專利名稱：檢驗光學鏡片清潔度的裝置及方法
技術領域：
本發明關于 一種檢驗光學鏡片清潔度的裝置及方法。
背景技術：
在照相機、攝像機和具有照相功能的手機中具有鏡頭模組，該鏡頭模組 中含有玻璃或塑膠的鏡片，玻璃或塑膠的鍍膜濾光片。這些光學鏡片在鍍膜 前和鍍膜后都需要經過清洗，達到一定清潔度的要求，然后再將這些光學鏡 片和其它元件進行組裝，才不至于因為某一光學鏡片的不干凈而影響到整個 鏡頭模組的品質。清洗的目的是為了去除附著于光學鏡片表面的灰塵、油漬、 顆粒等，而這些光學鏡片在清洗過程中，會利用化學藥劑來達到去除上述臟 污。而清洗后的光學鏡片需要進行表面清潔度的檢驗，來判斷是否達到規格 要求， 一般檢驗是采用強光燈照射光學鏡片，操作員目檢判斷，而以強光燈 的判別方式容易判斷出光學鏡片表面的臟污、劃痕、破損等普通缺陷，但不 易判斷出光學鏡片表面是否殘留化學藥劑，若在光學鏡片表面部分殘留有化 學薄膜，則會因為化學薄膜折射率與光學鏡片材料折射率的差異，造成不連 續的界面，而影響光學元件的光學性質。因此對光學鏡片表面是否殘留有化 學藥劑進行檢驗是很重要的。
發明內容
有鑒于此，有必要提供一種檢驗光學鏡片清潔度的裝置及方法。 一種檢驗光學鏡片清潔度的裝置，包括光源和水蒸發裝置，該水蒸發裝 置具有一蒸發口 ，該蒸發口蒸發出的水蒸氣用于在光學鏡片的表面形成水膜。
一種檢驗光學鏡片清潔度的方法，包括以下步驟將待檢驗光學鏡片放置 于一個水蒸發裝置的蒸發口處，使水蒸發裝置的水蒸氣蒸發到光學鏡片的表 面，在光學鏡片的表面形成水膜；打開一個光源，使光源照射至表面形成有
水膜的光學鏡片，檢測該光學鏡片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說明光 學鏡片表面無化學物質，如果不均勻則說明光學鏡片表面殘留有化學物質。
相對于現有技術，所述檢驗光學鏡片清潔度的裝置因為包括水蒸發裝置， 所以用該裝置檢驗光學鏡片清潔度時，使水蒸發裝置的水蒸氣蒸發到光學鏡
片的表面，在光學鏡片的表面形成水膜；檢測形成在光學鏡片表面的水膜是 否均勻，如果光學鏡片表面的水膜均勻則說明該光學鏡片表面無殘留化學物 質，如果光學鏡片表面的水膜不均勻則說明該光學鏡片表面殘留有化學物質。 即，使用該方法可以檢驗到光學鏡片的表面是否殘留有化學物質，可以避免 因光學鏡片的不干凈而影響到整個鏡頭模組的品質。
圖1是本發明第一實施例中檢驗光學鏡片清潔度的裝置的示意圖。 圖2是本發明第二實施例中檢驗光學鏡片清潔度的裝置的示意圖。 圖3是使用本發明第 一 實施例中的裝置來檢驗光學鏡片清潔度方法的示意圖。
具體實施例方式
以下將結合附圖對本發明作進一步詳細說明。
請參閱圖l,本發明第一實施例中的檢驗光學鏡片清潔度的裝置10，包 括光源11和水蒸發裝置13、該水蒸發裝置13具有一蒸發口 14。
水蒸發裝置13的蒸發口 14正對著光源11發出光線的方向。在檢驗光學 鏡片清潔度時，將光學鏡片放置于光源11和水蒸發裝置13的蒸發口 14之間， 由蒸發口 14蒸發出的水蒸氣在光學鏡片的表面形成水膜，光源ll發出的光 線剛好照射在該水膜上。
請參閱圖2，本發明第二實施例中的檢驗光學鏡片清潔度的裝置20,包 括光源21和水蒸發裝置23,該水蒸發裝置23具有一蒸發口 24。
水蒸發裝置23的蒸發口 24位于與光源21發出光線的方向相垂直的方向 上。將待檢驗的光學鏡片放置于光源21發出光線的方向與蒸發口 24的軸線 相交之處。由蒸發口 24蒸發出的水蒸氣在光學鏡片的表面形成水膜，光源
21發出的光線剛好照射在該水膜上。
請一并參閱圖1及圖2，在上述兩個實施例中，水蒸發裝置13、 23的放 置位置只要使由蒸發口 14、 24蒸發出的水蒸氣14、 24分別可噴射到待檢驗 光學鏡片即可。水蒸發裝置13、 23的蒸發口 14、 24的大小最好是大于或等 于分別對應的待檢驗光學鏡片的大小。且該光源11、 21的功率最好在50瓦 以上，提供足夠的亮度以便檢測光學鏡片表面的清潔度。
另外，本發明提供一種檢驗光學鏡片清潔度的方法，該方法可以使用本 發明第一實施例中的裝置也可使用本發明第二實施例中的裝置以及類似的裝 置。在此以使用本發明第 一 實施例中的裝置為例來說明檢驗光學鏡片清潔度 的方法。
