真空閥的制作方法

專利名稱：真空閥的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種真空閥，包括一帶有一閥門流通斷面和一包圍著閥門流通斷面的 閥座的壁，該閥座具有一位于一平面中的密封面或者一位于一平面中的密封圖，并且包括 一閥瓣，該閥瓣可從一打開位置經一關閉行程調節到一關閉位置，在該打開位置中它打開 閥門流通斷面，在該關閉位置中它關閉閥門流通斷面，并且具有一密封圈，該密封圈在關閉 位置中壓緊在閥座的密封面上，或者具有一密封面，在關閉位置中閥座的密封圈壓緊在該 密封面上，其中閥瓣在真空閥關閉時從閥瓣的打開位置出發經一關閉行程的主斷面沿著一 主關閉方向調節，該主關閉方向平行于閥瓣，并且平行于密封面的平面或者閥座密封圈的 平面，并且緊接著在關閉行程的主斷面上為了使閥瓣接近閥座在一與閥瓣成一定角度，并 且與密封面的平面或者閥座密封圈的平面成一定角度走向的關閉行程的末端部分上調節。
背景技術：
在大量的不同的結構形式下的真空閥按照平板閥的類型，在該平板閥中閥門流通 斷面通過一閥瓣關閉，該閥瓣相對于包圍著閥門流通斷面的閥座壓緊，已是眾所周知的。在 這里為了使由一彈性材料組成的密封不遭受太大的剪切應力，已知，閥瓣的關閉移動分兩 級實施。在關閉行程的第一部分中，該部分包括關閉行程延伸的絕大部分，閥瓣從一打開閥 門流通斷面的打開位置移動到一蓋住閥門流通斷面的、但是尚從閥座上抬起的中間位置。 在關閉行程的末端部分中閥瓣從中間位置移動到關閉位置，在該關閉位置中它壓緊到閥座 上，并且密封閥門流通斷面。在一傳統的滑閥類型中通過機械元件產生閥瓣的兩級移動過程，該元件布置在一 由至少一驅動件移動的支撐板和閥瓣之間。在該機械元件中可涉及到滾動體，該滾動體在 閥瓣和支撐板之間的楔形的間隙中引導，并且涉及到在該兩個板之間的杠桿機構或者偏轉 元件。為了避免或者限制在第二移動工步時閥桿的彎曲，支撐板或者一同樣經用作支撐的 機械元件與支撐板相連接的支座板相對于一處在閥座對面的閥殼體壁支承。這樣的滑閥例 如由 US4560141A、DE3209217C2、DE3224387C2 和 US3185435A 已是眾所周知的。此外關閉移動的第二部分可通過閥桿圍繞著一垂直于閥桿的軸線的偏轉實現。該 閥桿的偏轉例如可通過一滑桿導向裝置實現，例如參見US7066443B2、或者經一自身的驅動 件、例如參見 US7059583B2、US6390448B 1 或者 DE19633798A1。此外已知的是，由于閥瓣借助于至少一驅動件可相對于支撐板調節，所以可實施 關閉移動的第二部分，該支撐板借助于至少一驅動件可在關閉行程的第一部分上調節。這 樣的真空閥例如由US6056266和US6899316B2所公開。此外由US6776394B2已知一所謂的擺式閥，在該擺式閥中閥瓣首先不是直線移動 而是沿著一圓弧偏轉。為了閥瓣在閥座上達到足夠的壓緊力，這里在閥殼體中設有可調節 的推桿，用該推桿閥瓣可壓緊在閥座上。由US2007/0228314A1得知一擺式閥，在該擺式閥 中可調節的推桿支承在閥瓣中，并且支撐在殼體上。在平板閥或者滑閥的其它類型中密封面和密封圈以三維的方式這樣構成，以便在閥瓣直線插入閥座時沒有剪切荷載作用到合成橡膠的密封上。閥瓣在它的整個關閉行程上 從它的打開位置直到它的關閉位置直線地移動。一這樣的閥例如由US4921213已是眾所周 知的。
