專利名稱：布圖的檢查裝置、檢查方法以及半導體裝置的制造方法
布圖的;j^查^^置、檢查方法以及^^裝置的制造方法
技術領域：
本發明涉及一種^H^裝置、用于制a晶顯示裝置等的布圖檢查裝置、 布圖的檢查方法以及半"f^^裝置的制造方法。
背景絲
近年來，在^H^裝置等的制造中，構成電路的元件、布線等等向著高集 、布圖向著微型化的方向it^。從而^til種高絲、微型化的j^^過程中 成為^N^裝置等的布圖轉印的原版的掩^4在缺陷的情況下，在襯底(晶片) 等上不食feii行正確的布圖投影，產生次品。從而，有必要進^r查掩模缺陷的 缺陷檢查。
^it樣的掩;^缺陷檢查中，乂^了如下凈脈在CCD(電^^糾)傳 感器等上使利用光學系Mit大的布圖成像，將得到的光學性的圖^^據變M 電子的圖^^據而進行缺陷檢查的技術。(例如，參考^i午文獻l)
jtl^l:，所謂55nm (納米)時代的"f"m^裝置的布圖的線寬是220nm (納 米)"，掩模缺陷檢查所^^的檢查光的波長能ii^J 257nm (納米)以下。 這樣當布圖的線寬等檢查對象的尺寸^r查光的波長以下時，光學的分辨度不 夠因此不食將出缺陷信號充輛輸出。為此，^i午文獻l (特開平7-128250號 公報)中所顯示的現有才i^中，出現檢查能力不足的問題。對jH^L考慮了將檢 查光的波長"&^檢查對象的尺寸以下的情況，由于需要光學^MMIL^上改變， 因此光學系統的設計上具有非常大的困難。
發明內容
發明所要解決的技術問題
本發明提^-"種即使檢查對象的尺寸^^查光波長之下也能夠進行高， 度檢查的布圖檢查裝置、布圖檢查方法以及^^裝置的制造方法。 解決問題的手段
本發明的一種實MiC^^-種布圖檢查裝置，具有如下特征 用于通iMitt^^r查的第l^it系統、用于通it^j^ii^r查的第 2投光系統中的至少一個;檢查光學系統，對^r查對^Ji的布^^f^聶像 臺子，用iM^^^多動上離查對象；以及衍射^制單元，用糾強由JJi 布圖衍射的光。
jHW卜，本發明的另一實施方iC^fr"種布圖檢查方法，是通it^"檢查對象 上的布圖進e^像iMi^^查的布圖檢查方法，具有如下特征
i5^Jiii衍射;5yt制單元的照射糾以便增強由Ji^布圖衍射的光，進行 檢查的步驟。
條Ji^射糾進嫌查的步驟。
除》力卜，本發明另一實MiUI^-"種^^裝置的制妙法，具有如 下特征
在^JV^面形^圖的步驟，用上述檢查方法對上述布圖進#^查的步驟。 發明的絲
按照本發明，提供即^^r查對象的尺寸^r查光的波長以下，也食feii行 高分辨度檢查的布圖檢查裝置、布圖的檢查方法以及"f"^^裝置的制造方法。
圖1說明本發明第1實M式所涉及的檢查裝置的構成圖。圖2用于說明1/4波，的功能的^^式圖。圖3用于^^說明^目^1的作用的模式圖。
圖4用于說明直線偏光的偏光面的方位角變化的情況下的^的模式圖。
圖5用于說明本發明的第2實^r式所涉及的檢查裝置的構成圖。
圖6用于^^兌明光闌的作用的模式圖。
圖7用于說明光闌的^的模式圖。
圖8用于檢查對象的檢查面附近的模iUU^圖。
圖9用于例示對每個檢查區域i5^J:適合的照射a進^^查的情況
的模式圖。
圖io用于例示檢查;l^的沐程圖。
圖11用iS兌B月;^r查lt據的核對方式的^^式圖。 符械明
l檢查裝置、6透狄源、8柳狄、9袖差板、12絲光源、14袖 差板、15柳錄、17攝解元、19對物透鏡、20直線偏光、21圓偏光、22 直線偏光、23直線偏光、24直線偏光、25偏光、29檢查裝置、32透狄源、 34光闌、37X^J"光源、39光闌、42對物透鏡、46開口、 48光闌、49開口部、 E與瞳面共輒的位置、F瞳面、M檢查對象、p間距、e衍射角度。
絲實齢式
本發明人的研究結果發現，通過將^r查對象上的布圖上衍射的光增強， 即"f^M^查對象的尺寸小于等于檢查光的波長，也負^i行高分辨度的檢查。 首先，參考
本發明的第1實施方式。本實施方式中以樹目差M
例，作為增強由檢查對象上的布圖衍射的光的單元(衍射^yt制單元)。
圖1 A^iH兌明本發明第1實施方式中的^r查裝置1的構成圖.
