專利名稱：一種x熒光光譜鍍層分析儀裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種微量元素檢測儀器，具體涉及一種x熒光光譜鍍層分析
儀裝置。
背景技術：
X熒光光譜分析儀器是使用X射線照射試樣，對產生的X射線熒光進行解
析，用以分析試樣元素和含量的裝置。由于x熒光光譜儀器使用方便、快捷，
精度高，成本低等特點，己經在很多行業得到廣泛的應用。
現有技術中，其分析樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析 對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標 半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準 確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。
X熒光光譜鍍層分析儀器是X熒光光譜分析儀中的一種，主要用于對尺寸
范圍較大的部件上進行鍍層厚度分析和含量的逐點測試，其主要原理是光源
系統發射出x熒光，x熒光作用在樣品上后，樣品中的各個x會被激發出特征
x熒光，這些X熒光被探測器系統所接收，分析轉化為電信號，電信號經過系
統模塊的處理，進而得到用戶所需要的分析信息。
針對上述原理，本發明人于2006年申請了名稱為一種自動定位X熒光能 量色散光譜儀的專利，專利的申請號為200620014536. X。該專利為一種真空 檢測X熒光能量色散光譜儀，包括機身，機身內安裝有光源系統、測試系統 以及信號處理系統，其中，光源系統包括高壓單元和光管，上述部件都被固 定在一個金屬框架上，金屬框架上部還設有一樣品臺，樣品放置于該樣品臺上。
經發明人實踐發現上述專利還存在以下問題需要改進
1. 在放置樣品的時候，無法準確判斷樣品在樣品平臺上的精確測試點位 置，這樣難免會有一些偏差，而這些偏差反應到測試樣品上，就會對 測試結果產生影響。
2. 測試組件在對樣品進行測試位置的高度定位的時候，只能靠肉眼來判 斷，這樣很可能使測試組件和樣品發生碰撞，引起樣品或者測試組件 的損壞，另外也無法準確的定位測試組件相對不同測試樣品的相對高 對位置，也同樣會引起測試的誤差。
3. 沒有實時觀測裝置，不能使測試人員隨時了解測試過程。
4. 整個儀器的結構也相對復雜，主要原件的相對位置不緊湊，造成整個 - 儀器體積和重量都偏大。
因此對現有的X熒光光譜鍍層分析儀裝置的上述缺陷進行改進已成為本 技術領域中亟待解決的技術問題。
發明內容
本發明的目的在于克服上述技術的不足，提供一種X熒光光譜鍍層分析 儀裝置，其解決了原有x熒光光譜鍍層分析儀裝置存在的技術缺陷和設計弊端。
本發明為滿足上述目的，采用以下技術方案 一種X熒光光譜鍍層分析 儀裝置，包括光管、準直器、攝像頭、激光調節裝置、探測器以及樣品測試 平臺，所述準直器固定在所述光管的法蘭上，所述激光調節裝置固定于所述 光管的前端支腳上，所述攝像頭設置于所述光管的一側，所述探測器位于光 管的另一側，樣品測試平臺位于所述光管的光路上，所述準直器的底座上設有一第一鏡片，所述第一鏡片位于所述光管的光路上，所述攝像頭底部的光 路上設有一第二鏡片。
更進一步，所述第一鏡片與所述第二鏡片平行。
更進一步，所述激光調節裝置包括垂直激光裝置以及高度激光裝置。 更進一步，所述第一鏡片為二氧化硅鏡片。 更進一步，所述第二鏡片為三棱鏡片。
基于上述設計，本發明的優點在于可精確定位樣品在樣品測試平臺上 的測試位置；整個裝置結構緊湊；可實時觀測樣品的測試過程；樣品和測試 組件的相對高度位置可調節，避免了不必要的碰撞而造成的損失。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特征中得到進一步 的了解。為讓本發明之上述和其他目的、特征和優點能更明顯易懂，下文特 舉實施例并配合所附圖式，作詳細說明如下。