此外已知的是，兩個可彼此獨立操縱的密封元件布置在一共同的閥殼體中，其中 第一閥門流通斷面可由第一密封元件密封，并且第二閥門流通斷面可由第二密封元件密 封。平板閥也被稱為L閥，在該平板閥中在關閉移動的第一部分中閥瓣平行于閥座的 平面直線地移動，并且在關閉移動的末端部分中基本上垂直于閥座移動，并且壓緊在閥座 上。當在關閉移動的末端部分中移動相對于第一工步的移動方向傾斜、并且相對于閥座的 平面傾斜進行時，那么也被稱為J閥。

發明內容
本發明的任務是提供一種開頭時提到的類型的真空閥，該真空閥具有一簡單的結 構，其中一在根據本發明的方式下構成的真空閥尤其是適合于縱向延伸的或者縫隙式的閥 門流通斷面。由于至少一在關閉行程的末端部分上引導閥瓣的導向元件布置在壁上，該導 向元件與一布置在閥瓣上的導向元件共同起作用，所以根據本發明在開頭時提到的類型的 真空閥中達到了該任務的目的，其中閥瓣在關閉行程的末端部分上的導向裝置通過與密封 面的平面或者閥座的密封圈的平面構成一定角度的導向面實現，該導向面至少布置在一閥 瓣的導向元件上或者布置在一布置在壁上的導向元件上。通過至少一導向元件在具有閥門流通斷面的壁上的布置，該導向元件在關閉行程 的末端部分上引導閥瓣，可以實現一簡單的節省空間的結構。在這種情況下一為了閥瓣的 壓緊施加到閥座上的壓緊力可直接被具有閥門流通斷面的壁吸收，這尤其是在縱向延伸的 或者縫隙式的閥門流通斷面時是有利的(因為真空閥的其它部件的公差或者柔性不影響 閥瓣在閥門流通斷面的長度上均勻的壓緊到閥座上)。在本發明的一有利的結構形式中，在閥門流通斷面之前和之后(與主關閉方向相 聯系)用于閥瓣在它關閉行程的末端部分上關閉移動引導的導向元件布置在壁上，該壁與 閥瓣的導向元件共同起作用。至少兩個分別共同起作用的導向元件的一個在這里具有一與 閥瓣構成一定角度、并且與密封面的平面或者閥座的密封圈的平面構成一定角度的導向面 (即該導向面不與密封面的平面或者閥座的密封圈的平面平行)。該導向面在這里優選的 方式是具有一不變的傾斜角，該導向面也可稱為斜面，但是其中一變化的傾斜角也是可設 想的和可行的。代替至少一布置在閥門流通斷面之后的導向元件在壁上的布置(與主關閉 方向相聯系)至少一布置的導向元件也可以布置在真空閥的一側壁上，該側壁遠離具有閥 門流通斷面的壁。在本發明的一可能的結構形式中規定，一位于閥門流通斷面之前的壁的凸起(與 主關閉方向相聯系)或者安裝在壁上、并且遠離該壁的部件伸入一在閥瓣中的凹槽中。在 這里壁的凸起或者安裝在壁上的、并且遠離該壁的部件和凹槽、必要時與布置在其上的部 件相聯系、例如導向輥形成用于閥盤在關閉行程的末端部分上導向的、共同起作用的導向 元件。在本發明的另一結構形式中規定，閥瓣的凸起或者安裝在閥瓣上、并且遠離該閥瓣的 部件伸入一位于閥門流通斷面之前(與主關閉方向相聯系)的、在壁中的凹槽中。在這里閥瓣的凸起或者遠離該閥瓣的部件和凹槽、必要時與布置在其上的部件一起、例如導向輥 形成用于閥瓣在關閉行程的末端部分上導向的導向元件。至少一在閥門流通斷面之后(與主關閉方向相聯系)相對于壁固定布置的導向 元件可以由一壁的凸起、一安裝在壁上、并且遠離該壁的部件、一在遠離該壁的側壁中的凹 槽、一側壁的凸起或者一安裝在側壁上、并且遠離該側壁的部件構成。在本發明的一可能的結構形式中，閥瓣構成真空閥的唯一的密封元件。在本發明 的另一結構形式中相對于構成在第一壁中用于第一閥門流通斷面密封的真空閥的第一密 封元件的閥瓣另外可設有一第二密封元件，該密封元件用于在第二壁中第二閥門流通斷面 的密封。