專利名稱:使用反射照明光的光學位置傳感系統(tǒng)和方法
技術領域:
本發(fā)明涉及用于驅動諸如反射鏡的光學元件從而引導掃描儀中 的光束的有限旋轉發(fā)動機(limited rotation motor),具體地涉及用 于這樣的有限旋轉發(fā)動機的位置傳感器。
背景技術:
用于有限旋轉發(fā)動機的位置傳感器典型地包括可移動元件和固 定元件,所述可移動元件與有限旋轉發(fā)動機的轉子相連接。例如,美 國專利No.3970979 />開了 一種使用電容板來確定有限旋轉發(fā)動機的 轉子的相對位置的電容位置傳感器。美國專利No.4864295也公開了 一種電容位置傳感系統(tǒng)。盡管電容位置檢測系統(tǒng)適合某些有限旋轉發(fā) 動機應用,但其它應用要求比電容位置檢測系統(tǒng)所提供的位置檢測更 精確的位置檢測。
美國專利No.5235180已經公開了通過光學傳感技術進行的位置 檢測,其使用一對發(fā)光二極管、包括與轉子軸相連接的交替的漫射表 面和反射表面的旋轉元件、和從旋轉元件的反射表面接收反射光的四 象限電池(quad cell)檢測器。
美國專利No.5671043公開了一種位置檢測系統(tǒng),其中,第一光 源和第二光源對著固定在轉子軸上的不透明元件。當該軸旋轉時,該
不透明元件交替地阻擋光,以使其不能到達圍繞不透明元件的旋轉軸 線i文置的四個固定位置光電池。美國專利No.5844673 7>開了一種位置檢測器,其包括將光向圍繞轉子軸放置的多個光電檢測器引導的固 定位置軸向光源、和與轉子一起旋轉的蝶形阻擋部件。
美國專利No.6921893公開了 一種用于掃描裝置的位置檢測系 統(tǒng),所述位置檢測系統(tǒng)包括位于旋轉軸的任意一側上的一對光源、相 對于該軸固定的多個檢測器、以及置于光源和檢測器之間的旋轉光阻 擋器。
然而,這樣的位置檢測系統(tǒng)涉及光源與光電檢測器的精確的對準 及匹配,還要求轉子軸穿過電子電路的平面,這樣增加了制造成本和 對準復雜度。在某些應用中,也希望提供這樣一種位置檢測系統(tǒng),其 具有減小的漂移、對于機械的未對準的較小的靈敏度和較低的電氣噪 聲,但包括較少的部件、較小的大小和較低的制造成本來生產。
因此,需要一種用于有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)的改進的位置檢測系 統(tǒng),更具體地說,需要有效、經濟地生產的用于有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng) 的位置檢測系統(tǒng)。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種根據實施例的用于有限旋轉發(fā)動機的位置傳感 系統(tǒng),該位置傳感系統(tǒng)包括照明源和多個檢測器區(qū)。該照明源向與有 限旋轉發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引導照明光,所述多個檢 測器區(qū)與照明源相鄰并用于從照明反射器接收調制的反射照明光。
根據另 一個實施例,本發(fā)明提供用于這樣的有限旋轉發(fā)動機的位 置傳感系統(tǒng),該位置傳感系統(tǒng)包括照明源和多組功能互補的檢測器區(qū) 對,所述照明源向與有限旋轉發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引 導照明光,而所述多組功能互補的檢測器區(qū)對基本上與照明源在同一 平面并圍繞該照明源,以便從照明反射器接收調制的反射照明光。
根據又一 實施例,本發(fā)明提供一種在有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)中提供 相對位置信號的方法。該方法包括下述步驟從照明源向與有限旋轉 發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引導照明光;以及在多組功能性 互補的檢測器區(qū)對處接收來自照明反射器的調制的反射照明光,所述多組功能性互補的檢測器區(qū)對基本上與照明源在同 一平面并圍繞該 照明源。
