一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法及其裝置的制作方法

專利名稱：一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域，具體涉及一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè) 量方法及其裝置，它適用于透明或半透明薄膜(能被光穿透的薄層)的厚 度和折射率的工業(yè)檢測(cè)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
薄膜厚度是衡量薄膜質(zhì)量的一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)，目前有多種方式可以測(cè)量薄膜厚度，比如x射線干涉方法，干涉顯微鏡測(cè)量，但是它們只能用來測(cè)量薄膜厚度，不能用來測(cè)折射率。而且x射線技術(shù)極少為薄膜生產(chǎn)線所采用，X光管壽命短，更換費(fèi)用昂貴， 一般可用2-3年，而且不適用于測(cè)量由多種 元素構(gòu)成的聚合物，信號(hào)源放射性強(qiáng)，常用于鋼板等單一元素的測(cè)量。而 干涉顯微鏡就是通過對(duì)比干涉條紋的方法來實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品表面形貌的測(cè)量， 也可以用來測(cè)量薄膜的厚度，但是這種方法需要對(duì)二維的干涉圖進(jìn)行條紋 對(duì)比處理，結(jié)構(gòu)、處理方法還相對(duì)復(fù)雜，測(cè)量厚度一般也只能在0.03um lrnn，當(dāng)然不適于實(shí)時(shí)的工業(yè)測(cè)量。目前經(jīng)常使用橢圓偏振儀來測(cè)量薄膜厚度和折射率。橢圓偏振法測(cè)量 的基本思路是，起偏器產(chǎn)生的線偏振光經(jīng)取向一定的l/4波片后成為特殊的 橢圓偏振光，把它投射到待測(cè)樣品表面時(shí)，只要起偏器取適當(dāng)?shù)耐腹夥较颍?被待測(cè)樣品表面反射出來的將是線偏振光.根據(jù)偏振光在反射前后的偏振 狀態(tài)變化，包括振幅和相位的變化，便可以確定樣品表面的許多光學(xué)特性。 具體裝置如圖l所示，從光源1的出射光經(jīng)起偏器2后變成線偏振光，偏振方 向由起偏器的方位角決定，線偏振光再經(jīng)過l/4波片3，其中非尋常光與尋常 光的位相差3-2;r(^-w。W/;i，當(dāng)( -w。)d/;^;i/4時(shí)，尋常光與非尋常光之間 的位相差為卯 合成橢圓偏振光，照射在待測(cè)樣品7上，8為襯底，經(jīng)反射 后一般為另一橢偏光，轉(zhuǎn)動(dòng)起偏器，可使反射的橢偏光變成線偏振光，轉(zhuǎn)動(dòng)檢偏器4的方位角，使其達(dá)到消光狀態(tài)，由探測(cè)器5檢測(cè)。如果入射角、入射光波長(zhǎng)、空氣和襯底的折射率已知，通過測(cè)量的橢偏參數(shù)(平，A)，可 以求出薄膜的折射率n和物理厚度d，但一般都沒有解析解，通常只能由計(jì) 算機(jī)6給出數(shù)值解。橢圓偏振法是測(cè)量光學(xué)薄膜折射率和厚度的常用方法， 精確度高， 一般可達(dá)到納米量級(jí)，范圍一般為微米量級(jí)。但是由于這種方 法原理和操作比較復(fù)雜，不可能用于實(shí)時(shí)檢測(cè)。中國(guó)專利文獻(xiàn)"測(cè)量光學(xué)薄膜等效折射率及物理厚度的設(shè)備和方法" (專利申請(qǐng)?zhí)?2137758.8)。該專利提到了一種通過測(cè)量多個(gè)角度反射譜 來同時(shí)獲得薄膜折射率和厚度的設(shè)備和方法。該方法是根據(jù)入射光在空氣 一薄膜一襯底的界面處兩次反射會(huì)發(fā)生干涉，其干涉現(xiàn)象會(huì)從反射譜上表 現(xiàn)出來。