在圖1中所示的檢查裝置1具有通itiiife^^r查的第1提&系統2、 通it^f;5t^^^查的第2拔5t系統3、用于對檢查對象M上的布圖進^L像 的檢查光學系統4、用4U^^^多動檢查對象M的臺子5。 ^卜，為了便iS兌 明，用能夠通iiit^^t^r查也能夠通it^Mei^t^查的檢測裝置1進^ti兌 明，但并不限定于此，也可以是能夠檢查某一個的裝置。在第1狄系統2上 M有透狄源6，扭隨脅原6的狄上 有|^1:鏡7、柳錄8、 創目差板9、鏡子IO、 ^it鏡U。但是，鏡子10不是必要的，也可以在一條直 線上Mii:狄源6、 IM^鏡7、袖差板8、姊差板9、絲鏡ll。
在第2艦系統3上i5^有絲光源12，在絲光源12的itS^上i^X有 ^t鏡13、姊錄14、似目錄15、枝明絲鏡16。
由第l投光系統2產生的透itit和由第2提&系統3產生的^j"光，M 都;J^t一致iik^到攝^^元17。彭卜，^ii個;5fe^上i5^有成^it:鏡18和對 物透鏡19，與攝^^元17-^^構^r查光學系統4。
>^^€^源6和^光源12^出的光的波"^^^!短的，例如，可以 4M波長為266nm (納米)的YAG ^Jt源、波長為257nm (納米)的遠紫 外徘^UUt源。 攝像元17是能夠將光學的圖傢數據轉換為電子圖傢數據的單元，例如可 以是ccd (電荷齡m)傳感器等。
作為檢查對象m，除了網狀等的光刻掩膜外，可以例舉底(晶片)、 液晶顯示裝置用的玻^H"底等，但并不限于此。 可以用于 直線偏光的偏光面的方位角的用途。
作為相差板，可以例舉脂制的壓力根據該時的剩余變形的 圖3是用于說明甜目差板的作用的模式圖。在與圖l同樣的部分，使
用相同的符號，省略相關說明。皿紫外^^^t源等的透itit源6 i^出 的直線偏光22通過IKii:鏡7而^A為直線偏光23，趟到1/2波條即位 相l敗8。 ^目基板8通過未圖示的旋轉單元，將ife^26作為旋轉軸;Jlt^轉， 能夠^直線偏光24的偏光面的方位角。直線偏光24 A^到具有1/4波*的 樹目基板9。斜目基敗9通過未圖示的旋轉單元，將M軸26作為旋轉軸M 轉，能夠將直線偏光24變^;偏光25。這時，通過直線偏光24的方位角能夠 選擇直線偏光、圓偏光、橢圓偏光。jHW卜，能夠選擇橢圓偏光的橢圓率。偏光 25A^到^^鏡ll后，照射到檢查對象M的檢查面上。這樣，通過調^f目 差板，可以一it^直線偏光的偏光面的方位角， 一邊將直線偏光的光變^7 直線偏光、圓偏光、橢圓偏光，照^j^查對象M。
接著，說明一it^直線偏光的偏光面的方位角， 一邊將直線偏光的光變 M直線偏光、圓偏光、橢圓偏iML后，照射到檢查對象M時的效果。
圖4;MiS兌明^直線偏光的偏光面的方向角時的^的模式圖。圖4 (a) ^A^f光27為TE偏光(Transverse Electric Wave; S波)的情況。在 TE偏光的情況下，A^"光的電場的振動方向是垂直于紙面的方向(圖中的箭頭 A的方向)，由檢查對象M的檢查面的布圖衍射的光的干涉所產生的最大振幅 因為對衍射ife^粉目加，^pi幅狄了2倍。圖4 (a)的左下方的箭頭的圖模 ^Mk^示了這一清況。
圖4 (b)中，A^j"狄TM偏光(TYansverse Magnetic Wave; S波)的 情況。在TM偏光的情況下，A^光28的電場的振動方向是與紙面平行的方向 (圖中的箭頭B的方向)，由檢查對象M的檢查面的布圖衍射的光的千涉所產 生的最大振幅因為衍射光的垂直部分(紙面的上下方向)成為反向而相互抵消， 只《_水平成射目加。圖4 (b)左下方的箭頭模i^k^示了這Ht況。
