用于制程真空環(huán)境的電子診斷的系統(tǒng)及方法

專利名稱：用于制程真空環(huán)境的電子診斷的系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種用于制程真空環(huán)境的電子診斷的系統(tǒng)及方法。
技術(shù)背景在該制程腔室內(nèi)的許多半導(dǎo)體及涂布制程需要前后一致、可重現(xiàn)、高 品質(zhì)的真空環(huán)境。這類真空環(huán)境對于制程最佳化、工具利用及良率重要的。最佳的制程真空環(huán)境不會有泄漏、污染及排氣；并具有依照所指定地進行 操作的所有構(gòu)件及子系統(tǒng)。用于診斷這類系統(tǒng)中的真空構(gòu)件的問題的一些習(xí)知技術(shù)牽涉到模式辨 認及統(tǒng)計方法。；^莫式辨認技術(shù)需要產(chǎn)生構(gòu)件失效并測量該些伴隨的情況。 統(tǒng)計技術(shù)測量所有相關(guān)參數(shù)并試著找出該些參數(shù)中的一些參數(shù)與構(gòu)件失效 間的關(guān)聯(lián)性。發(fā)明內(nèi)容一種方法及系統(tǒng)被提出以用于辨識與例如一半導(dǎo)體制程叢集工具的工 具有關(guān)的真空環(huán)境中的真空品質(zhì)問題的來源。真空環(huán)境資料被收集并儲存； 而在該真空環(huán)境內(nèi)的一異?，F(xiàn)象被辨識出。在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的 一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)被判斷出。接著，根據(jù)該異常現(xiàn)象很可能發(fā)生時的 一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。 該真空環(huán)境狀態(tài)由例如該環(huán)境內(nèi)的絕對壓力、基礎(chǔ)壓力、壓力上升率及氣 體種類與位準(zhǔn)的壓力測量所定義。該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)由制程設(shè)備、例 如是風(fēng)箱及密封件的真空隔離構(gòu)件、及例如是接至真空泵的閘閥的接至真 空設(shè)備的界面的狀態(tài)所定義。判斷該真空品質(zhì)問題的來源可進一步根據(jù)例如一低溫泵、渦輪泵或其 它真空抽取構(gòu)件的真空設(shè)備狀態(tài)而定。也可根據(jù)該真空環(huán)境狀態(tài)歷史、工 具狀態(tài)歷史及真空設(shè)備歷史而定。該異?，F(xiàn)象的辨識可包含即時測量分析、 一真空環(huán)境歷史及/或一工具 狀態(tài)歷史?？砂治鲇蓧毫ι仙?、基礎(chǔ)壓力、基礎(chǔ)壓力趨勢、殘余氣 體分析、操作壓力、操作壓力歷史及壓力回復(fù)曲線所構(gòu)成族群中的一或多 個測量。該異?，F(xiàn)象可為基礎(chǔ)壓力的變化或是壓力上升率的變化。該異?，F(xiàn)象可被辨識，且它的來源可藉由自動資料分析方式來判斷出。 在故障前辨識出異?，F(xiàn)象來源使得預(yù)防性的維修成為可能的。該真空品質(zhì) 問題的來源的自動電子通知也可藉由一 自動電子郵件方式提供給負責(zé)維修該設(shè)備的服務(wù)人員。該判斷真空品質(zhì)問題的來源的步驟可進一步根據(jù)一般性工具操作狀態(tài) 而定，其可包含由閑置、關(guān)閉、合格、抽真空及處理中所構(gòu)成的族群中的 一狀態(tài)。該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)可由感測該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)或分析該 真空環(huán)境資料而判斷出。在一實施例中提出載有用以辨識與一工具有關(guān)的真空環(huán)境中的一真空 品質(zhì)問題的來源的一或多個指令序列的電腦可讀取々某體。以一或多個處理器執(zhí)行該一或多個指令序列使得該一或多個處理器執(zhí)行下列步驟收集及 儲存真空環(huán)境資料；辨識該真空環(huán)境內(nèi)的一異?，F(xiàn)象；判斷在該異常現(xiàn)象 很可能發(fā)生時的一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)；以及根據(jù)該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生 時的一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。


本發(fā)明上述及其它目的、特征及優(yōu)勢將由下列本發(fā)明的各實施例的更 特定的說明中變得明顯，如附圖所示，其中，類似參考圖號指示所有各圖 中的相同部分。該些圖式不一定是按比例繪制，因為其強調(diào)的是說明本發(fā) 明的原理。圖1顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例將一半導(dǎo)體叢集工具使用于一電子診 斷系統(tǒng)。圖2顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的用以執(zhí)行傳送自圖1系統(tǒng)的資料的 電子診斷的資料處理設(shè)備的安排。圖3顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的一制程/回復(fù)循環(huán)期間的整段時間所 接收的可被使用以判斷一基礎(chǔ)壓力的壓力及狹縫閥信號。圖4根據(jù)本發(fā)明的一實施例使用于腔室的上升率分析中的資料，以判 斷可能的系統(tǒng)狀態(tài)。圖5顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例進行電子診斷以辨識晶圓承載臺風(fēng)箱 中的泄漏的一系列信號。圖6顯示一錯誤分析流程圖，其說明根據(jù)本發(fā)明的一實施例的電子診 斷方法搡作。圖7顯示由一植入制程所產(chǎn)生的壓力對時間的信號，其可根據(jù)本發(fā)明 的一實施例進行電子診斷。圖8顯示可由一本地服務(wù)器接收自一渦輪分子泵所產(chǎn)生的信號并根據(jù) 本發(fā)明的一實施例進行電子診斷的加速度計振動對時間圖。