兩個密封元件在這里布置在真空閥的閥殼體的內腔之內，其中第一壁和第二壁是 該閥殼體的部件，并且優選的是在面對面的側面上限定內腔。兩個密封元件可彼此獨立地 操縱。第二閥門流通斷面用第二密封元件的密封例如可按照L閥的形式構成。通過密封 圈垂直放到密封面上密封圈的負荷可保持盡可能地小，以便第二密封元件設計用于大量的 關閉和打開過程。在一 J閥形式下的結構或者第二閥門流通斷面用第二密封元件密封的其 它的結構也是可設想的和可行的。一另外裝備有第二密封元件的根據本發明的真空閥例如作為傳送閥可用于基片 在真空加工設備中的實施。在正常運行中真空閥的打開和關閉用第二密封元件實施。當第 二密封元件需要維護時，那么真空閥可用第一密封元件關閉，并且接著可進行在第一密封 元件上的維護，通過第一閥門流通斷面的密封借助于第一密封元件關閉的真空設備的部分 不會吹進氣體。


本發明其它的優點和細節下面借助于

。其中圖1以視圖的形式表示了一本發明的在閥瓣的打開位置中的真空閥的第一個實 施例；圖2表示了一圖1所示的在閥對面一側上的視圖，其中略去了在圖2中位于前面 的閥殼體的壁；圖3表示了一沿著圖1所示的A-A剖切線的剖面；圖4表示了一沿著圖1所示的B-B剖切線的剖面；圖5和圖6表示了根據圖1和圖2所示的真空閥的圖示，但是在閥瓣的關閉位置 中；圖7表示了一沿著圖5所示的C-C剖切線的剖面；圖8表示了一沿著圖5所示的D-D剖切線的剖面；圖9表示了一根據圖8所示的剖面，但是在閥瓣的中間位置中；圖10和圖11表示了圖9所示的局部放大圖；圖12表示了一沿著圖5所示的E-E剖切線的剖面；圖13表示了一在閥瓣的打開位置中、根據第一個實施例的真空閥的斜視圖；圖14表示了一根據圖10所示的變型的結構形式的剖面；圖15表示了一根據圖11所示的另一變型的結構形式的剖面；
圖16表示了一在兩個密封元件的打開位置中、根據本發明的真空閥的另一實施 例；
圖17表示了一圖16所示的沿著F-F剖切線的剖面；圖18表示了一根據圖17所示的剖面，但是在兩個密封元件的中間位置中；圖19表示了一圖16所示的沿著G-G剖切線的剖面，但是其中第二密封元件位于 在圖18中所示的中間位置中；圖20表示了一根據圖18所示的剖面，但是在兩個密封元件的關閉位置中；圖21表示了一根據其它的結構形式的真空閥的向視圖，其中第一密封元件處在 關閉位置中，并且第二密封元件處在中間位置中；圖22表示了一圖21所示的沿著I-I剖切線的剖面；圖23表示了一圖21所示的沿著H-H剖切線的剖面；圖24表示了一根據其它的結構形式的真空閥的對面一側的視圖；圖25表示了一圖24所示的沿著J-J剖切線的剖面；圖26表示了根據圖23所示的剖面，但是拆下了第二密封元件；圖27表示了如圖25所示的在相同的剖切平面中的剖面，但是沿著相反的視向，并 且拆下了密封元件；圖28表示了一在第二密封元件的關閉位置中、根據其它的結構形式的真空閥的 斜視圖；圖29表示了一通過第二密封元件的驅動件的剖面。類似的部件在不同的實施例中用相同的附圖標記表示。