因此，^^聶f^元17jiii過TM偏光(P波)成像的圖^^比度，》bit過 TE偏光(S波)得到的圖像的對比度JH氐，iti^^度低下。^M^查對象M 的抬r查面的布圖的方向^i一^^向的情況下，t^M通過^Jl線偏光的偏光面 的方位角和布圖的方向j，衍射光增強，可提高光學的^f度。
為此，在檢查中，測定對象M的布圖是一定方向的情況下，通過^Jl線偏 光的偏光面的方位角與布圖的方向一致，衍射，強，能夠進行高^^度的檢 查。jHl^卜，在布圖不是一定方向的情況下，通it^擇圓偏;fe^^^查，可以確
^f^l賴于布圖的方向的^f度。
接著，返回圖1對檢查裝置1的作用ii^ti兌明。
作為賄狄源6錄出來的直線偏光的光，利用IM^:鏡7而絲，通 過行似目差板8^M^目狄9之間A^到鏡子10。這時，考彭，J上述檢查對 象M的布圖的方向性，適當地選擇照射到檢查對象M的偏光的種類、方位角 等。這一^擇是通錄圖示的旋轉單元，以;5fe^為旋轉軸4W目差板8、樹目差 板9旋轉而進"f詢。趟到鏡子10的光，從直角下方iW"iCi變化，A^到聚 光鏡ll，照射到檢查對象M的檢查面上。該;3titii^查對象M的檢查面得到 圖像，樹物透鏡19處擴^，通過絲明^t鏡16^，通ii^^it:鏡18 ^!fe^^元17 Ji^像。這,到的光學圖^^據，通過攝^J^元17將^#化 為電子的圖像數據之后，傳輸到未圖示的圖像處理單元，進行缺陷的有無、大 小等測量，判斷好壞。這一檢查結束之后，由臺子5將檢查對象M移動到下一 個檢^P分，繼續進^^r查。
>^#光源12絲出來的光，通過^feit鏡13絲，A^到^ht樹目差 板14 ^^目錄15之間的絲明^t鏡16。 A4t到絲明^t鏡16的光，從 直角上方iU^^變化，A^j"到對物透鏡19，照射到檢查對象M的檢查面上。 該it^l^r查對象M的檢查面得到圖像，樹物透鏡19處擴;^，通過^ii: 明絲鏡16^,通狄絲鏡18綠鮮元17Ji^像。似目錄14、袖 差板15的作用、減學圖^^:據到電子的圖^^t據的變換、通過臺子5)^r查 對象M的移動，與上iiA相同的。
如上所述，可以通iiii:it^i"fJ^r^tit^itJi^^查。這時，即使 4^查對象的尺寸^r查光的波長以下或分辨度制氐的情況，也可以考慮檢查 對象M的布圖的方向性，進樹強了衍射光的檢查，能夠進行高^f度的檢查。
接著，參照
本發明的第2個實施方式。
在^實施方式中以光闌為例，作為M過檢查對象上的布圖衍射的光增強 的單元(衍射;5t^制單元)。
圖5 A^I來說明本發明的第2實施方式所涉及的檢查裝置29的構成圖。 如圖5所示，檢查裝置29具有用于通ititiiitii^^查的第1提屯系統 30、用于通it^;5ti^f^r查的第2M系統31、用于攝^^r查對象M的圖像 的檢查光學系統32、承^^多動檢查對象m的臺子5。 jHW卜，為了便于說明，用
能夠通iii^itibii^r查,也能夠通it^hJb^^r查的檢查裝置29進^i兌明， ^a并不限定于此，也可以是檢查某一個的裝置。
在第1投光系統30中，設置有透狄源32, ^Eiiiiit源32的光路上i^ 有聚ifei^鏡33、光闌34、鏡子35、聚光鏡36。但是，鏡子35不是必要的，也 可以在一條直線上iU透it^源32、 ^tit鏡33、光闌34、 IM^鏡36。
在第2投光系統31中，該i有^JN"光源37,在M光源37的光>5^上{ 有聚ifeit:鏡38、光闌39、 M明^f鏡40。
