專利名稱：易燃易爆粉塵設備用爆破片裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種爆破片裝置，尤其涉及應用于易產生爆炸的粉塵系統的爆破 片裝置。
背景技術：
由于粉塵設備強度低，大多要求爆破片泄放壓力很低，而泄放口徑又較大，目前該 行業的爆破片大多采用組合型開縫爆破片。傳統開縫爆破片，真空托架上有少量很窄的透 縫，粉塵介質容易積聚到真空托架與密封膜之間，有無法清除出去，結果粉塵越積越多，如 果介質存在濕氣，則在托架上存在一層附著物；另外由于透縫尺寸小，在急速升壓時，阻力 大，影響爆破片的響應性。粉塵積聚一方面容易爆炸，另一方面影響爆破片對急速升壓的敏 感性，影響爆破片性能。
發明內容本實用新型目的是克服傳統開縫爆破片的不足，利用帶孔托架使粉塵無法積聚到 托架上，同時提高了上層爆破片對急速升壓的響應性而設計的一種易燃易爆粉塵設備用爆 破片裝置。本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是裝置包括多孔防真空托架、密 封膜及開縫爆破片，密封膜設置在多孔防真空托架與開縫爆破片之間，開縫爆破片控制爆 破壓力、密封膜起密封作用，多孔防真空托架抵抗設備真空。這種結構特點在于多孔防真空托架使粉塵介質無法積聚到托架與爆破片之間，如 有積聚，通過孔就脫落了 ；另外密封膜為光滑表面，也不易附著粉末。多孔防真空托架不僅 起到對密封膜的真空支撐作用，同時多孔防真空托架也是一種爆破片，有一定爆破壓力，在 爆破片爆破瞬間，真空托架也爆破，打開泄放通道。在多孔防真空托架上加工若干個直徑為 10-15mm的孔，孔的數量由真空托架尺寸確定。本實用新型的有益效果是本裝置能實現爆破片對動態升壓響應速度快、粉塵不 易積聚到爆破片中，影響爆破片性能，同時也消除了粉塵沉積帶來爆炸危險。本爆破片裝置 特別適合于低壓、超低壓易燃易爆介質設備的安全防爆。
以下結合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步說明。
圖1是本實用新型裝置的結構示意圖。圖2是本實用新型裝置的A向示意圖。圖中，1.開縫爆破片，2.密封膜，3.多孔防真空托架。
具體實施方式
如圖1、圖2所示，本易燃易爆粉塵設備用爆破片裝置實施例包括多孔防真空托架3、密封膜2及開縫爆破片1，密封膜2設置在多孔防真空托架3與開縫爆破片1之間，開縫 爆破片1控制爆破壓力、密封膜2起密封作用，多孔防真空托架3抵抗設備真空。多孔防真空托架3上的孔使粉塵介質無法積聚到金屬多孔防真空托架3與開縫爆 破片1之間，如有積聚，通過孔就脫落了 ；另外密封膜2為光滑表面，也不易附著粉末。多孔 防真空托架3不僅起到對密封膜2的真空支撐作用，同時多孔防真空托架3也做為一種爆 破片，有一定爆破壓力，在爆破片爆破瞬間，多孔防真空托架也爆破，打開泄放通道。在多孔 防真空托架上加工一定數量直徑為10_15mm的孔，孔的數量由真空托架尺寸確定。本實用新型不局限于上述實施例，任何在本實用新型披露的技術范圍內的等同構 思或者改變，均列為本實用新型的保護范圍。
權利要求一種易燃易爆粉塵設備用爆破片裝置，其特征在于包括多孔防真空托架(3)、密封膜(2)及開縫爆破片(1)，密封膜(2)設置在多孔防真空托架(3)與開縫爆破片(1)之間，多孔防真空托架(3)上開設若干個孔，密封膜(2)為光滑表面。
2.如權利要求1所述的一種易燃易爆粉塵設備用爆破片裝置，其特征在于所述多孔 防真空托架(3)開設孔的直徑為10-15mm。
專利摘要一種易燃易爆粉塵設備用爆破片裝置，裝置包括多孔防真空托架、密封膜及開縫爆破片，密封膜設置在多孔防真空托架與開縫爆破片之間，開縫爆破片控制爆破壓力、密封膜起密封作用，多孔防真空托架抵抗設備真空。本裝置能實現爆破片對動態升壓響應速度快、粉塵不易積聚到爆破片中，影響爆破片性能，同時也消除了粉塵沉積帶來爆炸危險。本爆破片裝置特別適合于低壓、超低壓易燃易爆介質設備的安全防爆。
文檔編號F17C13/12GK201696700SQ201020229068
公開日2011年1月5日 申請日期2010年6月9日 優先權日2010年6月9日
發明者喻友良, 宮盛強, 徐忠慧, 李岳, 李新東, 溫殿江 申請人:大連理工安全裝備有限公司