具體實施例方式下面借助于圖1至圖13說明本發明的第一個實施例。根據該實施例的真空閥具 有一帶有壁1、2和側壁3、4、43、44的閥殼體，所述壁包圍著一內腔5，該內腔表示閥的真空 區域，即在連接到閥的閥腔上的狀態下在內腔5中可保持一真空。壁1具有一閥門流通斷面6，該閥門流通斷面可被一閥瓣7關閉。處于對面的壁2 同樣具有一開口 8。閥門流通斷面6、內腔5和開口 8形成一通過真空閥的通道。閥殼體在傳統的方式下借助于法蘭可與真空設備的其它部件相連接，該法蘭在第 一和第二壁1、2上構成或者布置在第一和第二壁1、2上。該法蘭在示意圖中未表示。在真空閥完全打開的狀態中閥瓣7處在它的打開位置中(參見圖1至圖4)，并且 閥門通流斷面6打開，優選的是完全打開，即沿著閥門流通斷面6的軸線9的方向看它不遮 蓋閥門流通斷面6。在真空閥完全關閉的狀態中，閥瓣7處在它的關閉位置(參見圖5至圖8)，其中它 壓緊在一包圍著閥門流通斷面6的閥座上。閥座在圖示的實施例中由一密封面10形成，一 布置在閥瓣7上的彈性密封圈11壓緊在該密封面上。在一變化的結構形式中密封圈也可 以布置在閥座上，并且密封面可以布置在閥上。密封圈11由一合適的合成橡膠材料、例如 氟橡膠(Viton)組成。兩個驅動件12用于閥瓣7在它的關閉行程上從它的打開位置到它的關閉位置的 調節、并且用于返回時在反過來的打開行程上的調節，該驅動件構成柱塞液壓缸單元。也可以僅使用一個驅動件。同樣可以使用兩個以上的驅動件。使用的驅動件也可以其它的形式 構成，例如構成帶有合適的變速裝置的電動機。每個驅動件12軸向移動一各自的閥桿13，其中閥瓣7安裝在閥桿上。同樣可以設 有兩個以上的圖示的閥桿13、也可以設有兩個以下的圖示的閥桿13。驅動件12分別用于閥瓣7在它的整個關閉行程上的調節。即對于關閉行程的不 同的部分不存在單獨的驅動件。在閥瓣7從它的打開位置到它的關閉位置調節時閥瓣首先在一關閉行程的主斷 面上沿著主關閉方向14直線地移動，該主斷面構成關閉行程的絕大部分。在這種情況下閥 瓣7在它的平面中移動，即主關閉方向14與閥瓣7平行。此外主關閉方向14與平面45平 行，閥座的密封面10布置在該平面中，如果在所提到的變化的結構形式中一密封圈布置在 閥座上，主關閉方向14與平面45平行，閥座的密封圈布置在該平面中。此后閥瓣7在關閉行程的末端部分上相對于閥瓣的主平面成一定角度(即不平行 地)調節，并且相對于閥座的密封面10的平面45成一定角度調節，如果一密封圈布置在閥 座上，或者相對于閥座的密封圈的平面45成一定角度調節，直到閥瓣7緊貼在閥座上，并且 密封圈11壓緊在密封面10上。在該閥瓣7的關閉位置中閥門流通斷面6被閥瓣7密封。 閥瓣在關閉行程的末端部分上的移動在閥桿13的彈性彎曲下實現。在圖9至圖11中表示了閥瓣7的中間位置，該中間位置占據的是在關閉行程的主 斷面的末端處或者在關閉行程的末端的起始端處的位置。這里可以清楚地看到，閥瓣沿著 閥門流通斷面的軸線9的方向看遮蓋閥門流通斷面、但是被閥座抬高了。為了形成閥瓣7 在關閉行程末端上的導向裝置，設有布置在壁1上的導向元件15、16，該導向元件與閥瓣7 的導向元件17、18共同起作用。在這里與主關閉方向14相連系在閥門流通斷面6之前和 之后分別至少設有一相對于壁1固定的導向元件15、16，該導向元件中至少一位于閥門流 通斷面6之前的導向元件15布置在壁1上。在圖示的實施例中至少一位于閥門流通斷面 6之后的導向元件16同樣布置在壁1上。布置在側壁3上也是可以考慮的和可行的，該側 壁離具有閥門流通斷面6的壁1遠一些，后面還要更詳細地說明。在圖示的實施例中布置在壁1上的導向元件15和16由布置在壁1上的凸起形成， 該凸起構成單獨的、安裝在壁1上的零件。這樣的凸起與壁1構成整體也是可考慮的和可 行的。