圖9顯示由本地服務(wù)器1043接收并可根據(jù)本發(fā)明的一實施例于一晶圓間回復(fù)壓力分析中進行電子分析的 一 系列信號。圖10顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例可被使用以辨識一背面加熱器氣體歧 管中的壓力爆增的信號。圖11顯示正常操作期間與圖10的參數(shù)類似的參數(shù)。圖12顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例可被使用以辨識因一真空腔室內(nèi)的污染而引起排氣的基礎(chǔ)壓力資料。圖13顯示在圖12的腔室通風(fēng)后，根據(jù)本發(fā)明一實施例所判斷的基礎(chǔ) 壓力來處理該第一晶圓時的離子真空計壓力圖，并顯示基礎(chǔ)壓力下來自該 第一晶圓的污染效應(yīng)。圖14顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例于圖13所示時段期間所執(zhí)行的上升 率分析的圖形。圖15A及圖15B顯示可根據(jù)本發(fā)明的一實施例來執(zhí)行的交叉污染偵測。1001半導(dǎo)體叢集工具1002、1003制程腔室1004、1005裝載鎖1006傳送腔室1010-1014感測器輸出線1018工具控制器1019-1023類比診斷線1027-1030診斷通訊單元1035-1038數(shù)位診斷線1043、2043診斷本地服務(wù)器20442045中繼電腦2046-2048資料庫2049分析2050顯示2051電子通知7011陰影區(qū)域具體實施方式
本發(fā)明的較佳實施例的說明如下。本發(fā)明提出 一種用于制程真空環(huán)境的自動錯誤偵測及分類的方法，其 找到在半導(dǎo)體及涂布制造中特定的用途。該方法可提供由系統(tǒng)層級向下至 元件層級的根本原因分析。因為其預(yù)測的可能性，該方法可在制程、良率 及產(chǎn)量受到影響之前先對錯誤進行分析及校正。因為生產(chǎn)只在已排定的消 耗品置換時被暫停，故非預(yù)期的停工期被減至最小。圖1顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例將一半導(dǎo)體叢集工具1001使用于一電 子診斷系統(tǒng)。該叢集工具1001的制程腔室1002、 1003、裝載鎖1004、 1005、 傳送腔室1006及其它構(gòu)件配備有各種感測器，包含壓力、溫度、水流及其 它感測器。來自這些感測器的感測器輸出線1010-1014被饋至一工具控制 器1018。根據(jù)本發(fā)明的一實施例，類比診斷線1019-1023被使用以分接至 該些感測器輸出線中并將該些感測器輸出饋至一或多個診斷通訊單元 1027-1030。接著，該些診斷通訊單元1027-1030轉(zhuǎn)換該些類比感測器輸出 成為數(shù)位信號并將這些信號透過數(shù)位診斷線1035-1038饋至一診斷本地服 務(wù)器1043。雖然圖1中顯示四個通訊單元1027-1030, ^旦大體上可以有任 意凄t量的這類通訊單元1027-1030?？梢允敲恳粋€腔室1002-1006具有一個 通訊單元1027-1030，且每一個本地服務(wù)器1043 (例如，每一個本地服務(wù)器 有高達五十個通訊單元)具有許多通訊單元1027-1030。另外，在腔室 1002-1006數(shù)量與通訊單元1027-1030數(shù)量間不需有一對一的關(guān)系。許多不 同的電纜接線及資料傳送安排也可被使用，且所示的感測器輸出線 1010-1014、類比線1019-1023及數(shù)位線1035-1038中的每一個可載有多個 不同的信號。此外，應(yīng)了解的是，可載有轉(zhuǎn)換后的感測器輸出信號的數(shù)位 線可直接由工具控制器1018接通至該本地服務(wù)器1043，藉以避開使用該些 通訊單元1027-1030、類比線1019-1023及/或數(shù)位線1035-1038中的一些 或全部的需求。圖2顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的用以執(zhí)行傳送自圖1系統(tǒng)的資料的 電子診斷的資料處理設(shè)備的安排。來自該診斷本地服務(wù)器2043 (對應(yīng)至圖1 的本地服務(wù)器1043)的資料透過一例如是網(wǎng)際網(wǎng)路的通訊網(wǎng)路2044被傳送 至一組中繼電腦2045。來自該本地服務(wù)器2043的傳輸可例如以一電子郵件 附件的形式透過網(wǎng)i 各2044至該些中繼電腦2045。該本地月良務(wù)器2043可位 于與圖1的叢集工具IOOI相同的場所，并可透過網(wǎng)路2044將資料送至圖2 中位在進行該資料分析所在場所的其它資料處理設(shè)備。自本地服務(wù)器2043 送出的資料被解封包地送入中繼電腦2045并存入資料庫2046-2048，其可 于典型的資料倉儲設(shè)備上操作。電腦系統(tǒng)接著可使用由資料庫2046-2048 所儲存的資料以產(chǎn)生一分析2049及該分析結(jié)果的顯示2050,并送出電子式 通知2051。此外， 一些初步分析可由圖1的本地服務(wù)器1043來執(zhí)行，其取 代服務(wù)器2043送出通知或除了由服務(wù)器2043送出通知外，也可直接送出 一些通知(例如，透過網(wǎng)3各2044或另一通訊連結(jié))。在一些實施例中，下面 所述的所有分析及通知也可由本地服務(wù)器1043來執(zhí)行；盡管典型地圖2的 安排可被使用。通知2051可被送至一操作圖2的資料處理設(shè)備的公司的客戶，并送至 在現(xiàn)場的客戶的支援工程師。這類自動通知2051可例如采用一電子郵件形式來送至一客戶或一客戶的支援工程師，其以指令來調(diào)整圖1的真空制程 設(shè)備的操作參數(shù)或換掉該真空制程設(shè)備中的一構(gòu)件。更大致而言， 一通知可包含問題及所推薦校正動作的陳述。為了產(chǎn)生該分析2049,在一電腦系 統(tǒng)上執(zhí)行的電腦可讀取碼被使用以清查送至資料庫2046-2048的資料并尋 找位在該資料內(nèi)的特定數(shù)量關(guān)系。在某類型分析中， 一處理器尋找指示著"閘閥被關(guān)閉"及"狹縫閥被 關(guān)閉"的信號。當(dāng)這些信號中的兩者為"真"狀態(tài)時，其被推論為該腔室 被隔離，而該處理器查看自該工具1001所傳送的壓力對時間資料并導(dǎo)出該 工具1001中的一腔室的壓力與時間之間的關(guān)系。