參考附圖可以進一步理解下述說明部分,在附圖中
圖1示出了根據本發(fā)明的實施例的位置傳感系統(tǒng)的示意性概略
等軸視圖(isometric view );
圖2示出了如圖l所示的位置傳感系統(tǒng)中的反射元件的示意性概
略等軸底視圖3示出了如圖l所示的位置傳感系統(tǒng)的光源和檢測電路的示意 性概略平面圖4示出了圖2的反射元件的示意性概略底視圖5示出了根據本發(fā)明的實施例的有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)的示意 性概略側截面圖6示出了根據本發(fā)明的實施例的位置傳感系統(tǒng)的電路圖的示 意性概略碎見圖;以及
圖7示出了根據本發(fā)明的又一實施例的位置傳感系統(tǒng)的示意性 概略功能視圖。
附圖僅出于示意性目的被示出。
具體實施例方式
根據實施例,本發(fā)明提供一種位置傳感器,其包括光源、光調制 器、多段光檢測器和支持電子電路。通過將從光源發(fā)射的輻射反射地 調制到相鄰檢測器的不同段來操作傳感器。位置傳感器可以與有限旋 轉發(fā)動機一起使用,并且這樣的有限旋轉發(fā)動機可以用于例如各種激 光掃描應用,諸如高速表面測量術。另外的激光處理應用包括激光焊 接(例如高速點焊)、表面處理、切割、鉆孔、標記、修整(trimming )、 激光修理、快速成型、形成微結構、或在各種材料上形成納米結構的 稠密陣列。在另外的實施例中,本發(fā)明可以用于其它應用,包括如例如美國專利No.5252923的圖1和相關正文所公開的參考輸入掃描和 共焦顯微術,其包括其中示出的物體12、物平面14、像平面16、激 光源18、掃描透鏡20、檢測器26和光柵掃描顯示器40。
如圖1所示,系統(tǒng)10包括反射光調制器12和電路基板14。如 圖2和圖4所示,反射光調制器12在其下側具有三對交替的反射表 面16和光吸收表面18?;?4包括三對分段的檢測器區(qū)20a和20b、 22a和22b、以及24a和24b (如圖3進一步所示)、單個光源26 (諸 如美國加利福尼亞州San Jose的Lumileds Lighting U.S.出售的 Luxeon DS25 LED Emitter)和可選擇的擋光板28 (light baffle )(例 如O-環(huán)),其阻擋任何直射光線,否則該直射光線將從光源直接投 射到檢測器段中的任何一個。某些發(fā)射器可能不需要這樣的擋光板。 在各種實施例中,光源可以由各種類型的發(fā)射器提供,并且還可以包 括將照明光從遠程地點傳遞到該裝置的一根或多根光纖。
檢測器還可以可選擇地包括無效區(qū)(inactive region)(諸如處 于檢測器下方的中心區(qū)),其可能被諸如金屬膜的不透明層遮蓋,從 而使光不能到達基板并在基板中產生可以影響信號的電荷。優(yōu)選的 是,檢測器區(qū)20a、 20b、 22a、 22b、 24a和24b由一個單片檢測器形 成,并且包含如圖3所示的按照大體六元環(huán)(hexatropic)的形式形 成的六個有效區(qū)(active region),盡管有可能使用具有圖案化的有 效區(qū)的離散檢測器或限定有效區(qū)的掩模來制造陣列。也可能制造包括 1、 2、 3或更多對檢測器的實施例的系統(tǒng),盡管為了獲得寬的掃描角 度和增加的信號電平以及求取平均值(averging),對于光學掃描儀 檢流計來說3是優(yōu)選的。優(yōu)選地在850 nm發(fā)射的LED光源26是單 個元件并且被直接安裝到檢測器的無效區(qū)中的檢測器的中心。該光源 不必一定是LED,因此它可以是VCEL激光芯片或磷光點或發(fā)射合 適的錐形圖案的輻射的任何小光源,從而該輻射可以被調制器調制并 被均勻地引導到檢測器上而沒有偏離的雜散輻射。反射光調制器12 的中心和外周區(qū)優(yōu)選地為吸收性的,并且反射區(qū)16主要為鏡面的。
優(yōu)選的是,吸收區(qū)(18)與鏡面區(qū)在發(fā)射器的波長下形成顯著對比。