布置在壁1上的導向元件15和16具有導向面19、20，該導向面與平面45構成一 定角度，閥座的密封面10位于該平面中，或者如果一密封圈布置在閥座上，則閥座的密封 圈位于該平面中。沿著與主關閉方向14交叉的方向在閥門流通斷面之前設有多個布置在壁1上的 導向元件15，這尤其是由圖2、圖6和圖12可清楚地看到(在圖2和圖6中雖然略去了前 壁1，但是表示了安裝在壁1上的導向元件15、16)。各自的導向元件15伸入一凹槽，該凹 槽在朝向壁1的閥瓣7的一側上構成，并且該凹槽包括一形成導向面21的壁部分，該壁部 分限制凹槽的側凹區域。導向面21在關閉行程的末端中與各自的導向元件15的導向面19 共同起作用。導向面21與平面45構成一定角度，閥座的密封面10位于該平面中，或者如 果一密封圈布置在閥座上，則閥座的密封圈位于該閥座中。各自的具有導向面21的凹槽形 成閥瓣7的導向元件17。
代替多個與主關閉方向交叉、彼此保持一定間距的凹槽在閥瓣7中也可以布置一直通的凹槽，導向元件15伸入該凹槽中，或者一直通的板條狀的導向元件15伸入該凹槽 中。為了使閥瓣7達到足夠的穩定性那么該閥瓣必須具有一相應的總的厚度。一閥瓣7的導向元件18與在閥門流通斷面6之后布置在壁1上的導向元件16共 同起作用，該導向元件在一遠離閥瓣7的前邊緣上的凸起上形成(與主關閉方向14相聯 系)，該凸起在它背向壁1的一側上具有一導向面22，該導向面與平面45構成一定角度，閥 座的密封面10位于該平面中，或者如果一密封圈布置在閥座上，則閥座的密封圈位于該平 面中。導向元件18的導向面22與布置在壁1上的導向元件16的導向面20共同起作用。因此在圖示的實施例中兩組共同起作用的導向面19、21 ；20,22分別與所提到的 密封面10的平面45或者閥座的密封圈的平面45構成一定角度。但是這也是可考慮的和 可行的，僅兩組共同起作用的導向面19、21 ；20,22的一組分別與密封面10的平面45或者 閥座的密封圈的平面45構成一定角度。每個與密封面10的平面45或者閥座的密封圈的平面45構成一定角度的導向平 面的角度優選的是在8°和40°之間的范圍中，該導向平面與所提到的平面包圍著該角 度，其中在10°和30°之間的范圍是特別優選的。在圖示的實施例中共同起作用的導向面19、21 ；20、22分別構成平面。替代一各 自與所提到的平面構成一定角度的導向面的平面的結構該導向面也可以構成曲面地，即它 相對于所提到的平面的角度將在它的走向上變化，在這種情況下另外相對于與平面45構 成一定角度的部分(必要時帶有變化的角度)也可以布置一位置或者一部分，在該部分中 導向面與平面45平行，尤其是在導向面的起始端上(與在閥瓣7關閉時它的導向功能相聯 系)。在圖示的實施例中構成平面的導向面彼此平行，由此可獲得低的表面壓力。在真空閥關閉時從閥瓣7的打開位置出發該閥瓣由驅動件12首先沿著主關閉方 向14移動，直到導向元件15、17 ；16、18相互嚙合。因此導向元件僅在關閉移動的末端部分 上，而不是在關閉移動的主斷面上共同起作用。在閥瓣7通過驅動件12繼續移動時，其中 閥桿13被驅動件12沿著相同的方向繼續移動，通過閥瓣7的導向裝置借助于共同起作用 的導向元件15、17 ;16、18導致閥瓣與主關閉方向14成一定角度移動，而且沿著一位于從主 關閉方向14和閥門流通斷面6的軸線9夾緊的平面中的方向。在這種情況下閥瓣接近閥 座，并且最終壓緊在該閥座上。該閥瓣的導向裝置在它關閉移動的末端部分中也可以稱為 滑桿導向裝置。