測(cè)得兩個(gè)不同入射角《、《含有干涉信息的反射譜i (《,w)和， 采用薄膜反射率公式同時(shí)擬和這兩個(gè)反射譜，得到相應(yīng)的光程差A(yù)和A,， 最后根據(jù)折射定律，聯(lián)立兩個(gè)方程可以得出薄膜的折射率n及厚度d。但是 以上提到的所有光學(xué)測(cè)量方法都是采用的反射式測(cè)量，即光通過樣品的兩 個(gè)層面時(shí)各層反射的光發(fā)生干涉，提取這個(gè)干涉信號(hào)，得到厚度信息。通 常的利用干涉方法提取厚度信息，也都是反射式測(cè)量。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法，該方 法精度高，測(cè)量范圍大，同時(shí)結(jié)構(gòu)靈活、處理方法簡(jiǎn)單，不要求嚴(yán)格放置 樣品；本發(fā)明還提供了實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。本發(fā)明提供的薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法，其步驟包括(a) 將寬帶光源出射的光通過分光棱鏡分成兩束光，然后分別通過一 個(gè)反射鏡反射，再由分光棱鏡將反射后的兩束光匯聚成一束，形成干涉光 路，產(chǎn)生干涉信號(hào)，再探測(cè)干涉信號(hào)的光譜信息，并將光譜信息進(jìn)行傅立 葉變換，得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息S1;(b) 將待測(cè)量樣品薄膜放置在上述任一反射鏡前，重復(fù)步驟(a)，得 到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息S2;(C)當(dāng)待測(cè)量樣品的折射率已知時(shí)，利用光程差信息Sl和S2，得到 待測(cè)量樣品的厚度；當(dāng)待測(cè)量樣品的折射率未知時(shí)，將待測(cè)量樣品旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度后放置到同一反射鏡前，再重復(fù)步驟(a)，得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信 息S3;根據(jù)光程信息S1、 S2和S3，計(jì)算獲得薄膜的折射率和薄膜厚度。本發(fā)明提供的薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量裝置，包括寬帶光源，干 涉組件，頻域探測(cè)裝置和數(shù)據(jù)處理器；寬帶光源，干涉組件和頻域探測(cè)裝置位于同一光路上，數(shù)據(jù)處理器與 頻域探測(cè)裝置電連接；寬帶光源出射的光經(jīng)干涉組件產(chǎn)生干涉信號(hào)，再經(jīng)過頻域探測(cè)裝置， 探測(cè)信號(hào)光的光譜信息，并將光譜信息傳送給數(shù)據(jù)處理器，數(shù)據(jù)處理器對(duì) 獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。本發(fā)明采用光學(xué)方法，對(duì)樣品是無損的，利用了干涉技術(shù)，所以精度 高。并且進(jìn)行透射式探測(cè)，利用光程差改變的原理，分辨率可以達(dá)到微米 量級(jí)。另外用頻域的方式處理，不需要裝置本身在測(cè)量過程中有任何移動(dòng)， 測(cè)量范圍可達(dá)到毫米量級(jí)。而且本發(fā)明裝置的信息處理方法簡(jiǎn)單，同時(shí)樣 品不要求嚴(yán)格貼附在樣品臺(tái)上，可以方便實(shí)時(shí)地得到薄膜厚度信息。本發(fā)明為透射式探測(cè)，即用一個(gè)分光棱鏡或分光片將入射光分成兩束 光路，這兩束光路經(jīng)反射鏡反射后又匯聚成一束產(chǎn)生干涉，而樣品就置于 其中一個(gè)干涉臂當(dāng)中，光是從樣品上透過的。所以本發(fā)明只適于能被光穿 透的薄膜的厚度和折射率的測(cè)量，但是不要求薄膜附在某個(gè)基底上或嚴(yán)格 要求放在某個(gè)位置上。像這種能被光穿透的物質(zhì)，反射率遠(yuǎn)低于反射鏡， 所以通過反射得到的干涉信噪比低，而由反射鏡反射，光形成的信號(hào)很強(qiáng)。 所以本發(fā)明針對(duì)能被光穿透的物質(zhì)，可以實(shí)時(shí)、準(zhǔn)確、方便的得到干涉信 號(hào)，提取厚度和折射率信息。