在此方式中， 一處理器被 使用以根據(jù)來自該些通訊單元1027-1030及/或該主工具的資料來推論該工 具1001中的一腔室狀態(tài)。在該壓力對時間資料例中，例如，可有三種狀態(tài) 被推論外泄、排氣或無泄漏。這個狀態(tài)可由工具1001中的一腔室的物理 知識及該些感測器輸出1010-1014的值導(dǎo)出。根據(jù)該推論狀態(tài)，該系統(tǒng)導(dǎo) 出在工具1001中錯誤發(fā)生地點的分析，并可接著推薦適當(dāng)?shù)男Ｕ齽幼鳌＠?如，當(dāng)該閘閥被關(guān)閉時， 一通知可根據(jù)壓力上升率對時間的分析而被送出。 下面的這類通知被稱為一腔室上升率通知。當(dāng)該真空泵閘閥被關(guān)閉且其它 閥全部保持關(guān)閉時， 一腔室上升率分析被執(zhí)行，并可描述該真空腔室內(nèi)的 泄漏及排氣的特征。上升率限制可針對每一個別客戶而被建立并被使用做 為觸發(fā)一例外通知的基礎(chǔ)。另一類型分析仰賴該工具1001中的一腔室的基礎(chǔ)壓力的判斷而定。圖 3顯示一制程/回復(fù)循環(huán)期間的整段時間由本地服務(wù)器1043所接收到的可被 使用以判斷一基礎(chǔ)壓力的壓力及狹縫閥信號。以托爾為計量單位的壓力以 對數(shù)大小被顯示于y軸上，而時間在x軸上(本例中，壓力自l(T托爾往上 達到1(T托爾，而時間大略延伸在三分半鐘)。一 Convectro滿真空計壓力 被繪制于3075， 一離子真空計壓力被繪制于3058，而一狹縫閥狀態(tài)信號被 繪制于3059。這些信號可在1Hz取樣率(舉例而言)下進行收集。如同用于 該腔室上升率通知所執(zhí)行的分析中，圖3的分析由導(dǎo)出該工具1001中的一 腔室的狀態(tài)開始。圖3顯示一系列制程/回復(fù)循環(huán)，其中， 一回復(fù)階段3053 跟在一制程階段3052之后。 一電腦處理器(例如，與圖2的資料處理設(shè)備 相關(guān))可如3060所示地藉由偵測一達到其基本值的Convec t ror^真空計壓力 來判斷該制程階段3052的結(jié)束。此外，該電腦處理器可藉由觀察該狹縫閥 狀態(tài)以判斷該些制程/回復(fù)循環(huán)的循環(huán)次數(shù)，其關(guān)閉該制程階段期間的 3054，并將在該回復(fù)階^a期間的3055及3056這兩次打開。此外，該電腦 處理器可暗示在3061處的離子真空計壓力大增以偵測出該回復(fù)階段3053 的開始。根據(jù)例如這些信號特性，該電腦處理器可判斷該些制程階段持續(xù) 期間及每一個制程階段啟始及停止的次數(shù)，并判斷來自無制程時間的回復(fù)階段持續(xù)期間。該電腦處理器接著可于一 回復(fù)階段期間求取該壓力對時間關(guān)系3062，并使用一契合曲線方程式(例如具有一常數(shù)的負指數(shù))以最接近地契合該曲線。藉由外推該曲線至未來，該電腦處理器接著可估測該系統(tǒng) 的基礎(chǔ)壓力，其將會是若允許該腔室經(jīng)過長時間(例如二十四小時)慢慢地 排空時的壓力。根據(jù)圖3所示的資料，該電腦處理器可每天繪制所判斷出的基礎(chǔ)壓力； 判斷基礎(chǔ)壓力是否已增加；以及判斷上述的增量是否大于一客戶指定的限 制。若大于的話，該電腦處理器可送一自動通知2051,例如， 一具有Excel 檔報告附件的電子郵件，以指示該基礎(chǔ)壓力已增加超過該客戶指定的限制。 例如，該Excel檔報告可提供在一例外被偵測的前后所執(zhí)行的繪圖及計算， 其可被使用于診斷中。根據(jù)基礎(chǔ)壓力上的增加所產(chǎn)生的這類通知在此為已 知的復(fù)合基礎(chǔ)壓力通知。該復(fù)合基礎(chǔ)壓力通知也可伴隨著上述根據(jù)該腔室 上升率技術(shù)所進行的診斷。例如，除了指示該基礎(chǔ)壓力已上升超過該可接 受的限制的復(fù)合基礎(chǔ)壓力通知外，該腔室上升率分析還可指示有一外部泄 漏。更大體而言，該復(fù)合基礎(chǔ)壓力及腔室上升率通知可傳送給客戶不同的 值，其視該客戶使用的工具1001而定。例如， 一些客戶可能關(guān)閉該閘閥及 該狹縫閥一天一次，藉以觸發(fā)一腔室上升率通知；而其他人則以不同的時 間間距來進行上述動作。另一方面，盡管一復(fù)合基礎(chǔ)壓力分析一直執(zhí)行， 其不會觸發(fā)一復(fù)合基礎(chǔ)壓力通知，直到該基礎(chǔ)壓力的增量超過客戶的復(fù)合 基礎(chǔ)壓力限制。當(dāng)該腔室上升率分析與該復(fù)合基礎(chǔ)壓力分析被收到時，兩 者可被結(jié)合，其中，來自該腔室上升率分析的上升率可提供有關(guān)該基礎(chǔ)壓 力(根據(jù)系統(tǒng)的基本的物理學(xué))有何變化的估測。因此，在此所揭示的診斷 技術(shù)可被結(jié)合以產(chǎn)生有用的診斷以供一特定客戶使用。一排氣至大氣分析可被執(zhí)行。尤其，根據(jù)圖3的Convectror^真空計資 料3057所執(zhí)行的電子分析，該系統(tǒng)可于一腔室在例如前二十四小時的特定 時段內(nèi)進行排氣至大氣壓力時進行偵測。若排氣后的下降壓力特征大于一 特定限制， 一 自動電子通知可被送至一客戶以建議檢查所有受到影響的閥。圖4是使用于腔室的上升率分析中的資料圖，以判斷可能的系統(tǒng)狀態(tài)。 該圖形顯示以y軸為壓力且x軸為時間而于該腔室上升率分析所收集的各 種可能的壓力對時間軌跡。若該壓力上升率隨曲線4063漸增，則該腔室上 升率分析可斷定為一系統(tǒng)構(gòu)件具有一泄漏或排氣并隨時間漸增(此幾乎未 曾被觀察到)。若該壓力上升率如曲線4064為具有一大于一客戶指定的限 制4065的上升率值的常數(shù)，則該腔室上升率分析可斷定為一系統(tǒng)構(gòu)件具有 一大于該客戶限制的固定大小的泄漏。若該壓力上升率如曲線4066為具有 一小于一客戶指定的限制4065的上升率值的常數(shù)，則該腔室上升率分析可 斷定為一系統(tǒng)構(gòu)件具有一小于該客戶限制的固定大小的泄漏。另一方面，在開始時壓力軌跡增加，但接著如曲線4067中所示變平，則該腔室上升率分析可斷定為一系統(tǒng)構(gòu)件被污染，例如，在該制程腔室壁上有污染時。本例中，在該腔室被關(guān)閉后，該污染逐漸蒸發(fā)、被抽離，并如曲線4067所示 地，該壓力取得平衡。最后，曲線4068 —理想完美腔室的軌跡，任何時間 皆具有固定壓力。 