在圖14中表示了一前面描述的真空閥的實施例的一變型。這里固定在殼體上處 在通流斷面6之后(與主關閉方向14相聯系)的導向元件16布置在側壁3上，而且在該 側壁中構成凹槽，該側壁具有一形成導向面的壁部分，該壁部分限制凹槽的側凹區域。導向 元件16也可以構成布置在側壁3上的凸起，該凸起與側壁3構成整體，或者由一安裝在側 壁3上的部件構成，并且具有導向面20。導向元件16與一布置在閥瓣6上的導向元件18 共同起作用，該導向元件具有一導向面22。導向面20、22類似于與圖1至圖13相聯系所描 述的實施例的結構。借助于圖1至圖13所述的實施例的另一可能的變型表示在圖15中。這里布置在 壁1上的、位于閥門流通斷面6之前的(與主關閉方向14相聯系)導向元件15或者一這樣的導向元件15的每一個由一凹槽在壁1中構成，該凹槽具有一由凹槽的壁部分形成的導 向面19。該導向元件15與一布置在閥瓣7上的導向元件17共同起作用，該導向元件由一 布置在閥瓣7上的凸起構成，該凸起具有一與導向面19共同起作用的導向面21。在這里構 成導向元件17的凸起可由一安裝在閥瓣7上的部件構成或者與閥瓣7構成整體。導向面 19,21類似于與圖1至圖13相聯系所描述的實施例的結構。在所述的實施例的一可能的變型中由兩組共同起作用的導向元件15、17或者16、 18代替一導向面可以具有一個或者多個滾子，該滾子可以在兩個導向元件的其它的導向面 上滾動，其中該導向面在所述的方式下與平面45構成一定角度，密封面10或者閥座的密封 圈位于該平面中。因此例如在閥門流通斷面6之前布置在壁1上的導向元件或者這樣的導 向元件15的每一個由一滾子構成，該滾子由一安裝在壁1上的、并且遠離該壁的支承件可 旋轉地支承。類似地適合于相對于壁固定布置的導向元件16的結構。代替相對于壁1固 定布置的導向元件15、16閥瓣7的導向元件17、18也可以包括這樣的滾子，所述滾子由支 承件可旋轉地支承。根據本發明的真空閥的結構沒有封閉的閥殼體或者沒有處在具有閥門流通斷面6 的壁1對面的壁2也是可行的。具有通流斷面6的壁也可以是真空腔的部分，在這種情況 下閥瓣7可以布置在腔之內或者布置腔之外。這樣的真空閥也被稱為門，通過該真空閥可 關閉一在腔的壁中的開口。—根據本發明的方式構成的真空閥尤其適合于縱向延伸的閥門流通斷面6的關 閉，即與主關閉方向14交叉測量的閥門流通斷面的長度顯著大于沿著主關閉方向14測量 的寬度。例如與主關閉方向14交叉測量的閥門流通斷面6的長度至少為100cm。這樣的閥 門流通斷面用于基片在真空腔之間或者在真空區域中的轉運，例如在平板電視屏幕的鑲板 加工時。—根據本發明的真空閥可以沿著一個方向構成固定壓差(壓差直到大氣壓)或者 可以沿著兩個方向構成固定壓差(壓差直到大氣壓)。當根據本發明的真空閥在應用中使用時，在該應用中閥門流通斷面6的密封僅要 求一閥瓣7沿著壓緊到閥座的方向上起作用的壓差，因此也可以規定，閥瓣7在它的關閉位 置中通過至少一驅動件僅相對輕地壓緊在閥座上，并且全部密封壓力通過壓差產生。在這 里有利的方式是該單位密封長度的壓力可小于lN/mm(沒有作用的壓差)，用該壓力密封圈 11通過至少一驅動件12的作用壓緊在密封面10上。例如該單位密封長度的壓力可以為 0. l_0.3N/mm。一這樣的結構尤其是在真空閥的結構中可以作為門使用。本發明的另一實施例表示在圖16至圖28中。相對于構成第一密封元件的閥瓣7 另外設有一第二密封元件23，該密封元件可獨立于閥瓣7調節。