7光調制器優(yōu)選為使用光刻工藝圖案化的剛性單片硅結構,其中, 反射區(qū)是鍍金的,而吸收區(qū)為抗反射的被涂敷的硅??晒┨鎿Q地,可 以在硅基板或諸如但不限于電化成型金屬的另一個基板上使用諸如
黑色鉻、黑色鎳、或黑色氧化物的漫射黑色物(diffuse black)。其 它實施例可以包括復合結構、印刷特征或紋理特征,例如激光或噴砂。 調制器特征可以被集成地形成在轉子軸的端部。所有必需的就是具有 好的幾何結構和適合的尺寸的反射和非反射圖案,以便用光源發(fā)射選 擇性地照射檢測器。吸收區(qū)也可能是透射的。透射設計需要預防穿過 調制器的光稍后不照射在檢測器上,尤其是在該光被掃描角度調制過 的情況下。位置檢測信號處理的操作可以與例如在美國專利 No.5235180中公開的過程相似,該專利的公開內容在此通過引用而被 并入。本發(fā)明的位置傳感器可以與各種有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)例如美國 專利No.5235180的圖3和相關正文的發(fā)動機系統(tǒng)、以及美國專利 No.5424632的圖1 - 4和相關正文的發(fā)動才幾系統(tǒng)一起4吏用,上述專利 的7>開內容全部在此通過引用而^皮并入。
如圖5所示,當圖1的系統(tǒng)與有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)一起使用時, 反射光調制器12與在外殼32內旋轉的轉子軸30相連接。電路基板 14在轉子旋轉時保持靜止,而來自LED源26的照明光在轉子30旋 轉時被旋轉調制器12的反射區(qū)16反射。系統(tǒng)也可以使用一個或多個 可選擇的自調節(jié)PTC電阻加熱元件,優(yōu)選地,在電路基板14的反側 上,所述電阻加熱元件作為加熱器,從而使由溫度導致的變化最小化。
當來自這三對檢測器20a、 20b、 22a、 22b、 24a和24b中每一
對的信號指示較大量的相對照明光已經從一對的第一檢測器切換到 一對的第二檢測器時,通過瞬時監(jiān)測每一對來完成位置檢測。有限旋
轉發(fā)動機的轉子的運動范圍優(yōu)選小于每一對檢測器的全角度范圍(例 如,以一對檢測器的中間點為中心,小于60度,優(yōu)選地小于約45度, 并且更優(yōu)選地可以為約40度)。通過對a檢測器和b檢測器求和來 產生信號Va和Vb。位置比例信號是Va和Vb之間的差值。具體地說, 對檢測器20a、 22a和24a的三個區(qū)求和以得到Va,而對檢測器20b、
822b和24b的三個區(qū)求和以得到Vb。如圖6所示,由電子電路執(zhí)行計算。反饋環(huán)路包含對Vref (50)和(Va + Vb)之間的誤差積分的積分
器52。也可以利用另一個溫度敏感或增益敏感裝置來修改Vref信號(或
目標求和信號),從而大大補償系統(tǒng)的固有溫度相關參數增益改變。如圖6所示,電路包括LED40 (作為圖1的光源26)、以及多個檢測器陣列42a和42b (作為檢測器對20a、 22a、 24a和20b、 22b和24b)。在44提供三組a檢測器的平均值Va,并且在46提供三組b檢測器的平均值Vb。在節(jié)點48提供位置比例輸出。在節(jié)點50施加參考電壓,并且負反饋放大電路52提供檢測信號電平設定點(setpoint)。
因此,輸出位置為(va-vb) / (va +vb)。電路將(va + vb)調節(jié)為通常固定的增益??梢哉{節(jié)項(va + vb)以補償溫度相關增益
漂移。選擇負反饋放大電路52中的電阻器(Rtemp)的值來補償正增益系數。通過從放大器的反相輸入端向非反相輸入端移動電阻器Rtemp的一側來補償負溫度系數。補償利用LED的高的溫度靈敏度,盡管在其它實施例中也可以使用諸如熱敏電阻器的其它反饋裝置。