一腔室上升率分析可被執(zhí)行以根據(jù)例如圖4那些壓力軌 跡來診斷該系統(tǒng)(或一系統(tǒng)構(gòu)件或子系統(tǒng))狀態(tài)。 一通知接著可被送至一客 戶，以指示這類分析結(jié)果。例如， 一通知可才艮據(jù)所示的例如曲線4064的壓 力對時間軌跡的分析來指示一超過客戶指定的限制的固定大小的泄漏正發(fā) 生于一特定構(gòu)件中，該感測器資料從該特定構(gòu)件傳送出。根據(jù)本發(fā)明的一 實施例，該腔室上升率分析可包含判斷與時間相關(guān)(例如圖4的函數(shù))的壓 力函數(shù)的一第一導(dǎo)數(shù)，并選擇性地于一通知報告中提供該導(dǎo)數(shù)繪圖。該壓 力函數(shù)的導(dǎo)數(shù)(或一第二導(dǎo)數(shù)或其它分析函數(shù))可被使用以診斷該系統(tǒng)構(gòu)件 狀態(tài)，以產(chǎn)生上述的客戶建議。此外， 一第一或第二導(dǎo)數(shù)或一曲線契合可 被使用以區(qū)別泄漏與排氣。圖5顯示由本地服務(wù)器1043所接收用以進行電子診斷以判斷一晶圓承 載臺風(fēng)箱中具有一泄漏的一系列信號。以托爾為計量單位的壓力以對數(shù)大 小被顯示于y軸上，而時間在x軸上(本例中，壓力自10—9托爾往上達到10—2 托爾，而時間延伸三分鐘)。一 Convectron⑧真空計壓力被繪制于5057, — 離子真空計壓力被繪制于5058, —狹縫閘狀態(tài)信號被繪制于5059， 一晶圓 加熱器信號被繪制于5069，而一晶圓承載臺信號被繪制于5070。 一電腦處 理器(與例如圖2的資料處理設(shè)備有關(guān))可藉由分析該本地服務(wù)器1043所接 收的資料來診斷一晶圓承載臺風(fēng)箱泄漏。圖5所記錄的信號關(guān)系到發(fā)生于工具1001的一腔室中的物理性動作。 其信號記錄于5059的狹縫閥打開以允許一半導(dǎo)體晶圓于事件5055及5056 處自該晶圓操縱器移入或移出該制程腔室。在該晶圓被移入該制程腔室時， 移動其信號記錄于5070及5069的晶圓承載臺及晶圓加熱器。如圖5所示， 在5072打開該狹縫閥以在該晶圓進入該制程腔室之前，該晶圓加熱器信號 5069先于5071處記錄向下移動的晶圓加熱器。在該狹縫閥于5056處完成 第二次打開及關(guān)閉后，該晶圓加熱器于5073處向上移回。一循環(huán)過程如下。首先，在一制程階段5052，該晶圓加熱器及該晶圓 承載臺將該晶圓固定在該制程腔室內(nèi)的制程位置上。在該制程結(jié)束后，氣 體^皮抽出該腔室，且該晶圓加熱器于5071處向下移動。該晶圓仍留在該承 載臺上。該狹縫閥接著于5072處打開，而一機器手臂移至該制程腔室內(nèi)。 該晶圓承載臺接著于5074處向下移動，將該晶圓留在該機器手臂上。該機 器手臂接著移出該制程腔室外，而該狹縫閥接著于5075處關(guān)閉。該機器手 臂接著拾起該制程腔室外的一個新晶圓。該狹縫閥于5076處再打開。該晶圓承載臺于5077處向上移動，以取得該新晶圓。該晶圓加熱器接著于5073 處向上移動，將該新晶圓固定在該制程位置上，并再度開始該循環(huán)。由本地服務(wù)器1043所接收并展示于圖5的信號可由資料處理設(shè)備(如 同圖2中所示者)進行解譯，以判斷該晶圓承載臺風(fēng)箱中的泄漏。如在5078 處所示，離子真空計壓力有一急降，其與該晶圓承載臺于5077處向上移動 所處循環(huán)中的那點一致。藉由辨識在5078處的異常壓降，并且使此壓降時 序與5077處的晶圓承載臺的上升產(chǎn)生關(guān)聯(lián)，可判斷該晶圓承載臺風(fēng)箱中具 有一泄漏。(在本特定例中，該晶圓承載臺風(fēng)箱在向下位置中泄漏較多)。 這個判斷接著可被轉(zhuǎn)換成一 自動電子通知并連同一用以采取適當(dāng)校正動作 的建議一起送至一客戶。本結(jié)論可由圖5資料的其它分析來補強，例如， 藉由判斷出較正常速率稍慢的速率的壓力下降5062來補強。在本方式中，自該叢集工具1001所收集的診斷資料可被使用以診斷與 一特定構(gòu)件(在此為該晶圓承載臺風(fēng)箱)有關(guān)的真空問題，并建議校正動作。 其它構(gòu)件可由大致類似的方式來辨識；例如，與該晶圓加熱器移動一致的 類似的異常壓降可被使用以診斷一加熱器風(fēng)箱的泄漏?？杀槐孀R的其它泄 漏可包含o形環(huán)、狹縫閥風(fēng)箱、閘密封物及背面加熱器氣體歧管中的泄漏。 在一范例中，一 o形環(huán)泄漏可藉由觀察每一天所測量的一鋁制程腔室中基 礎(chǔ)壓力的增量來辨識。例如，可在一指定日打開該腔室后開始觀察這類增 量。 一但該客戶被通知，可閑置該工具并更換該o形環(huán)。以本方式辨識與特定構(gòu)件有關(guān)的問題的能力有助于在昂貴的設(shè)備故障 及非預(yù)期的停工期發(fā)生前，先阻止它們的發(fā)生。例如，在習(xí)知技術(shù)中，一 些半導(dǎo)體制造商曾經(jīng)運轉(zhuǎn)它們的風(fēng)箱至故障為止。該叢集工具1001接著被停止。因為該問題未知，故該制造商通常重新開啟該低溫泵(而不是查看該 些風(fēng)箱)，其可能用掉四小時；接著，同樣的問題又發(fā)生。當(dāng)問題被診斷出 時，可能會損失幾天，而產(chǎn)量下降。該離子真空計被排氣，其損失半小時。 即使執(zhí)行一泄漏檢查，在高溫下且許多接線擋住通道，要找出該些風(fēng)箱的 位置是不便的。因此，用到故障并執(zhí)行故障后診斷的習(xí)知技術(shù)對制造商而 言是代價高的。制造商可代的以在一特定構(gòu)件故障前先預(yù)測其將被替換的 需求，因而避開高代價的問題。即使對于那些常常更換易發(fā)生錯誤的構(gòu)件 的制造商而言，可藉由及時維修那些構(gòu)件來降低成本，以取代太過頻繁地 替換該些構(gòu)件這方面的錯誤。因此，提供一種在異常發(fā)生時根據(jù)制程真空環(huán)境狀態(tài)來辨識制程真空 環(huán)境中的真空品質(zhì)異常來源的有用的預(yù)測方式。圖6顯示說明一電子診斷方法操作的錯誤分析流程圖。根據(jù)服務(wù)器1043 所接收的資料執(zhí)行一叢集工具1001的診斷分析的電腦處理器可例如根據(jù)圖 6的流程圖操作電腦碼以判斷該工具1001中的那個特定構(gòu)件的作用不良。也可根據(jù)那些熟知此技術(shù)的人士所能理解的類似觀念來使用其它診斷技術(shù)以不同的特定步驟來操作該碼。