相對于在第一壁1中由閥 瓣7可關閉的第一閥門流通斷面6另外在第二壁2中設有一第二閥門流通斷面24，該閥門 流通斷面在第二密封元件23的打開位置中被該密封元件打開，并且在第二密封元件23的 關閉位置中被該密封元件密封。第二密封元件的打開位置表示在圖17中，在該打開位置中第二閥門流通斷面24 打開。為了關閉第二密封元件23從它的打開位置出發第二密封元件23首先借助于至少 一驅動件25沿著主關閉方向46調節，在圖示的實施例中設有兩個驅動件25。優選的是主 關閉方向46與閥瓣7的主關閉方向14平行并且同向。例如第二密封元件23的主關閉方向46也可與閥瓣7的主關閉方向14平行并且反向。當第二密封元件23達到一中間位置 時，在該中間位置中第二密封元件蓋住第二通流斷面24，但是尚被包圍著第二通流斷面24 的閥座抬起(參見圖18和圖19)，那么第二密封元件23借助于至少一驅動件25的調節結 束。接著第二密封元件23的調節借助于至少一另一驅動件26進行。在圖17至圖20、22、 23和25中驅動件26僅示意地作為滑塊表示。一驅動件的可能的結構表示在圖29中。優 選的是沿著與主關閉方向46交叉的方向或者與第二通流斷面24的縱向延伸平行的方向設 有多個驅動件26，該驅動件可同步地操縱。因此第二密封元件23由一支承單元27支承，該支承單元至少包括一驅動件26。 在圖示的實施例中支承單元27固定在兩個閥桿28上。也可以設有兩個以上的閥桿28或 者兩個以下的閥桿28。支承單元27至少固定在一閥桿28上。各自的閥桿28由各自的驅 動件25移動，其中支承單元27、并且第二密封元件23用它沿著第二密封元件23的主關閉 方向調節。第二密封元件23與支承單元27的連接經至少一布置在支承單元27上的驅動件 26實現，該驅動件與第二密封元件的主關閉方向垂直或者與在壁2中的第二閥門流通斷面 24的軸線29平行調節第二密封元件23。因此第二密封元件23從在圖18和圖19中表示的 中間位置出發沿著到包圍第二閥門流通斷面24的閥座的方向移動，并且緊貼在該閥座上， 其中一彈性密封圈30壓緊在一密封面31上。在圖示的實施例中密封圈30布置在第二密 封元件23上，并且密封面31布置在閥座上。一相反的布置同樣是可行的。當第二關閉件23借助于至少一驅動件26壓緊在包圍著第二閥門流通斷面24的 閥座上時，那么支承單元27支承在背向閥門流通斷面24的一側上。在這種情況下閥桿28 略微彎曲。以該方式用于第二密封元件23壓緊在閥座上所需的壓緊力基本上經閥殼體傳 遞(并且不經閥桿28)。支承單元27在第二密封元件23的關閉位置中的支承一方面在閥瓣7上實現，并 且另一方面在至少一與主關閉方向14相聯系布置在閥門流通斷面6之后的導向元件16上 實現。在這種情況下一彈性支承環32布置在支承單元27上，支承通過該支承環實現，以避 免金屬對金屬的接觸。同樣其它形式構成的彈性支承件可布置在支承單元27上和/或者 布置在部件上，它在它背向第二壁2的一側支承在該部件上。 支承例如如圖所示經一支承單元27的板狀部件33實現，支承環32布置在該部件 上或者以其它的方式構成的彈性的支承件可以布置在該部件上。在與主關閉方向14相聯系位于閥門流通斷面6之后的一側上一支承布置在另一 固定殼體的部件上也是可行的，該部件布置在壁1上或者布置在遠離壁1的側壁3上。