圖7示出了本發(fā)明的系統(tǒng)的功能性框圖。在70將期望的鏡面角度輸入至伺服控制器72 (例如PID控制器或狀態(tài)空間控制器(StateSpace controller)等)。將控制器72的輸出提供至放大器74,該放大器74又控制有限旋轉發(fā)動機76,該有限旋轉發(fā)動機驅動轉子軸79上的諸如反射鏡78的負載。反射光調制器80位于轉子軸79的另一部分上,并且從調制器80選擇性地反射來自LED光源82的照明光。在調制器80旋轉時,由基板84上的檢測器區(qū)接收的照明光向包括圖6的電路的檢測電子裝置86提供信號??梢岳秒娏鬏敵鲭娐?未示出)將信號90和92設置為a和b電壓(Va和Vb)或a和b電流(Ia和Ib)。檢測電子裝置也向LED源82提供LED電壓信號,向伺服控制器72提供反饋角度信號94。在某些實施例中,可以將系統(tǒng)集成到單個印刷電路板中。反饋信號94也可以是與Va和Vb成比例的差分信號(differential signal),從而獲得噪聲抗擾性并與伺服控制器兼容o
檢測器陣列可以由單片裝置形成,并且光源和電力線可以直接安裝在檢測器陣列上。成形的檢測器區(qū)允許對于任何非線性進行補償。檢測器陣列和光源可以都與信號處理電路、放大電路、控制電路或這
些電路的組合中的任何一個一起定位。這種結構也使得能夠將LED電力跡線(powertrace)直接印刷在單片檢測器陣列上。因此,本發(fā)明的各種實施例的系統(tǒng)使得位置傳感器可以包括單片檢測器陣列,所述單片檢測器陣列是使用電路制作技術(而不是圍繞軸線放置離散的元件)而形成的相對的反射結構允許單片陣列具有相對于彼此很好地放置的段和非常匹配的有效區(qū)。本發(fā)明的各種實施例的系統(tǒng)也允許光源被直接安裝到檢測器上這確保了 LED位置相對于檢測器陣列不改變,并且允許在PC板上容易地集成。本發(fā)明也使得可以使用短電線接合在PC板、檢測器和光源之間形成電路連接。
光源和檢測器之間的檔光板確保了只有反射(調制)光到達檢測段,從而降低了噪聲。由于反射元件是鏡面的,所以可以使用單個LED管芯,從而提供了近似點源的光源。鏡面反射調制器的使用很適合這種源。反射和檢測部件的結構被增至三倍并且關于旋轉軸線對稱地放置,這樣產生了改進的信號性能和對機械未對準的降低的靈敏度。
利用LED電流(或圖6的溫度感應元件)作為補償的基礎來提供溫度補償。位于檢測器14上的自調節(jié)加熱器也可以用于穩(wěn)定操作。在同一 PC板上包括傳感器84、伺服控制器72和放大器74的系統(tǒng)提供有效的、經濟的制造和維護。包括近似于具有集成光源的單片檢測器的反射調制器的結構允許前所未有的更高程度的集成。根據另外的實施例,調制器或檢測器陣列段的形狀可以被形成為進一步補償非線性。該系統(tǒng)也可以包括檢測器上的保護環(huán),從而使串擾最小化。
使用本發(fā)明的位置傳感器的有限旋轉發(fā)動機可以用于例如激光鉆孔系統(tǒng)中,以便在印刷電路板(PCB)中制造通孔(或孔)。這樣的系統(tǒng)可以包括一對基于檢流計的X-Y掃描儀、以及傳送PCB的X-Y工作臺、和對被掃描儀和透鏡覆蓋的區(qū)域(field)內的電路板區(qū) 提供并行處理的掃描透鏡。X-Y工作臺沿全部覆蓋所需的行和列傳 送電路板。電路板通?;旧洗笥趻呙鑵^(qū)域。
根據本發(fā)明的另 一實施例,這樣的有限旋轉發(fā)動機也可以用于多 層鉆孔系統(tǒng)。操作可以包括沖孔(或沖擊鉆孔),其中, 一個或多個 激光脈沖在有效的點直徑內形成單個孔而不相對于物體相對移動光 束;或者操作可以包括旋孔(trepanning)(其在鉆孔操作期間涉及 光束和物體之間的相對移動)。在旋孔期間,形成直徑基本上大于點 直徑的孔。使用多個激光脈沖從基板的上表面至外露的下表面對基板 進行激光鉆孔,所述多個激光脈沖優(yōu)選地以圓形進行旋孔,但可以使 用諸如橢圓形和正方形的其它旋孔圖案。例如,激光焦點的移動的旋 孔圖案是這樣的束點從期望的通孔的中心開始,逐漸地向通孔的外 直徑向外盤旋。此時,使得光束圍繞通孔中心沿軌道行進被確定為具 體通孔所必需的旋轉圏數。在完成時,使焦點盤旋回到中心,然后等 待下一個命令。旋孔速度的一個實例是3毫米每秒。在這樣的鉆孔應 用中,對于提供具有快速穩(wěn)定時間(settling time )而不管點之間的軌 道的光束的快速點到點定位有時是有利的。