錯誤分析不是開始于步驟6079的基礎(chǔ)壓力 增量的觀察，例如一復(fù)合基礎(chǔ)壓力分析；就是開始于步驟6080的上升率限 制的違反行為或異常傾向的觀察，例如， 一腔室上升率分析。若步驟6081 的基礎(chǔ)壓力增量隨時間而增加，則由步驟6082- 6086的一系列查詢判斷是 否有步驟6089的松動的密封物或配件、步驟6090的風(fēng)箱或其它操縱器、 步驟6091的氣體線泄漏或大量流動控制器關(guān)閉閥的錯誤，或具有一泵、氦 歧管或壓縮機問題。步驟6082- 6086的查詢有關(guān)于步驟6082的是否具有瞬變現(xiàn)象；該瞬變 現(xiàn)象是否與步驟6083的制程循環(huán)、步驟6084的閥狀態(tài)或步驟6085的氣流 (壓力)產(chǎn)生關(guān)聯(lián)；以及步驟6086中的溫度是否增加。如圖6箭頭所示，該 些結(jié)果(由圖6的Y或N符號所表示的是或否)判斷該診斷輸出為步驟 6089- 6092的錯誤的其中之一。若步驟6082的基礎(chǔ)壓力不隨時間增加時， 則步驟6093- 6098所見的其它查詢纟皮使用，且可能導(dǎo)引至步驟6099的o形 環(huán)或密封物問題或步驟6000的低溫通風(fēng)或閥密封問題的可能的診斷。步驟 6093- 6098的查詢有關(guān)于步驟6092的是否具有瞬變現(xiàn)象；該瞬變現(xiàn)象是否 與步驟6094的制程循環(huán)、步驟6095的閥狀態(tài)或步驟6096的氣流(壓力)產(chǎn) 生關(guān)聯(lián)；以及是否有步驟6097的近期腔室通風(fēng)或計畫性維修或步驟6098 的近期重新操作。若步驟6079的基礎(chǔ)壓力未增加，則步驟6001的電腦處理器判斷晶圓 間回復(fù)壓力或診斷壓力是否增加；若增加，在步驟6081后進行一類似查詢 列，若未增加，步驟6002的錯誤可以是一錯誤警示。當(dāng)具有步驟6080的違反上升率限制時，步驟6003- 6006的查詢被使用， 包含步驟6003的是否有泄漏、步驟6004的是否有排氣、步驟6005的是否 有一近期腔室通風(fēng)或計畫性維修、及步驟6006的是否已安裝一新構(gòu)件。該 處理器根據(jù)在此所述的分析技術(shù)對于這些查詢所判斷出的答案被用來判斷 步驟6007的是否有受污染的晶圓或是步驟6008的是否有受污染的測試晶 圓。在某些位置6009、 6010下，該處理器的分析不能判斷錯誤原因，但可 給予一需要人為(不是自動的)分析的通知。一自動系統(tǒng)可在各構(gòu)件被修復(fù)后不斷檢查該系統(tǒng)狀態(tài)及執(zhí)行效率，以 確保正確的問題被診斷出來而該修復(fù)發(fā)揮作用。圖7顯示由一本地服務(wù)器接收自一植入制程所產(chǎn)生的信號并根據(jù)本發(fā) 明的一實施例進行電子診斷的壓力對時間信號。 一電腦處理器(與例如圖2植入制程中一受污染的低;顯泵。類似類型的分析^被執(zhí)行以^斷如上所述用于PVD(物理氣相沉積法)工具的植入制程。如圖7中的壓力對時間資料被收集并可藉由類似于上述的腔室上升率分析及復(fù)合基礎(chǔ)壓力分析的程序來 分析。因為一植入制程的不同本質(zhì)之故，不同的分析也可被使用。在一植入 中， 一離子束相對于一半導(dǎo)體晶圓表面來移動以改變它的化學(xué)/電性特性。 因為在該晶圓表面上具有一光阻材料，該離子束能量在該植入腔室內(nèi)產(chǎn)生 各種碳氫化合物污染。本方式所產(chǎn)生的碳氫化合物污染會妨礙該腔室中所 出現(xiàn)的氫氣及其它氣體的吸收。該腔室中的泵的氫氣補捉能力下降，而該 泵需要維修服務(wù)。為了偵測這類錯誤，該系統(tǒng)可使用類似上述的基礎(chǔ)壓力分析，以在該 基礎(chǔ)壓力超過一客戶指定的限制時送出一通知。另外， 一電腦處理器可分析該壓力-時間曲線下方的區(qū)域，例如圖7陰影區(qū)域7011，調(diào)整該氣體環(huán)境 中的氫濃度，并將的表示成一氫氣質(zhì)量或體積。全部這類區(qū)域可被加總以 判斷多少氫氣已被抽取。 一基礎(chǔ)壓力增量接著可根據(jù)基礎(chǔ)壓力增量與該壓 力-時間曲線下方所累加區(qū)域間的關(guān)聯(lián)性，以標(biāo)準(zhǔn)化的方式來判斷。當(dāng)所計 算的基礎(chǔ)壓力超過該客戶指定的限制時， 一通知接著可被送出。圖8顯示可由一本地服務(wù)器接收自一渦輪分子泵所產(chǎn)生的信號并進行 電子診斷的加速度計振動對時間圖。 一電腦處理器(與例如圖2所示資料處理設(shè)備有關(guān))可在渦輪分子泵故障發(fā)生前，藉由分析該本地服務(wù)器所接收的 資料來預(yù)測渦輪分子泵故障。信號8012藉由該渦輪分子泵上的加速度計來 量測一正比于該泵振動的電壓。當(dāng)腔室中被抽取的狹縫閥被打開時，例如 8013及8014所示的尖脈沖信號^皮偵測。因此，例如該些狹縫閥、閘閥、晶 圓操縱器機器手臂及裝載鎖/升降機的脈沖可被偵測，并以一類似于在此所 述的其它技術(shù)的方式使該些脈沖與該泵的異常測量互相關(guān)聯(lián)。以本方式診 斷與一渦輪分子泵有關(guān)的問題可讓該泵在一毀滅性故障發(fā)生前先被換掉。類似于在此所述那些的技術(shù)可被使用以偵測半導(dǎo)體晶圓間的批次內(nèi)的 變動。類似于在此所述那些的分析可被使用以判斷制造每一個晶圓或每一 組晶圓時的系統(tǒng)及元件狀況。若這些狀況的測量有所不同，它們可能意謂 著批次內(nèi)的變動，為此， 一自動通知可^皮傳送給一客戶。圖9顯示可由本地服務(wù)器1043接收并于一晶圓間回復(fù)壓力分析中進行 電子分析的一系列信號。圖9所示的資料類似于圖3資料。一電腦處理器(與 例如圖2所示的資料處理設(shè)備有關(guān))可對該本地服務(wù)器1043所接收的資料 進行一晶圓間回復(fù)壓力分析。通常， 一工具控制器1018測量該回復(fù)壓力衰 減結(jié)束處(例如，點9015及9016)的回復(fù)壓力，而且，若該壓力大于一指定 限制時，則關(guān)閉該制程。然而，本方法可在該系統(tǒng);故該工具控制器正常地 關(guān)閉前先偵測到一回復(fù)壓力問題；同時， 一通知被傳送給該客戶以采取適當(dāng)?shù)男Ｕ齽幼鳌Ｒ驗槊刻煊写罅康木A間回復(fù)曲線(例如圖9的曲線9017)，故需要在 分析該些曲線前先使用資料減量方法。例如， 一組回復(fù)曲線可藉由平均所 觀測到的回復(fù)曲線及接著對于復(fù)合曲線進行曲線契合來產(chǎn)生一或多個復(fù)合 回復(fù)曲線而被描述特征。