行入口部份=入口管道A+入口控制閥A (I) +入口管道A (2)
2.在流體處理設備腔體W已處理腔室N上安裝運行出口部份
運行出口部份=出口管道B+出口控制閥B (I) +出口管道B (2) +運行泵B (3) +出 口管道B (4)
3.在流體處理設備腔體W已處理腔室N上安裝反沖入口部份
反沖入口部份=反沖入口管道C+反沖入口控制閥C (I) +反沖入口管道C (2)
4.在流體處理設備腔體W待處理腔室M上安裝反沖出口部份
反沖出口部份=反沖出口管道D+反沖出口控制閥D (I) +排污管道D (2) +反沖泵D(3) +反沖出口管道D (4)
5.在流體處理設備腔體W待處理腔室M上安裝
取樣系統部份=取樣孔X+水質檢測儀X (I)+PLC處理器X (2) +執行系統X (3)
6.在流體處理設備W腔體本體上安裝
流體處理設備腔體W=流體處理設備腔體W待處理腔室+流體處理設備腔體W已處理腔室+取樣孔X
一種待檢測腔體制成的一臺雙泵全負壓流體處理設備裝配完畢，如圖2所示。現將結構圖2的雙泵全負壓流體處理設備并聯到工業循環水系統的管路H上，入口管道A (2)與流體出口管道B (4)分別在循環水系統管道H上開口連接，產生結構圖3。本發明結構圖I 一種待檢測腔體組成的一臺雙泵全負壓流體處理設備并聯到工業循環水系統中如圖3，作為旁流水處理設備的實施和運行如下
I.如圖3所示，當要對循環管道H中的水進行處理時，先關閉反沖泵D (3)，反沖入口控制閥C (I)、反沖出口控制閥DI、開啟流體入口控制閥A (I)、流體出口控制閥B (I)、啟動運行泵B (3)，循環管道H中水流入管道A (2)—閥A (I)—入口管道A—待處理腔室M —已處理腔室N—出口管道B—閥B (I)—管道B (2)—運行泵B (3)—管道B (4)—返回循環管道H，經不斷循環，循環管道H中的水不斷被凈化，其各種雜質被截留在流體處理設備W腔室內。當流體處理設備工作一段時間后，流體處理設備腔體內各種黏泥，雜質含量會不斷增加，因通過取樣孔安裝了一套水質檢測系統，這時每隔一段時間打開控制閥X(2)，腔體內水從取樣孔X進入水質檢測儀X (1)，水質檢測儀X (I)檢測的數據輸入PLC處理器X
(2)，由PLC處理器X (2)作出數據分析如數據結果需進行排污處理、反沖冼處理，或直接將處理數據送入執行系統X (3)通知工作人員直接進入流體處理設備維護或其他運行操作，這時取樣孔起重要作用，設備的運行更加科學，減少了設備運行的盲目性。2.本發明作為一種待室檢測腔體被制成水處理設備后，作為旁流水處理設備并聯到工業循環水系統中通過取樣孔取的水樣進入水質檢測儀X (I)輸入PLC處理器X (2)來控制排污、反沖洗和維護的實施過程
如結構圖3，當水質檢測儀X (I)檢測的數據輸入PLC處理器X (2)，由PLC處理器X
(2)作出數據分析如數據結果需進行反沖冼處理，這時PLC處理器X (2)命令水泵、閥門的電動執行器進行如下動作(如是非全自動設備，工作人員可在檢測數據后作出各種運行安排)，如圖3，停止運行泵B (3)，關閉入口控制閥A (1)，出口控制閥B (1)，然后開啟反沖入口控制閥C (1)，反沖出口控制閥D (1)，再啟動反沖泵D (3)，這時反沖流體進入反沖入口管道C (2)—閥C (I)—管道C—已處理腔室一待處理腔室一管道D—閥D (I)—管道D
(2)—反沖泵D (3)—排污管道D (4)，當水質檢測儀X (I)檢測出現清水后，反沖泵停止工作，反沖過程完成，水處理設備進入下一個循環。
這里對圖I所產生的其他流體處理設備在實際中的控制使用情況因變化太多就不再描述。
權利要求
1.一種待室檢測腔體主要包含有；入口管道，出口管道，流體處理設備腔體，待處理腔室，已處理腔室，安裝孔，其特征在于在流體處理設備待處理腔室的上開有水質檢測系統安裝孔。
2.根據權利要求I所述的一種待室檢測腔體，其特征在于水質檢測儀安裝孔個數可根據需要確定。
全文摘要
一種待室檢測腔體主要包含有；入口管道，出口管道，流體處理設備腔體，待處理腔室，已處理腔室，安裝孔，其特征在于在流體處理設備待處理腔室的上開有水質檢測系統安裝孔。本發明由于在流體處理設備待處理腔室開有水質檢測儀安裝孔，方便了水質檢測儀安裝,當設備工作一段時間后，設備腔室內各種黏泥等雜質含量會不斷增加，流量下降，流體處理效果變差等現象就會出現，這時就要對設備進行排污、反沖洗，甚至更換各種流體處理材料，而流體處理設備往往是閉式系統，進行這些工作的依據就來源于水質檢測的數據，本發明由于提供了一種流體處理設備水質取樣腔體，從而為正確取得這些數據創下了條件。
文檔編號G01N33/18GK102795676SQ201110132149
公開日2012年11月28日 申請日期2011年5月21日 優先權日2011年5月21日
發明者馮軍, 李永杰, 陳仕玲 申請人:馮軍