6圖1為橢圓偏振儀結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明光學(xué)檢測(cè)裝置結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為麥克爾遜干涉結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為馬赫一澤德千涉結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為頻域探測(cè)裝置結(jié)構(gòu)示意圖； 圖6為寬帶光源的干涉信號(hào)圖；圖7 (a)為反射式探測(cè)方式，圖7 (b)為透射式探測(cè)方式； 圖8為本發(fā)明光學(xué)檢測(cè)裝置具體實(shí)例裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖9為無薄膜時(shí)，將干涉信號(hào)傅立葉變換后重構(gòu)出的光程差圖； 圖10為在樣品鏡前平放薄膜，將干涉信號(hào)傅立葉變換后重構(gòu)出的光程 差圖；圖11為在樣品鏡前將薄膜傾斜一定角度后，將干涉信號(hào)傅立葉變換后重構(gòu)出的光程差圖；圖12為光通過薄膜時(shí)的光路示意圖；具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。 如圖2所示，本發(fā)明裝置包括寬帶光源9，干涉組件10，頻域探測(cè)裝 置11和數(shù)據(jù)處理器12。干涉組件IO可以采用現(xiàn)有的各種干涉結(jié)構(gòu)。目前的干涉結(jié)構(gòu)主要有麥 克爾遜干涉結(jié)構(gòu)和馬赫一澤德干涉結(jié)構(gòu)。如圖3所示，麥克爾遜干涉結(jié)構(gòu) 包括光源17，分光元件13，反射鏡14、 15和探測(cè)器16。如果采用這種干 涉結(jié)構(gòu)，干涉組件IO包括第一分光元件13，第一、第二反射鏡14、 15。 第一、第二反射鏡14、 15的反射面分別與第一分光元件13出射的光束方 向垂直。第一分光元件13將寬帶光源9出射的光分成兩束，射向第一、第 二反射鏡14、 15，反射回的兩束光再次經(jīng)過第一分光元件13匯聚成一束，再由頻域探測(cè)裝置ll接收。如圖4所示，馬赫一澤德干涉結(jié)構(gòu)包括光源17，分光元件13、 18，反 射鏡14、 15和探測(cè)器16。如果采用這種干涉結(jié)構(gòu)，干涉組件10包括分光元件13、 18，反射鏡14、 15。分光元件13將寬帶光源9出射的光分成兩 束，分別被第一、第二反射鏡14、 15以一定角度反射出去，然后在第二分 光元件18上匯聚成一束。即光束落在第一、第二分光元件13、 18、第一、 第二反射鏡14、 15上的位置位于光束構(gòu)成的四邊形的四個(gè)角上。通常這四 個(gè)反射面安排的近乎平行，他們的中心位于平行四邊形的四個(gè)角上。由于通常光源會(huì)是發(fā)散光源，所以根據(jù)需要會(huì)在干涉結(jié)構(gòu)中加上匯聚 透鏡來調(diào)整光路。在下述部分以麥克爾遜干涉結(jié)構(gòu)為例所列出的具體實(shí)例 裝置中就加4塊匯聚透鏡，也作為干涉組件的一部分。分光元件可以采用 分光片或分光棱鏡等分光器件。寬帶光源9出射的光經(jīng)干涉組件后產(chǎn)生的干涉信號(hào)，再經(jīng)過頻域探測(cè) 裝置ll,探測(cè)信號(hào)光的光譜信息，并將光譜信息傳送給數(shù)據(jù)處理器12做傅 立葉變換，得到產(chǎn)生干涉的兩光路的光程差信息。