整個鉆孔系統(tǒng)生產量可以受諸如區(qū)域內的孔的所需數量、孔大 小、工作臺速度等諸多因素所影響。系統(tǒng)帶寬提高在基板鉆孔系統(tǒng)內 通??赡苁怯杏玫?,并且這樣的提高對于其中旋孔或相似的運動被用 于孔的形成的基板鉆孔系統(tǒng)特別有利。也可以使用上文所討論的有限 旋轉發(fā)動機來對諸如電子封裝、半導體基板、和相似工件的其它基板 鉆孔。
這樣的有限旋轉發(fā)動機也可以用于基板標記中,其中,基板標記 使用一個或多個激光對例如半導體、晶片等在基板的正面或背面進行 標記。由激光(諸如二極管泵浦固態(tài)激光)制造的標記,無論在正面 還是背面,都可以被形成為1D或2D矩陣并且符合各種工業(yè)標準。 這樣的系統(tǒng)的性能可以取決于,至少部分取決于標記速度、密度和質 量,而有限旋轉發(fā)動機性能的改進可以提高標記速度、密度和質量。
ii例如以mm/sec測量的區(qū)域上的標記速度是系統(tǒng)中使用的激光重復 率、點大小和一個或多個發(fā)動機(例如,慢和快掃描方向發(fā)動機)的 函數。
根據另外的實施例,本發(fā)明的系統(tǒng)可以被設置用于電子工業(yè)中的 其它高速標記應用,例如對封裝或托盤(tray)中的裝置或其它相似 的工件進行標記。
根據本發(fā)明的另外的實施例,上文所討論的有限旋轉發(fā)動機也可 以用于激光修整系統(tǒng)中。本發(fā)明的 一個或更多實施例可以用于激光修 整系統(tǒng),或基板微加工系統(tǒng)。例如,這樣的系統(tǒng)可以提供用于高速、 精確地微加工裝置(例如電阻器)的陣列的方法,其中每一個裝置都 具有至少一個可測量特性(例如電阻)。該方法包括下述步驟a) 選擇性地對陣列中的裝置進行微加工,從而改變可測量特性的值;b) 暫緩選擇性地微加工的步驟;c)在暫緩選擇性地微加工的步驟的同 時,選擇性地微加工陣列中的至少一個其它裝置,從而改變可測量特 性的值;以及d)繼續(xù)暫緩的選擇性地微加工的步驟,從而改變裝置 的可測量特性直到其值在期望的范圍內。選擇性的微加工中的至少一 個步驟可以包括下述步驟產生激光束并將其相對地定位為沿裝置上 的第一掃描圖案行進;將第一掃描圖案與第二掃描圖案疊加;以及以 至少 一個激光脈沖照射至少 一個裝置。
可以為將要使用聲光偏轉器來執(zhí)行的快速掃描圖案提供根據本 發(fā)明的另 一實施例的微加工系統(tǒng),該快速掃描圖案疊加在使用如上文 所述的有限旋轉發(fā)動機來執(zhí)行的第二較慢速掃描圖案上。 一般來講, 聲光偏轉器的訪問和回掃時間在數十微秒的數量級上。在某些實施例 中,提高的發(fā)動機速度將直接導致提高的修整速度。
本領域技術人員將了解,在不偏離本發(fā)明的實質和范圍的情況下 可以對上述公開的實施例做出許多修改和變化。
1權利要求
1、一種用于有限旋轉發(fā)動機的位置傳感系統(tǒng),該位置傳感系統(tǒng)包括照明源和與所述照明源相鄰的多個檢測器區(qū),所述照明源向與有限旋轉發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引導照明光,所述多個檢測器區(qū)用于從所述照明反射器接收調制的反射照明光。
2、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述照明源包 括單個LED光源。
3、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述照明反射 器包括交替的鏡面反射區(qū)和照明吸收區(qū)。
4、 根據權利要求3所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述照明反射 器包括三組鏡面反射區(qū)和三組吸收區(qū)。
5、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述多個檢測 器區(qū)包括多對互補的相鄰檢測器區(qū)。
6、 根據權利要求5所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述多個檢測 器區(qū)包括三對互補的相鄰檢測器區(qū),對所述三對互補的相鄰檢測器區(qū) 的輸出取平均值,從而提供相對位置信息。
