一種雙重高性能靜密封結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種雙重高性能靜密封結構，包括安裝底座，依次設置在安裝底座上的靜環座、靜環和動環，所述靜環與靜環座之間設置有靜環密封圈，所述安裝底座與靜環座底面之間設置有第一靜密封圈，所述安裝底座與靜環座側面之間設置有第二靜密封圈。通過在安裝底座與靜環座底面之間設置有第一靜密封圈，安裝底座與靜環座側面之間設置有第二靜密封圈，使得整個結構形成雙重高性能靜密封結構。由于設置了第二靜密封圈，故第一靜密封圈由直接接觸流體介質改為間接接觸流體介質，可以降低由于軸向竄動帶來的密封失效的風險，延長整個密封機構的使用壽命，具有良好的經濟效益。
【專利說明】
一種雙重高性能靜密封結構
技術領域
[0001]本實用新型涉及機械密封領域，具體涉及一種雙重高性能靜密封結構。
【背景技術】
[0002]機械密封也稱端面密封，由至少一對垂直于旋轉軸線的端面在流體壓力和補償機構彈力(或磁力)的作用以及輔助密封的配合下，保持貼合并相對滑動而構成的防止流體泄漏的裝置。機械密封一般用于離心栗、離心機、反應釜和壓縮機等設備中。
[0003]現有的機械密封，通常只使用一道O形圈實現與安裝底座的靜密封，此種結構在機械密封出現竄動或者內部工況要求超負載的情況下，O形圈容易變形或者老化從而導致密封失效。此時，雖然一方面可以更換新的傳動軸或安裝底座，提高軸和安裝底座的精度從而減小竄動；另一方面也可以更換新的O形圈或機械密封;但是，這兩種情況都會造成成本的大幅增加，而且更換時拆裝也比較麻煩。
【實用新型內容】
[0004]為了解決上述存在的技術問題，本實用新型提供一種雙重高性能靜密封結構。
[0005]本實用新型為解決上述問題所采用的技術方案為:提供一種雙重高性能靜密封結構，包括安裝底座，依次設置在安裝底座上的靜環座、靜環和動環，所述靜環與靜環座之間設置有靜環密封圈，所述安裝底座與靜環座底面之間設置有第一靜密封圈，所述安裝底座與靜環座側面之間設置有第二靜密封圈。
[0006]優選的，所述靜環密封圈、第一靜密封圈、第二靜密封圈都為O形圈或方形
[0007]密封圈。
[0008]本實用新型帶來的有益效果為:通過在安裝底座與靜環座底面之間設置有第一靜密封圈，安裝底座與靜環座側面之間設置有第二靜密封圈，使得整個結構形成雙重靜密封結構。由于設置了第二靜密封圈，故第一靜密封圈由直接接觸流體介質改為間接接觸流體介質，可以降低由于軸向竄動帶來的密封失效的風險，延長整個密封機構的使用壽命，具有良好的經濟效益。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型一種雙重高性能靜密封結構示意圖。
【具體實施方式】
[0010]以下結合具體附圖對本實用新型作進一步的說明。
[0011 ]如圖1所示，提供一種雙重高性能靜密封結構，包括安裝底座I，動環2、靜環7及靜環座3，安裝底座I裝在釜體上，靜環7與靜環座3之間設置有靜環密封圈4，安裝底座I與靜環座3底面之間設置有第一靜密封圈6，安裝底座I與靜環座3側面之間設置有第二靜密封圈5，第二靜密封圈5設置于靜環座3的側面，可以不受機械密封軸向竄動的影響，與流體直接接觸，形成徑向密封作用，第一靜密封圈6在靜環座3下方，形成了軸向密封作用。使用時，即使在機械密封因軸向竄動而發生軸向密封失效的情況下，第二靜密封圈5也可以發揮密封作用，阻止機構密封失效，整個密封結構簡單、易于更換，在機械密封領域使用具有一定的有益性。
[0012]以上內容是結合具體的優選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明，對于本實用新型所屬技術領域的技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種雙重高性能靜密封結構，包括安裝底座，依次設置在安裝底座上的靜環座、靜環和動環，其特征在于:所述靜環與靜環座之間設置有靜環密封圈，所述安裝底座與靜環座底面之間設置有第一靜密封圈，所述安裝底座與靜環座側面之間設置有第二靜密封圈。2.根據權利要求1所述的一種雙重高性能靜密封結構，其特征在于:所述靜環密封圈、第一靜密封圈、第二靜密封圈都為O形圈或方形密封圈。
【文檔編號】F16J15/34GK205689764SQ201620474776
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年5月23日 公開號201620474776.1, CN 201620474776, CN 205689764 U, CN 205689764U, CN-U-205689764, CN201620474776, CN201620474776.1, CN205689764 U, CN205689764U
【發明人】項憲紹
【申請人】上海耐利流體設備有限公司