通it^ 1 M系統30的透it^iiit^ 2 fet系統31的^j"光，M大 致一IUikA^到攝^f繂元17。另外，在該3t^上i5^有成寸^it:鏡41和對物透鏡 42,與攝^^元17-^^I^r查光學系統32。
絲狄源32和幼光源37， ^^f^I;^lt出來的光的波"l^i的，例如， 可以使用波長為266nm (納米)的YAG fc^源或波長為257nm (納米)的 遠紫外徘^jt源。
攝^^元17是能夠將光學的圖^^據轉換為電子圖^lt據的單元，例如可 以是CCD (電荷絲糾)傳感器等。
作為檢查對象M,除了有網狀等的光刻掩^U卜，還可以例舉襯底(晶片)、 液晶顯示裝置用的玻^H"底等，^a并不限定于》匕
光闌34、光闌39是4^M^r查對象M的枱r查面那樣的特定"lHi的:^過 的單元，"&^與對物透鏡42的瞳面共扼的位置上。而且，其開口位置、開口 面積可以用未圖示的調整單元調節。通過^^1該調整單元調整開口位置、開口 面機可以^^、射對絲m的檢查面那樣的特定頓的絲過。jH^卜，缺準 M口位置襯口面積不同的光闌，可以進行自動或手動的替換。
圖6A^于^^說明光闌的作用的模式圖。與圖5中同樣的部分賦予相同 的符號，省略說明。M紫外^H^U^源等的透itt源32ife時出的M過聚 itJt:鏡33在l^t鏡36的后側焦點位置C絲，狄平行ife^^射到檢查對象 M的檢查面。透過檢查面的平行^A^到對物透鏡42，通it^由對物 透鏡42和成^i^鏡41,檢查面的圖^^^^元17上成H
在與對物透鏡42的瞳面(對物透鏡的后方焦點位置D)共輒的位置E， i殳 置有^^y^:查對象M的檢查面那樣的特定*的光透過的光闌34，對于檢查 面能^3l使具有一定角度的it^itc彭卜，樹物透鏡的瞳面F (對物透鏡
的后方焦點位置D),也可i5^^^、射到檢查對象m的檢查面上的特定部位的 ;fet過的光闌34a，也能^W樹于檢查面具有一定角度的it^t過。因此，通 itil樣的構造能^U^自檢查對象m的檢查面具有一定角度的ife^^菱^^ 元17上成像。j^卜，為了便iS兌明，在圖6中在與對物透鏡42的瞳面f共輒 的位置E上i^有光闌34、光闌34a，但至少該！其中一個也可以。
接著，說明光闌的絲。圖7^來說明光闌的絲的模式圖。另外，圖 8是檢查對象m的檢查面附近的^bt圖。另外，在與圖6中相同的部^^M了 相同的4H"，省^目關^兌明。
如圖7所示，使特定部位的M過的光闌48，通過"i5X^與對物透鏡42 的瞳面共輒的位置e上，使絲一定角度的光能夠照射到檢查對象m的檢查面 的布圖。這時，通itit當地"&^E射角度，肯&夠將^r查面的布圖上衍射的衍 射光M。 ^，如果能夠將衍射光l^t的話，則能夠更多 #^射光，能 夠將對對比^X貢獻的背景jt^，能夠提高^^度。
如圖8所示，在照射光43的兩干涉a的^Hf是0次衍射光44和1次衍 射光45的衍射角度e為相同的sine-V(2Ap)。級，Ji^jR射光的波長，p是 布圖的間距。
為此，如果#^射角度0 ^相同的光闌48 itl^與對物透鏡42的瞳面 共軛的位置E上，能夠將4^查面的布圖上衍射的0次衍射光44和1次衍射光 45絲。一^地，用來將N次衍射光絲的角JEAsine-NW^p)。因此，通 過將適^l-^Ht的光闌48 ^WE與對物透鏡42的瞳面共輒的位置E上，能 夠將N次衍射光絲。