頻域探測(cè)裝置ll可以采 用光譜儀，或者采用如圖5所示的結(jié)構(gòu)，包括分光光柵19和探測(cè)陣列20， 分光光柵分光后再由線性探測(cè)陣列或面探測(cè)陣列接收各波長(zhǎng)光強(qiáng)信息。當(dāng) 寬帶光源9為寬帶掃描光源時(shí)，頻域探測(cè)裝置11也可以采用點(diǎn)探測(cè)器。使用時(shí)，將樣品薄膜放置在干涉組件10的其中一個(gè)反射鏡前，樣品面 垂直于光路，薄膜可以不要求貼附在反射鏡上，光透過薄膜，使兩光路間 的光程差改變。在樣品折射率已知的情況下，將兩次測(cè)量到的相對(duì)光程差 信息(一次放置樣品薄膜、 一次不放樣品薄膜)在數(shù)據(jù)處理器12對(duì)比處理 即可得到樣品厚度。在樣品薄膜折射率未知的情況下，將樣品面旋轉(zhuǎn)一定角度，按照上述 同樣的測(cè)量方法進(jìn)行第三次測(cè)量，與以上兩次結(jié)果比較可以算出光通過傾 斜的薄膜的光程信息。傾斜后光在薄膜內(nèi)傳播的距離改變了，對(duì)比這三次 光程信息，即聯(lián)立三個(gè)方程可得出薄膜的折射率和薄膜厚度。通常寬帶光源的相干范圍很窄，即發(fā)生干涉的兩路光的光程差在相干 范圍內(nèi)才能發(fā)生干涉。如圖6所示，若光源中心波長(zhǎng)為1327nm,帶寬70nm，根據(jù)公式il^ii (1)，相干范圍約為llum。通常利用寬帶光源進(jìn)行厚度方向大范圍的測(cè)量， 一般都需要掃描，這樣就帶來了機(jī)械震動(dòng)的影響，或 降低了速度和精確度，操作也變得復(fù)雜。本發(fā)明仍然采用寬帶光源，并采 用頻域探測(cè)裝置11和數(shù)據(jù)處理器12進(jìn)行頻域方式處理。根據(jù)理論公式其中&為光源中心波長(zhǎng)，A/l為光源帶寬，n為光所穿透介質(zhì)的折射率，N 為光譜儀探測(cè)陣列的單元數(shù)。對(duì)比公式(1)、 (2)可以看出，探測(cè)范圍大 約比原來增加了N倍， 一般可達(dá)到毫米量級(jí)。這樣就可以在無掃描的情況 下得到薄膜的厚度信息。另外使用這種頻域方式探測(cè)通常是反射式的，如圖7(a)所示，這時(shí)反 射鏡14和薄膜27的上下兩層共三個(gè)反射面的光與參考鏡15的反射光發(fā)生 干涉，光譜儀接收到的是多層干涉光疊加的信息，經(jīng)過傅立葉變換，將會(huì) 得到這三個(gè)反射面相對(duì)參考鏡15的光程差，從而也可以算出薄膜的厚度。 但是因?yàn)槠渌镔|(zhì)反射率一般遠(yuǎn)低于反射鏡的反射率，信噪比不高。另外 這種方法的探測(cè)厚度的分辨率將受到寬帶光源相干范圍的限制，即如果薄 膜的厚度在相干范圍內(nèi)時(shí)，不能將薄膜上下兩層的距離區(qū)分開來，即分辨 率不可能小于受光源帶寬限制的相干范圍。實(shí)際上對(duì)于薄膜的測(cè)量，這種 分辨率往往不夠。本發(fā)明采取透射式的方式，如圖7(b)所示，即可以忽略 薄膜27上下兩表面的反射光，只采用從樣品鏡(反射鏡14)表面反射回的 光，這樣獲得的干涉信號(hào)調(diào)制度比較大，可以得到比較好的信噪比，領(lǐng)懂 的準(zhǔn)確度也較高。再將加薄膜和不加薄膜兩次測(cè)量的相對(duì)光程差位置信息 對(duì)比處理，得到樣品的厚度信息，這樣就是利用光程差改變的原理，避開 了寬帶光源相干長(zhǎng)度的限制，可以獲得微米或亞微米的分辨率。下面以麥克爾遜干涉結(jié)構(gòu)為例對(duì)本發(fā)明裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)的說明。 如圖8所示，該裝置包括寬帶光源9、光譜儀ll、分光棱鏡13、第一至第 四聚焦透鏡22、 23、 24、 25，第一、第二反射鏡14、 15，數(shù)據(jù)處理器12。 光由光纖21從寬帶光源9導(dǎo)出，成為一個(gè)發(fā)散點(diǎn)光源，所以再由第一透鏡 22匯聚，光通過分光棱鏡13分成兩束。