7、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所迷照明源基 本上與所述多個檢測器區(qū)在同一平面,所述多個檢測器區(qū)圍繞所述照 明源。
8、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳感 系統(tǒng)與掃描系統(tǒng)相連接。
9、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳感 系統(tǒng)與激光鉆孔系統(tǒng)相連接。
10、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳感 系統(tǒng)與激光標記系統(tǒng)相連接。
11、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳感 系統(tǒng)與基板加工系統(tǒng)相連接。
12、 根據權利要求1所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳感系統(tǒng)與激光修整系統(tǒng)相連接。
13、 一種用于有限旋轉發(fā)動機的位置傳感系統(tǒng),該位置傳感系統(tǒng) 包括照明源和多組功能互補的檢測器區(qū)對,所述照明源向與有限旋轉 發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引導照明光,所述多組功能互補 的檢測器區(qū)對基本上與所述照明源在同 一平面,并圍繞所述照明源, 以便從所述照明反射器接收調制的反射照明光。
14、 根據權利要求13所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述多組功 能互補的檢測器區(qū)對與輸出電路相連接,所述輸出電路提供表示多組 檢測器區(qū)中的每一對的第一檢測器輸出的平均值的第一平均輸出信 號,并提供表示多組檢測器區(qū)中的每一對的第二檢測器輸出的平均值 的第二平均輸出信號。
15、 根據權利要求13所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述照明反 射器包括三個相互間隔開的鏡面反射表面,并且所述多組功能互補的 檢測器區(qū)對包括三對檢測器區(qū)。
16、 根據權利要求13所述的位置傳感系統(tǒng),其中,所述位置傳 感系統(tǒng)與掃描系統(tǒng)相連接。
17、 一種在有限旋轉發(fā)動機系統(tǒng)中提供相對位置信號的方法,所 述方法包括下述步驟從照明源向與有限旋轉發(fā)動機的轉子一起旋轉 的照明反射器引導照明光;以及在多組功能互補的檢測器區(qū)對處接收 來自照明反射器的調制的反射照明光,所述多組功能互補的檢測器區(qū) 對基本上與所述照明源在同一平面,并圍繞所述照明源。
18、 根據權利要求17所述的方法,其中,所述方法還包括提供 表示多組檢測器區(qū)中的每一對的第一檢測器輸出的平均值的第一平 均輸出信號的步驟。
19、 根據權利要求18所述的方法,其中,所述方法還包括提供 表示多組檢測器區(qū)中的每一對的第二檢測器輸出的平均值的第二平 均輸出信號的步驟。
20、 根 權利要求17所述的方法,其中,所述方法還包括響應第 一平均輸出信號和第二平均輸出信號調整反射鏡位置控制信號的步驟。
全文摘要
公開了一種用于有限旋轉發(fā)動機的位置傳感系統(tǒng),該位置傳感系統(tǒng)包括照明源和與所述照明源相鄰的多個檢測器區(qū),所述照明源向與有限旋轉發(fā)動機的轉子一起旋轉的照明反射器引導照明光,所述多個檢測器區(qū)用于從所述照明反射器接收調制的反射照明光。
文檔編號G01D5/347GK101636638SQ200780030761
公開日2010年1月27日 申請日期2007年6月4日 優(yōu)先權日2006年6月19日
發(fā)明者A·皮納德, K·普魯因, K·西多爾 申請人:杰斯集團公司