另外， 一曲線契合可對著全部觀測到的回復(fù)曲線 執(zhí)行，并接著求取該曲線契合參數(shù)的平均值。該些回復(fù)曲線的描述特征 可顯示任一特定的制程腔室中存在有二或更多回復(fù)曲線類型。多種類型可 自許多制程配方或瞬間錯誤狀況中產(chǎn)生。適用于一特定回復(fù)曲線的曲線契 合可被使用以于任何時間下推斷該壓力P(t)，或以類似于上述的方式來估 測該基礎(chǔ)壓力。圖10顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例由本地服務(wù)器1043所接收并可被用 來辨識一背面加熱器氣體歧管中的壓力爆增的信號。 一用于腔室1的背面 加熱器氣體歧管的Convectro滿真空計壓力被繪制于10018， 一用于該傳送 腔室的離子真空計壓力被繪制于10019， 一狹縫閘狀態(tài)信號被繪制于10020, 且一用于該腔室1的離子真空計壓力被繪制于10021。本例中，在該背面晶 圓加熱器線中的壓力爆增會引起該腔室中的壓力爆增。這類事件會引起揚 升的壓力，而該工具于用以處理下一晶圓的制備中須嘗試降低該腔室壓力。 圖IO所示的信號可被分析以判斷在一背面加熱器氣體歧管中具有一壓力爆 增；以及，自動通知可被傳送給該客戶。例如， 一分析可在該狹縫閥打開 前先偵測壓力10030的異常爆增。相對于圖10的異?，F(xiàn)象，圖11顯示正常操作期間與圖10的參數(shù)類似 的參數(shù)。 一用于該腔室1的背面加熱器氣體歧管的Convectror^真空計壓力 被繪制于11018, —狹縫閘狀態(tài)信號被繪制于11020， 一用于該腔室1的 Convectror^真空計壓力^皮繪制于11022,且一用于該腔室1的離子真空計 壓力被繪制于11021。若一類似于圖10的故障的故障發(fā)生時，且若該壓力 爆增或該物理氣相沉積法正在回復(fù)時的狹縫閘打開的，則該傳送腔室同樣 會被影響。當(dāng)狹縫閘打開時， 一些氣體吹出并進入該傳送腔室中，因此使 壓力上升并讓交叉污染進至其它制程腔室中。圖12顯示可被使用以辨識因一真空腔室內(nèi)的污染而引起排氣的基礎(chǔ)壓 力資料。圖12顯示以類似于上述方式經(jīng)過幾個月時間所判斷的基礎(chǔ)壓力資 料12023?？煽匆娫摶A(chǔ)壓力于三個獨立時段12024- 12026中揚升的，其對 應(yīng)至腔室通風(fēng)后所發(fā)生的污染。圖13在圖12 12025處的腔室通風(fēng)后，利用所判斷的基礎(chǔ)壓力來處理 該第一晶圓時的離子真空計壓力圖。如圖所示，該晶圓處理后的13026處 所判斷的基礎(chǔ)壓力的增加對應(yīng)至該晶圓處理前的13027處的基礎(chǔ)壓力。這 基礎(chǔ)壓力的這類增加被用來判斷該晶圓處理期間所發(fā)生的腔室污染。圖14圖13所示時段期間所執(zhí)行的上升率分析的圖形。因為該閘閥被關(guān)閉，故一閘閥上升率分析可被執(zhí)行。該離子真空計壓力之前面六點的線性回歸線14028指示一固定大小的泄漏。然而， 一下降的腔室上升率指示 排氣。該系統(tǒng)可于一上升率分析中偵測出此問題并診斷該排氣問題。圖15A及圖15B顯示于本發(fā)明的一實施例中執(zhí)行的交叉污染偵測。這 二個圖形顯示用于一第一腔室15031及一第二腔室15032的狹縫閥狀態(tài)信 號以及用于該二腔室的壓力15033及15034與用于該傳送腔室的壓力 15035。在圖15A中，該異?，F(xiàn)象被辨識于15036，其中，該第二腔室狹縫 閥打開于15037,同時，該第一腔室狹縫閥關(guān)閉于15038。上述動作使該傳 送腔室在該第二腔室狹縫閥打開之前不會自該第 一腔室氣體裝載中回復(fù)。 自一腔室傳至該傳送腔室并接著傳至另一腔室的交叉污染會引起沉積膜內(nèi) 的化學(xué)問題并使品質(zhì)受到影響。因此，當(dāng)例如圖15A中的時序被觀測到時， 可發(fā)出通知以采取校正動作以將該狹縫閥時序重置為標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格。圖15B顯 示校正后的狹縫閥時序狀況。在狹縫閥打開之間具有較長的時間間隔 15039。因此，該傳送腔室可在該狹縫閥被打開前達到一較低基礎(chǔ)壓力。例如在此所述那些分析在一真空系統(tǒng)(例如一半導(dǎo)體制造工具)被導(dǎo)通 開始作用時可對該"運行前"的測試時間有幫助。此外，應(yīng)注意的是，一 些配合類似于在此所述的那些技術(shù)來使用的有用的參數(shù)包含分析達到一指 定壓力的系統(tǒng)時間、 一指定時間下的壓力、 一指定事件下的壓力、或與一 指定事件相關(guān)的壓力變化。同時，對于測量介于二相鄰真空腔室間的隔離 閥被打開時的壓力或壓力變化有所幫助的。應(yīng)了解的是，適當(dāng)?shù)碾娐?、信號線、數(shù)位構(gòu)件及處理器、取樣構(gòu)件、 類比對數(shù)位轉(zhuǎn)換器、網(wǎng)路通訊元件、及在數(shù)位媒體上執(zhí)行的電腦碼可被用 來實現(xiàn)在此所述的技術(shù)。盡管一些分析雖可為手動式或由人來執(zhí)行，但自 測量物理真空參數(shù)至產(chǎn)生一自動電子通知給一客戶或工程師的程序的可行 范圍自動的。要了解的是，適當(dāng)?shù)能涹w碼可被撰寫以實現(xiàn)上述分析技術(shù)， 包含上述的曲線契合、分析函數(shù)及其它特性。同時應(yīng)了解，在此所述的自動診斷技術(shù)不需受限于特定真空構(gòu)件或半 導(dǎo)體叢集工具，而是在真空制程領(lǐng)域中有廣泛的應(yīng)用。例如，如在此及在 所附上的申請專利范圍中所使用的"制程真空環(huán)境"可包含制程腔室、傳 送腔室、裝載鎖及緩沖腔室。相較于習(xí)知技術(shù)的模式辨識及統(tǒng)計技術(shù)，根據(jù)本發(fā)明的一實施例使用 一決定論方法，其仰賴對于一真空系統(tǒng)物理學(xué)的了解，以于錯誤發(fā)生前先 行預(yù)測。以模式辨識技術(shù)取代則需產(chǎn)生可再度用以辨識該模式的構(gòu)件故障。 因為統(tǒng)計技術(shù)不牽涉到真空系統(tǒng)物理學(xué)的了解，故統(tǒng)計技術(shù)不能判斷為什 么發(fā)生一特定錯誤，還需要對辨識一般及異常制程模式的訓(xùn)練或校準(zhǔn)。因為其預(yù)測能力之故， 一系統(tǒng)可極小化非預(yù)期的停工期并減少已排入行程的停工期；透過正確的診斷來減少維修成本；藉由產(chǎn)生最佳真空狀況 來增加良率；以及可在錯誤對制程、良率及產(chǎn)量產(chǎn)生影響前先分析并校正 錯誤。因為一分析基于該真空空間內(nèi)的物理特性及互動，故使用者可得到 一錯誤的明確了解及它的成因。在本發(fā)明已特別參考其較佳實施例來顯示及說明后，那些熟知此項技 術(shù)的人士將了解各種形式變化及細節(jié)可被產(chǎn)生而不偏離所附上申請專利范 圍所涵蓋的本發(fā)明范圍。