在此，當^M1具有環形狀的開口部46作為光闌48的情況下，開口部46 的半徑R，與A^光47的o值(對物透鏡42的開口數NA與透:itib原32的開 口l^b^匕)才目等，可由下^#出
R=o=sine/NA= N*V(NA*2*p)
這樣，如^Wt物透鏡42的瞳面f或與之共輒的位置e， "&X使特定"^ 的M過的光闌48，能夠git^r查面的布圖衍射的衍射i^多itk^入，jHW卜， 能夠對對比奴貢獻的背景^IL結果，能夠提高對具有周期性的間距p的
布圖進^m聶像時的光學^f度。
另外，在圖7中所例示的光闌48，通*形狀的開口部46使衍射;JtM" 物透^h^t^高光學^^度，同時也能夠在中^lHU開口部49對間距p 不同的布圖的衍射itii^^t。為此，對于具有^t糾間距的尺寸、形狀的 布圖，都能夠得到高分辨度。
接著，返回到圖5說明檢查裝置29的作用。
錢itit源32絲的光，通過l^fcEi鏡33絲，通iiJt闌34趟到鏡子 35。這時，考慮如上所述的檢查對象M的布圖的間距等，適當選擇光闌34的 開口位置、開口面積等。這-"^擇，；i通過由未圖示的光闌調^^元，對光闌 34的開口位置、開口面積進行改變而進行的。例如，箱財環形狀開口* 為光闌34的情況下，可以在光闌34的表面4棘圖示的拓^^W動，來 開 口部的半徑、開口面積等。jth^卜，也可以準4^P開口部的半徑、開口面積等 不同的光闌，進行自動的或手動的替換。趟到鏡子36的光，從直角下方tt ife^并A^到^i鏡36，通艦闌34的^^f吏具有一定角度的itE射到檢查 對象M的檢查面的布圖上。該ife^itit:過檢查對象M的檢查面而得到的圖像， 樹物透鏡42處擴大^，通過枝明X^鏡40利用成^it:鏡41^^聶^^元 17上成氛這，到的光學的圖^^:據，通過攝^^元l7變換為電子的圖^a 據^，傳iH^未圖示的圖像處理單元，進行缺陷的有無和大小等的檢查，好 壞判斷。 一個^k^r檢查終ih^后，通過臺子5將檢查對象M移動到下一個檢查 部分，繼續ii^r查，
A^j"光源37放射的光，通過l^t鏡38聚光，經由光闌39A^到^t 明A^"鏡40。 A^到扭明X^鏡40的光，從直角上方妙iWA^到對物透 鏡42，照射到檢查對象M的檢查面上。通過該it^H^查對象M的檢查面所 得到的圖4象，^j"物透鏡42處擴大^，通過半透明《身鏡40利用成^it:鏡 414^f鮮元17上成像。在光闌39的作用下，光學的圖^K:據變^7電子的 圖^^據，通過臺子S將檢查對象M移動，與上述一樣。
如上所述，成為進^^用透狄的檢姊利用絲光的檢查。這時，即使 ^i^r查對象的尺寸^r查光的波長以下或^^度低下的情況下，也能夠4^t射 光l^t、進行將對對比度沒有貢獻的背景ife^的檢查，所以能夠進行高， 度的檢查。
接著，說明對于檢查對象M的每個檢查區域i5^:適合的照射^N^憤 查的情況。圖9是例示對每個檢查區域i^^適合的照射M進^^r查的情況
的模式圖。
在圖9中所示的、檢查區域50是財一定間距的城的布圖，例如，在必 須進行高^f度檢查的DRAM (動態隨才;W^M^器)、NAND型閃存等的單 元區域的布圖的情況下，組合了偏光面的方位角和布圖的方向的直線 偏光的檢查。jft^卜，還能夠進行^fM了具有預定的開口部半徑、開口面積的環 形^Ut闌的^r查。
同樣，^it^r查區域51是具有一定間距的橫線的布圖的情況下，進行^^I改 變了偏光面的方位角使布圖的方向合適的直線偏光的檢查。jft^卜，還能夠進行 使用了具有預定的開口部半徑、開口面積的環形收&闌的檢查。