圖1是本發明之一實施例的一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置結構示意圖2是圖1中的X熒光光譜鍍層分析儀裝置從圖1中A向觀察后的結構 示意圖3是圖1中的X熒光光譜鍍層分析儀裝置安裝在一機座上后結構示意
圖
圖l、圖2、圖3以及圖4中的標號說明光管l、準直器2、攝像頭3、 激光調節裝置4、探測器5、樣品測試平臺6、法蘭7、底座8、第一鏡片9、 第二鏡片IO、垂直激光裝置ll、高度激光裝置12、測試點13。
具體實施方案請參考圖1以及圖2所示，本發明的一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置， 包括光管1、準直器2、攝像頭3、激光調節裝置4、探測器5以及樣品測試 平臺6，準直器2固定在光管1的法蘭7上，激光調節裝置4固定于光管1的 前端支腳上，攝像頭3設置于光管1的一側，探測器5位于光管1的另一側， 樣品測試平臺6位于光管1的光路上，準直器2的底座8上設有一第一鏡片9， 第一鏡片9位于光管1的光路上，攝像頭3底部的光路上設有一第二鏡片10。 第一鏡片9與第二鏡片10平行，激光調節裝置4包括垂直激光裝置11以及 高度激光裝置12，第一鏡片9為二氧化硅鏡片，第二鏡片10為三棱鏡片。
本發明的X熒光光譜鍍層分析儀裝置的工作原理請參見圖4所示，光管1 發出的光透過第一鏡片9照射到樣品的測試點13后由探測器5對其進行測試， 樣品的圖樣經過第一鏡片9以及第二鏡片10反射后進入攝像頭3方便測試人 員進行觀測，整個儀器的工作過程再結合圖1、圖2以及圖3，拉出樣品測試 平臺6，樣品由測試人員按照垂直激光裝置11在樣品測試平臺上的亮點放置 后，推回樣品測試平臺6，由高度激光裝置12調節探測器5與樣品之間高度， 之后就可開始測試。
權利要求
1.一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置，包括光管、準直器、攝像頭、激光調節裝置、探測器以及樣品測試平臺，所述準直器固定在所述光管的法蘭上，所述激光調節裝置固定于所述光管的前端支腳上，所述攝像頭設置于所述光管的一側，所述探測器位于光管的另一側，樣品測試平臺位于所述光管的光路上，其特征在于所述準直器的底座上設有一第一鏡片，所述第一鏡片位于所述光管的光路上，所述攝像頭底部的光路上設有一第二鏡片。
2. 如權利要求1所述的X熒光光譜鍍層分析儀裝置，其特征在于所述第一鏡片與所述第二鏡片平行。
3. 如權利要求1所述的X熒光光譜鍍層分析儀裝置，其特征在于所述激光調節裝置包括垂直激光裝置以及高度激光裝置。
4. 如權利要求1所述的X熒光光譜鍍層分析儀裝置，其特征在于所述第一鏡片為二氧化硅鏡片。
5. 如權利要求1所述的X熒光光譜鍍層分析儀裝置，其特征在于所述第二鏡片為三棱鏡片。
全文摘要
本發明涉及一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置，包括光管、準直器、攝像頭、激光調節裝置、探測器以及樣品測試平臺，準直器固定在光管的法蘭上，激光調節裝置固定于光管的前端支腳上，攝像頭設置于光管的一側，探測器位于光管的另一側，樣品測試平臺位于光管的光路上，準直器的底座上設有一第一鏡片，第一鏡片位于光管的光路上，攝像頭底部的光路上設有一第二鏡片。可精確定位樣品在樣品測試平臺上的測試位置；整個裝置結構緊湊；可實時觀測樣品的測試過程；樣品和測試組件的相對高度位置可調節，避免了不必要的碰撞而造成的損失。其適用于環境保護、臨床醫學、農業、地質冶金、制藥行業、石化等行業的X熒光光譜鍍層分析之用。
文檔編號G01N23/22GK101625330SQ200910184489
公開日2010年1月13日 申請日期2009年8月12日 優先權日2009年8月12日
發明者剛 應, 黃清華 申請人:江蘇天瑞儀器股份有限公司