請參閱圖3，是檢驗光學鏡片清潔度方法的示意圖。首先提供一光源11 及水蒸發裝置13,該水蒸發裝置13具有一蒸發口 14。將光源11與水蒸發裝 置13的蒸發口 14正對放置，將待檢驗的光學鏡片12放置于光源11與水蒸 發裝置13的蒸發口 14之間，待檢驗的光學鏡片12正對蒸發口 14，且光學 鏡片12的表面平行于水蒸發裝置13的蒸發口 14。將水蒸發裝置13打開， 由蒸發口 14蒸發出的水蒸氣15將在光學鏡片12的表面形成水膜，打開光源 11，在光源11的照射下，目視或者使用薄膜均勻性檢測裝置來檢測形成在光 學鏡片12表面的水膜，若該水膜分布均勻，則表明該光學鏡片表面無殘留的 化學物質，光學鏡片12清洗干凈；若該水膜分布不均勻，則表明該光學鏡片 12表面殘留有化學物質，光學鏡片12沒有清洗干凈。因為若光學鏡片12表 面殘留有化學物質，那么光學鏡片12和殘留的化學物質表面張力不同，所以 水分子無法均勻地在光學鏡片12的表面形成水膜。光學鏡片12其中的一個 表面檢驗完畢后，將光學鏡片12翻轉使其另外一個表面平行且正對水蒸發裝 置13的蒸發口 14，用與上述相同的方法進行檢驗該表面。
當使用本發明第二實施例中的裝置來檢驗光學鏡片表面的清潔度時，將 待檢驗光學鏡片放置于垂直光源放出光線的方向，這樣由水蒸發裝置的蒸發 口蒸發出的水蒸氣在待檢驗光學鏡片的兩個表面同時形成水膜。也可使用與 本發明第一實施例和第二實施例中的裝置相類似的裝置來檢驗光學鏡片表面 的清潔度。
相對于現有技術，所述檢驗光學鏡片清潔度的裝置10因為包括水蒸發裝 置13，所以用該裝置10檢驗光學鏡片12清潔度時，將由水蒸發13蒸發出 的水蒸氣15蒸發到光學鏡片12的表面，在光學鏡片12的表面形成水膜；檢 測形成在光學鏡片12表面的水膜是否均勻，如果光學鏡片12表面的水膜均 勻，則說明該光學鏡片12表面無殘留化學物質，如果光學鏡片12表面的水 膜不均勻，則說明該光學鏡片12表面殘留有化學物質。即，使用該方法可以 檢驗到光學鏡片12的表面是否殘留有化學物質，可以避免因光學鏡片12的 不干凈而影響到整個鏡頭模組的品質。
另外，本領域技術人員還可以在本發明精神內做其它變化，當然，這些 依據本發明精神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的范圍內。
權利要求
1.一種檢驗光學鏡片清潔度的裝置，包括光源，其特征在于，進一步包括水蒸發裝置，該水蒸發裝置具有一蒸發口，該蒸發口蒸發出的水蒸氣用于在光學鏡片的表面形成水膜。
2. 如權利要求1所述的檢驗光學鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該蒸發口 位于光源發出光線的方向上。
3. 如權利要求1所述的檢驗光學鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該蒸發口 位于與光源發出光線的方向相垂直的方向上。
4. 如權利要求1所述的檢驗光學鏡片清潔度的裝置，其特征在于，該光源的 功率為50瓦以上。
5. —種檢驗光學鏡片清潔度的方法，包括以下步驟 將待檢驗光學鏡片放置于一個水蒸發裝置的蒸發口處，使水蒸發裝置的水 蒸氣蒸發到光學鏡片的表面，在光學鏡片的表面形成水膜； 打開一個光源，使光源照射至表面形成有水膜的光學鏡片，檢測該光學鏡 片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說明光學鏡片表面無化學物質，如果 不均勻則說明光學鏡片表面殘留有化學物質。
全文摘要
本發明提供一種檢驗光學鏡片清潔度的裝置，該檢驗光學鏡片清潔度的裝置包括光源和水蒸發裝置，該水蒸發裝置具有一蒸發口，該蒸發口蒸發出的水蒸氣用于在光學鏡片的表面形成水膜。本發明還提供一種檢驗光學鏡片清潔度的方法，其包括以下步驟將待檢驗光學鏡片放置于一個水蒸發裝置的蒸發口處，使水蒸發裝置的水蒸氣蒸發到光學鏡片的表面，在光學鏡片的表面形成水膜；打開一個光源，使光源照射至表面形成有水膜的光學鏡片，檢測該光學鏡片表面的水膜是否均勻，如果均勻則說明光學鏡片表面無化學物質，如果不均勻則說明光學鏡片表面殘留有化學物質。這樣可以避免因光學鏡片的不干凈而影響到整個鏡頭模組的品質。
文檔編號G01N21/94GK101191775SQ20061015706
公開日2008年6月4日 申請日期2006年11月24日 優先權日2006年11月24日
發明者董才士 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司