專利名稱：真空閥的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種閥門，更具體地說，它涉及一種真空閥。
技術背景 真空閥是指工作壓力低于標準大氣壓的閥門。目前，市場上的真空閥，包括閥體和氣缸，閥體設有相互導通的閥腔、入口和出口，入口與氣缸連接設置構成密封配合，且入口設有閥座和閥瓣，閥座和閥體密封配合，閥座和閥瓣可相互貼合構成密封連接，閥瓣和閥座密封連接時，所述閥瓣相對閥腔一側的端面與閥座相對閥腔一側的端面呈等高設置。這種閥座和閥瓣直接密封，而且閥瓣相對閥腔一側的端面與閥座相對閥腔一側的端面呈等高設置，閥腔內的液體或氣體極易從中間縫隙泄露。再者，由于閥瓣是靠氣缸腔內的氣體壓力推動打開的，在真空閥處于低溫狀態下，氣缸腔內部的氣體可能會結冰造成閥瓣無法打開，從而使真空閥無法工作。
發明內容針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種密封性能好的真空閥。為實現上述目的，本實用新型提供了如下技術方案一種真空閥，包括閥體和氣缸，閥體設有相互導通的閥腔、入口和出口，入口與氣缸連接設置構成密封配合，且入口設有閥座和閥瓣，閥座和閥體密封配合，閥座和閥瓣可相互貼合構成密封連接，所述閥瓣設有密封圈，閥瓣和閥座密封連接時，密封圈置于閥瓣和閥座的抵接處，所述閥瓣相對閥腔一側的端面高于閥座相對閥腔一側的端面。通過采用上述技術方案，密封圈的設置，增強了閥瓣和閥座的密封性，閥瓣相對閥腔一側的端面高于閥座相對閥腔一側的端面，這使得閥腔內的氣體或液體不會殘留在閥瓣和閥座的貼合處。本實用新型進一步設置為所述氣缸包括氣缸殼體和氣缸腔，氣缸殼體設有與氣缸腔相導通的氣缸孔，所述氣缸孔設有氣嘴。通過采用上述技術方案，在真空閥處于低溫狀態下，氣缸腔內部的氣體可能會結冰造成閥瓣無法打開，此時就可以通過氣嘴對氣缸腔內充氣，從而強制打開閥瓣。本實用新型進一步設置為所述閥體呈球形結構設置。通過采用上述技術方案，使得整個真空閥更加美觀。
圖I為本實用新型真空閥實施例的結構示意圖。
具體實施方式
[0013]參照圖I對本實用新型真空閥實施例做進一步說明。一種真空閥，包括閥體I和氣缸2，閥體I設有相互導通的閥腔12、入口和出口，入口與氣缸2連接設置構成密封配合，且入口設有閥座14和閥瓣13，閥座14和閥體I密封配合，閥座14和閥瓣13可相互貼合構成密封連接，所述閥瓣13設有密封圈4，閥瓣13和閥座14密封連接時，密封圈4置于閥瓣13和閥座14的抵接處，所述閥瓣13相對閥腔12 —側的端面高于閥座14相對閥腔12 —側的端面。通過采用上述技術方案，密封圈4的設置，增強了閥瓣13和閥座14的密封性，閥瓣13相對閥腔12 —側的端面高于閥座14相對閥腔12 —側的端面，這使得閥腔12內的氣體或液體不會殘留在閥瓣13和閥座14的貼合處。所述氣缸2包括氣缸殼體22和氣缸腔21，氣缸殼體22設有與氣缸腔21相導通的氣缸孔23，所述氣缸孔23設有氣嘴3。通過采用上述技術方案，在真空閥處于低溫狀態下，氣缸腔21內部的氣體可能會結冰造成閥瓣13無法打開，此時就可以通過氣嘴3對氣缸腔21內充氣，從而強制打開閥瓣13。所述閥體I呈球形結構設置(此處需說明的是，閥體I可以呈方形或者圓柱形等結構設置，為使得整個真空閥更加美觀，本實施例優選的，所述閥體I呈球形結構設置)。
權利要求1.一種真空閥，包括閥體和氣缸，閥體設有相互導通的閥腔、入口和出口，入口與氣缸連接設置構成密封配合，且入口設有閥座和閥瓣，閥座和閥體密封配合，閥座和閥瓣可相互貼合構成密封連接，其特征是所述閥瓣設有密封圈，閥瓣和閥座密封連接時，密封圈置于閥瓣和閥座的抵接處，所述閥瓣相對閥腔一側的端面高于閥座相對閥腔一側的端面。
2.根據權利要求I所述的真空閥，其特征是所述氣缸包括氣缸殼體和氣缸腔，氣缸殼體設有與氣缸腔相導通的氣缸孔，所述氣缸孔設有氣嘴。
3.根據權利要求I或2所述的真空閥，其特征是所述閥體呈球形結構設置。
專利摘要本實用新型公開了一種真空閥，其技術方案要點是，包括閥體和氣缸，閥體設有相互導通的閥腔、入口和出口，入口與氣缸連接設置構成密封配合，且入口設有閥座和閥瓣，閥座和閥體密封配合，閥座和閥瓣可相互貼合構成密封連接，所述閥瓣設有密封圈，閥瓣和閥座密封連接時，密封圈置于閥瓣和閥座的抵接處，所述閥瓣相對閥腔一側的端面高于閥座相對閥腔一側的端面。密封圈的設置，增強了閥瓣和閥座的密封性，閥瓣相對閥腔一側的端面高于閥座相對閥腔一側的端面，這使得閥腔內的氣體或液體不會殘留在閥瓣和閥座的貼合處。
文檔編號F16K31/12GK202708105SQ20122039274
公開日2013年1月30日 申請日期2012年8月9日 優先權日2012年8月9日
發明者吳光偉 申請人:溫州市精工機械裝備成套有限公司