權(quán)利要求
1.一種辨識與一工具有關(guān)的真空環(huán)境中的一真空品質(zhì)問題的來源的方法，該方法包括收集并儲存真空環(huán)境資料；辨識在該真空環(huán)境內(nèi)的一異?，F(xiàn)象；判斷在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)；以及根據(jù)該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該真空環(huán)境在一半導(dǎo)體制造工具中。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一 步根據(jù)真空設(shè)備狀態(tài)而定。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一 步4艮據(jù)該真空環(huán)境狀態(tài)的歷史而定。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一步纟艮據(jù)工具狀態(tài)的歷史而定。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一步根據(jù)真空設(shè)備的歷史而定。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一步根據(jù)該真空環(huán)境狀態(tài)的歷史而定。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一步根據(jù)工具狀態(tài)的歷史而定。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟進一步根據(jù)真空設(shè)備的歷史而定。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，辨識步驟包括分析真空環(huán)境歷史及 工具狀態(tài)歷史。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10的方法，其中，分析真空環(huán)境歷史的步驟包含分 析來自由壓力上升率、基礎(chǔ)壓力、基礎(chǔ)壓力傾向、殘留氣體分析、操作壓 力、操作壓力歷史及壓力回復(fù)曲線所構(gòu)成的群組中的一或多個測量。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該異?，F(xiàn)象一基礎(chǔ)壓力變化。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該異?，F(xiàn)象一壓力上升率變化。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該異?，F(xiàn)象的來源于阻礙維修的故 障發(fā)生前被辨識出來。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，辨識該異常現(xiàn)象及判斷該真空品質(zhì) 問題的來源的步驟透過自動資料分析來進行。
16. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其進一步包括提供該真空品質(zhì)問題的來源的自動電子通4口。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步驟 進一步根據(jù)一般性工具操作狀態(tài)而定。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中，該一般性工具操作狀態(tài)包含由閑 置、關(guān)閉、合格、抽真空及處理中所構(gòu)成的群組中的一狀態(tài)。
19. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)藉由感測該 工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷。
20. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)可藉由分析 該真空環(huán)境資料來判斷。
21. —種辨識與 一工具有關(guān)的真空環(huán)境中的 一真空品質(zhì)問題的來源的 系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括至少一電腦，用以收集并儲存真空環(huán)境資料； 辨識在該真空環(huán)境內(nèi)的一異常現(xiàn)象；判斷在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)；以及 根據(jù)該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的 操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該真空環(huán)境在一半導(dǎo)體制造工具中。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一步根據(jù)真空設(shè)備狀態(tài)而定。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一 步根據(jù)該真空環(huán)境狀態(tài)的歷史而定。
25. 根據(jù)權(quán)利要求24的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一 步根據(jù)工具狀態(tài)的歷史而定。
26. 根據(jù)權(quán)利要求25的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一步根據(jù)真空設(shè)備的歷史而定。
27. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一 步根據(jù)該真空環(huán)境狀態(tài)的歷史而定。
28. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一步根據(jù)工具狀態(tài)的歷史而定。
29. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一步根據(jù)真空設(shè)備的歷史而定。
30. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，辨識步驟包括分析真空環(huán)境歷史 及工具狀態(tài)歷史。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30的系統(tǒng)，其中，該分析步驟包含分析來自由壓力 上升率、基礎(chǔ)壓力、基礎(chǔ)壓力傾向、殘留氣體分析、操作壓力、操作壓力歷史及壓力回復(fù)曲線所構(gòu)成的群組中的 一 或多個測量。
32. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該異?，F(xiàn)象一基礎(chǔ)壓力變化。
33. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該異?，F(xiàn)象一壓力上升率變化。
34. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該異?，F(xiàn)象來源于阻礙維修的故障發(fā)生前^皮辨識出來。
35. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，辨識該異?，F(xiàn)象及判斷該真空品 質(zhì)問題的來源的步驟透過自動資料分析來進行。
36. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其進一步包括提供該真空品質(zhì)問題的來 源的自動電子通知。
37. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，判斷該真空品質(zhì)問題的來源的步 驟進一 步根據(jù) 一般性工具操作狀態(tài)而定。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37的系統(tǒng)，其中，該一般性工具操作狀態(tài)包含由閑 置、關(guān)閉、合格、抽真空及處理所構(gòu)成的群組中的一狀態(tài)。
39. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)藉由感測 該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷。
40. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)可藉由分 析該真空環(huán)境資料來判斷。
41. 一種載有用以辨識與 一 工具有關(guān)的真空環(huán)境中的 一真空品質(zhì)問題 的來源的一或多個指令序列的電腦可讀取的媒體，其中，以一或多個處理 器執(zhí)行該一或多個指令序列使得該一或多個處理器執(zhí)行下列步驟收集并儲存真空環(huán)境資料； 辨識在該真空環(huán)境內(nèi)的一異?，F(xiàn)象；判斷在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)；以及 根據(jù)該異常現(xiàn)象很可能發(fā)生時的一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的 操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。
42. 根據(jù)權(quán)利要求41的電腦可讀取的媒體，其中，該一或多個指令序 列的執(zhí)行使得該一或多個處理器執(zhí)行提供該真空品質(zhì)問題的來源的自動電 子通知的進一步步驟。
43. 根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)藉由分析來 自 一加速度計的脈沖資料來判斷。
44. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)，其中，該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)藉由分析 來自 一加速度計的脈沖資料來判斷。
45. —種辨識與一工具有關(guān)的真空環(huán)境中的一真空品質(zhì)問題的來源的 系統(tǒng)，該系統(tǒng)包"^:用以收集并儲存真空環(huán)境資料的裝置；用以辨識在該真空環(huán)境內(nèi)的一異常現(xiàn)象的裝置；用以判斷在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的 一 工具構(gòu)件的操作狀態(tài)的 裝置；以及用以根據(jù)該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的 一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu) 件的操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源的裝置。
全文摘要
根據(jù)本發(fā)明的一實施例，其揭示一種辨識與一工具有關(guān)的真空環(huán)境中的一真空品質(zhì)問題的來源的方法。該方法包括收集并儲存真空環(huán)境資料；辨識在該真空環(huán)境內(nèi)的一異?，F(xiàn)象；判斷在該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一工具構(gòu)件的操作狀態(tài)；以及根據(jù)該異?，F(xiàn)象很可能發(fā)生時的一真空環(huán)境狀態(tài)與該工具構(gòu)件的操作狀態(tài)來判斷該真空品質(zhì)問題的來源。
文檔編號G01M3/32GK101243312SQ200680030059
公開日2008年8月13日 申請日期2006年8月11日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月18日
發(fā)明者凱瑟琳·D·契, 約瑟夫·D·亞魯達, 葛倫·F·R·吉爾克利斯特 申請人:布魯克機械公司