為方便說明，以第一反射鏡14為樣品鏡，第二反射鏡15為參考鏡。在光到達(dá)兩反射鏡前分別由第二、第三 透鏡23、 24聚焦成一點(diǎn)。光由第一、第二反射鏡14、 15反射后，又經(jīng)過 分光棱鏡13匯成一束出射光，再由第四透鏡25匯聚成一點(diǎn)通過光纖26傳 送至光譜儀11。光譜儀11將干涉信號(hào)的光譜信號(hào)輸出至數(shù)據(jù)處理器12， 數(shù)據(jù)處理器12對(duì)接收到的信號(hào)進(jìn)行傅立葉變換，就可得到兩鏡子的相對(duì)光 程差。若在樣品鏡14前加上薄膜27，薄膜27不要求貼附在反射鏡上，只 需放在樣品鏡14和聚光透鏡24之間，再做第二次測(cè)量，由于薄膜27的加 入，使得兩反射鏡的相對(duì)光程差與第一次測(cè)量相比有所改變。若薄膜27的 折射率己知，將兩次相對(duì)光程差信息對(duì)比處理即可得到樣品厚度。數(shù)據(jù)處 理器12用來做傅立葉變換和信息的對(duì)比處理。假設(shè)寬帶光源9中心波長(zhǎng)為 1327nm，帶寬為70nm，被光譜儀11接收的寬帶光源干涉信號(hào)光譜通過處 理器12進(jìn)行傅立葉變換，即1(z)-FT卿) (3) 未加薄膜27時(shí)，得到樣品鏡相對(duì)參考鏡的光程差信息如圖9所示。在第一 反射鏡14和第三聚焦透鏡24之間放一層薄膜27，薄膜27垂直與光路，即 與反射鏡14平行，做第二次測(cè)量，此時(shí)被光譜儀11接收的干涉信號(hào)光譜 經(jīng)過傅立葉變換后得到相對(duì)光程差的信息如圖IO所示。對(duì)比圖9、圖10， 可以看到因?yàn)橐肓艘粚颖∧?，兩反射鏡之間的光程差有所改變，兩峰值 位置即兩次測(cè)量時(shí)樣品鏡分別相對(duì)于參考鏡的光程差位置。然后再將這兩 次相對(duì)光程差信息對(duì)比處理，兩個(gè)峰值位置分別表示為xl、 x2，則(w2-wl"d = x2 —:cl = 5.1訓(xùn) (4) 其中n2為塑料薄膜折射率，nl為空氣折射率，d為薄膜厚度，若取 nl=l,n2=1.47，則d=10.85um。若薄膜的折射率未知，可以將薄膜27旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度，此時(shí)樣品鏡14 相對(duì)參考鏡15的光程差信息如圖11所示。圖12為光在薄膜中傳播的光路 圖，實(shí)線表示光的此時(shí)的傳播的光路，虛線表示無薄膜時(shí)或薄膜平行于反 射鏡14時(shí)光的傳播光路。根據(jù)圖12推導(dǎo)公式如下(m2-w1)"jc2-x1 (5)n2W/cos(92+wP丄一w"cf/cos6^ =jc3 — jc1 (6) Z = d/cos《*sin(《-《)*tan《 (7) "l*sin《=w2*sin《 (8) n2為薄膜折射率，nl為空氣折射率，xl為未放薄膜時(shí)測(cè)得的兩反射鏡相對(duì) 位置，x2為薄膜平放時(shí)測(cè)得的兩反射鏡相對(duì)位置，x3為薄膜斜放時(shí)測(cè)得的 兩反射鏡相對(duì)位置(《為薄膜放置的法線與入射光的夾角)，L如圖所示為 光在空氣中傳播的一段距離。將xl=61.19um, x2=66.29um， x3=69.69um， nl二l帶入式(5) (6) (7) (8)得
權(quán)利要求
1. 一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法，其步驟包括(a)將寬帶光源出射的光通過分光棱鏡分成兩束光，然后分別通過一個(gè)反射鏡反射，再由分光棱鏡將反射后的兩束光匯聚成一束，形成干涉光路，產(chǎn)生干涉信號(hào)，再探測(cè)干涉信號(hào)的光譜信息，并將光譜信息進(jìn)行傅立葉變換，得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息S1；(b)將待測(cè)量樣品薄膜放置在上述任一反射鏡前，重復(