^r查區域52的布圖不^^-"定形狀的情況下(例如，邏輯布圖的情況)， 由直線偏光變換成圓偏光而進行使用圓偏光的檢查。jH^卜，還能夠進行使用除 了環形狀的開口 ^Jt在中央部^^有開口部的光闌的檢查。
jH^卜，r^可以同時iU創目;t^光闌，進^^合了偏M類和環形狀開 口等的檢查。
這樣才Mt本發明，能^t每個布圖方向、尺寸等的檢查區域的^H議 最適合的照射沐
圖10是例示檢查"1^的^^圖。
如圖IO所示，才娥能否M^查數據到照射糾進行自^i議，^r查步驟 的產生方法不同。在檢查數據中，設定有檢M格、布圖信息(布圖是否為具 有一定間距的線、布圖的方向、間距的尺寸等信息)，在可以自動iik^5it每個檢查
區域的檢查條件、照射*進行判^^^:的情況下，可使用電腦等自動產生
檢查步驟。但是，在不食^r查數IB人別布圖信息等使得檢查步驟不能自動產 生的情況下，工作人員需要通ii^入必要的信息，來產生檢查步驟。
^r查步驟產生^，按照檢查步驟，對每個檢查區域i^m射糾，按 照奴的照射糾進微查。
這時，雖然不;i必要的，^^Wr查^Llt在^^W^元17的傳感器輸出 電"f^^一定電平的標定、芯片到教:據庫(die to database)的^r查的情況下 進行生^^照數椐的產生時必要的參照x^生系數的i^:。
jt狄，簡單說明參照JCA系數。參照JL生系lbl,用于將lt據庫上的布圖 數據與攝^^的布圖數據之間產生的M進根卜正的系數。圖U^liS兌明檢
查數據的核對方式的模式圖。如圖11所示，^r查中，有tb^Ma^^元17 得到的布圖的光學圖像數4t^數據庫中的CAD數據，即M^r查對象M的設計 數據生成的參照數據，進^j^查的芯片到數據庫(die to database)的檢查方式，
復部分得到的檢查對象M的布圖的光學圖^lt據，進^^ri的:片到芯片(die to die)的檢查方式。在芯片到芯片(die to die)的抬r查方式的情況下，》b^j" 象;l^賴聶像的光學圖^lt據的;fcH^間，故數據之間不會產生i^t。然而，在 芯片到數據庫(die to database)的檢查方式的情況下，tb^象^^ ^l像的光 學圖像數ll^從設計數據產生的參照數據，所以數椐間有時產生固有的誤差。 ^il樣的i^t產生的情況下，對^11進^#正、為了^it學圖^^:據與參照數 據能夠進行》嫩的系數，；tt^參照^系數。
檢查是按以下的J'1^進行。^圖示的數據庫等傳送檢查數據(步驟Sl )。 判斷能否自動產生檢查步驟(步驟S2)。在不能自動產生的情況下，通itx作 人員輸入必要的信息，產生檢查步驟(手動產生)(步驟S3)。能夠自動產生的 情況下，4M圖中未示出的電腦等自動產生檢查步驟(步驟S4)。級，雄 查步驟中，含有對檢查區域的照射條降(除了直線偏光和圓偏ife^卜方位角或 直線偏光的方位角、光闌的開口位置、開口面積等)。M地，可以例舉包括位 相差板的旋轉角度、光闌的開口位置、開口面積的調M等等。jH^卜，^r查 工序中還能夠包含多個檢查區域的條降。進^&^檢查區域50中的照射條件、 進#^準、計##照>^系數等等的檢查準備(步驟S5)。通過臺子5將檢查 對象M移動到檢查區域50上食^r查的位置、對檢查區域50進#^查(步驟 S6)。對于檢查區域51中的照射糾進^i議、進#^準、算出參照M系數 等等的^r查準備(步驟S7 )。通過臺子5將檢查對象M移動到檢查區域51上 負^r查的位置，對檢查區域51進^r查(步驟S8)。對于檢查區域52中的照 射糾進^i議，進^^準，算出參照^系數等等的檢查準備(步驟S9)。 通過臺子5將檢查對象M移動到檢查區域52上食^r查的位置，) t^查區域52 進^r查(步驟S10)。如^^斤有檢查區域的檢查都結束，則檢^f止。射卜， 為了俊^S兌明，枱r查區域i5^為3個，^限定于此，可以適宜Akii行變更。
接著，說明本發明的第3實齡式的^^裝置的制妙法。這一^f^ 裝置的制it^法是^H上ii^發明所涉及的布圖檢查方法，通過重J^、涂 ^膠、啄光、顯影、蝕刻、除去ife^膠等^t底(晶片)表面形
成布圖的步驟，按本發明的布圖檢查方法進^^r查的步驟，清洗步驟，熱處理 步驟，雜質導入步驟，擴散步驟，平坦化步驟等多項步驟，進行實施。W卜， 除了利用上述的本發明所涉及的布圖的檢查方法的檢查步驟o，還可以適用 *的糾絲手段，腿省略說明。
以上，參考M實施例，i兌明了本發明的實施，形態。然而本發明并不局限于此。
關于上述的M實施例，；^5域^^A員可以進行適當的變更與增加，只 JW^本發明的特征，就包含^"發明的獄范圍之內。例如，利用檢查裝置 的透itti^f^r查的絲系統、利用A^ife^^f^r查的狄系統、對檢查對象 的圖^i^^聶像的檢查光學系統、用于^#動檢查對象的臺子等的形狀、配 置、個數等，不限于^^例子中所說明的情況。
jHW卜，檢查對象可以是透明、不透明、^逸明的，其材質可以是玻璃、硅 等樹材料'而且，為了便iS兌明，檢查對象是4W作為^m^裝置等的瀑光 步驟使用的掩模、顯示面扭所使用的液晶顯示裝置中使用的玻璃襯底、半# 裝置的襯底(晶片)進行了說明，然而檢查對象的用途并不局限于此。
權利要求
1、一種布圖檢查裝置，其特征在于包括用于通過透過光進行檢查的第1投光系統、用于通過反射光進行檢查的第2投光系統中的至少一個；檢查光學系統，對在檢查對象上的布像進行攝像；臺子，用來承載并移動上述檢查對象；以及衍射光控制單元，用來增強由上述布圖衍射的光。
2、 ""^布圖檢查方法，是通i^J"檢查對fJi的布圖進^^像iMi^r查的 布圖檢查方法，^Hi^于^:i5^Jiii衍射絲制單元的照射糾以便增強由上述布圖衍射的光，進行 檢查的步驟。
3、 fc^U'j^求2所述的布圖檢查方法，^#絲于還^ 傳i^^"有上ii布圖的信息的^r查lt據的步驟；以及 產^^于Jiii^r查數據包含JiiiH射a的檢查工序的步驟。
4、 fc^，澳求2或3所述的布圖檢查方法，^#^于 Jiii^射條降中包舍Ji^^NLt^的旋轉角度、Ji^闌的開口位置、開口面積中的至少一項。
5、 ,J^紹的制妙法，絲絲于^t: ^j^HV^^面形^圖的步驟，^^擬iJJ^求2或3 i2^的檢查方法對Ji^布圖進^f^r查的步驟。
6、 "-^^f^裝置的制ii^法，*#4^于^ ^H7l^面形J^圖的步驟，^^U，溪求4 ^^的檢查方法對上述布圖進^r查的步驟.
全文摘要
本發明提供一種即使在檢查對象的尺寸在檢查光的波長以下，也能夠進行高分辨度檢查的布圖檢查裝置、布圖檢查方法以及半導體裝置的制造方法。檢查裝置具有用來通過透過光進行檢查的第1投光系統、用來通過反射光進行檢查的第2投光系統中的至少一個，用來通過對在檢查對象上的布像進行攝像的檢查光學系統，用來承載并移動上述檢查對象的臺子，用來增強在上述布圖上衍射的光的衍射光控制單元。
文檔編號G01N21/956GK101109711SQ200710142159
公開日2008年1月23日 申請日期2007年6月29日 優先權日2006年6月30日
發明者井上廣, 吉川綾司, 渡邊智英 申請人:株式會社東芝