fù)步驟(a)，得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息S2；(c)當(dāng)待測(cè)量樣品的折射率已知時(shí)，利用光程差信息S1和S2，得到待測(cè)量樣品的厚度；當(dāng)待測(cè)量樣品的折射率未知時(shí)，將待測(cè)量樣品旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度后放置到同一反射鏡前，再重復(fù)步驟(a)，得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息S3；根據(jù)光程信息S1、S2和S3，計(jì)算獲得薄膜的折射率和薄膜厚度。
2、 實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述的方法的裝置，其特征在于它包括寬帶光源 (9)，干涉組件(10)，頻域探測(cè)裝置(11)和數(shù)據(jù)處理器(12);寬帶光源(9)，干涉組件(10)和頻域探測(cè)裝置(11)位于同一光路上，數(shù)據(jù) 處理器(12)與頻域探測(cè)裝置(11)電連接；寬帶光源(9)出射的光經(jīng)干涉組件(10)產(chǎn)生干涉信號(hào)，再經(jīng)過頻域探測(cè)裝 置(ll)，探測(cè)信號(hào)光的光譜信息，并將光譜信息傳送給數(shù)據(jù)處理器(12)，數(shù) 據(jù)處理器(12)對(duì)獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于干涉組件(10)包括第一 分光元件(13)，第一、第二反射鏡(14、 15);第一、第二反射鏡(14、 15)的反射面分別與從第一分光元件(13)出射的兩束光方向垂直。
4、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于干涉組件(10)包括第一、第二分光元件(13、 18)以及第一、第二反射鏡(14、 15);光束落在第一、第二分光元件(13、 18)、第一、第二反射鏡(14、 15) 上的位置位于光束構(gòu)成的四邊形的四個(gè)角上。
5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于第一、第二分光元件(13、 18)，第一、第二反射鏡(14、 15)的反射面的中心位于平行四邊形的四個(gè) 角上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種薄膜厚度和折射率的光學(xué)測(cè)量方法及其裝置。將寬帶光源出射的光通過干涉結(jié)構(gòu)，產(chǎn)生干涉信號(hào)，再探測(cè)干涉信號(hào)的光譜信息，并將光譜信息進(jìn)行傅立葉變換，即可得到產(chǎn)生干涉信號(hào)的二光路的光程差信息。在折射率已知的情況下，以同種方式在一個(gè)干涉臂中放置樣品后再測(cè)一次，比較這兩次光程差信息即可薄膜厚度。若折射率未知，需將薄膜旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度，進(jìn)行第三次測(cè)量來計(jì)算出獲得薄膜的折射率和厚度。本發(fā)明采用光學(xué)方法，對(duì)樣品是無損的，分辨率為微米量級(jí)，測(cè)量范圍可達(dá)到毫米量級(jí)。另外樣品不要求嚴(yán)格貼附在樣品臺(tái)上，同時(shí)信息處理方法簡(jiǎn)單，對(duì)于透明或半透明薄膜可以方便實(shí)時(shí)地得到其厚度和折射率信息。
文檔編號(hào)G01N21/41GK101261116SQ200810047420
公開日2008年9月10日 申請(qǐng)日期2008年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月20日
發(fā)明者曾紹群, 王建崗, 青 肖, 駱清銘 申請(qǐng)人:華中科技大學(xué)