如果在閥瓣7的打開位置中一與主關閉方向14相聯系閥瓣7的前面部分壓緊在 壁1上，這是優選的，以便獲得一閥瓣7的前面部分的確定的穩定的位置，支承單元27的支 承在該部分上實現。閥瓣7的前面部分在壁1上的貼緊可通過導向元件15、17的共同起作 用的導向面34、35實現。在這里至少該導向面34、35的一個與密封面10的平面45或者包 圍著閥門流通斷面6的閥座的密封圈的平面45構成一定角度。同樣代替共同起作用的導 向面兩個導向元件15、17的一個至少可以具有一滾子，該滾子在兩個導向元件15、17的其 它的導向面上滾動。驅動件25、26可以傳統的方式構成，這如由說明書的引言中所提到的
12US6899316B2所公開。因此支承單元可具有一通長的梁式部件，一組協調的液壓缸在該部件 中構成，活塞布置在該液壓缸中。圖29表示了一與此相對應地略微變型的驅動件26的結 構形式。一罐形部件36擰緊在板式部件33上(螺栓孔38表示在圖29中)，該部件具有一 汽缸室37。一活塞39布置在汽缸室37中，該活塞借助于壓縮空氣可在汽缸室中移動。一 活塞桿40被活塞39操縱，板式第二密封元件23固定在該活塞桿上。一波紋管41用于在 罐形零件36和活塞39之間的密封。一彈簧42將活塞39牽引到一位置中，在該位置中第 二密封元件23被包圍著第二閥門流通斷面24的閥座抬起。一在該方式下構成的真空閥例如可以用在真空設備中，用于在真空下實施對基片 的加工工序，尤其是如果設有多個加工室，在該加工室中可進行平行的真空加工。在正常運 行時閥瓣7保持在它的打開位置，并且真空閥的打開和關閉借助于第二密封元件23實施， 第二閥門流通斷面24可被該密封元件打開或者密封。當第二密封元件需要維護時，例如必 須更換彈性密封圈30時，那么第一閥門流通斷面6借助于閥瓣7密封。在這種情況下第二 密封元件23處在它的打開位置中或者它的中間位置中。然后可以打開真空閥的閥殼體，并 且拆下待實施維護的第二密封元件，如在圖26和圖27中表示的。在這里腔可保持在真空 下，真空閥經第一通流斷面6連接在該腔上，或者連接到第一閥門流通斷面6上的真空設備 的部件上。在實施第二密封元件的維護和裝配之后閥殼體可重新關閉，并且在完成用泵抽 吸之后閥瓣7打開。在一在該方式下構成的真空閥相對于一在第二密封元件從它的閥座上抬起的意 義下起作用的壓差可取消第二密封元件的固定壓差的結構，該壓差直到大氣壓力。當要密 封一更高的沿著該方向起作用的壓差時，那么可經閥瓣7實現。代替按照所描述的L閥的結構形式第二密封元件23的調節也可以使用一以其它 的方式構成的L閥。第二密封元件23的移動和調節也可以按照滑閥的形式實現。在該滑 閥中在關閉移動的末端部分中第二密封元件由一支撐板支撐，并且優選的是一布置在支撐 板的對面一側上的支座板由支撐板支撐。支撐板或者如果有的話支座板在這里可類似于板 狀部件33支撐在閥瓣上，并且支撐在一位于第一閥門流通斷面之后的部件上(與主關閉方 向14相聯系)。在帶有一支撐機構的按照滑閥形式的結構時僅需設有一種驅動件，該驅動 件調節各自的閥桿，并且這里通過第二密封元件23在整個關閉行程上調節。對于第二閥門流通斷面通過第二密封元件23的關閉也可以使用一種結構，在該 結構中只進行一密封元件的線性的調節，其中閥座具有一三維的結構，并且在第二密封元 件的關閉位置中一相應地構成三維的密封圈壓緊在具有一與其相一致的走向的密封面上。附圖標記表
1壁32支承環
2壁33板式部件
3側壁34導向面
4側壁35導向面
5內腔36罐形部件
6閥門流通斷面37汽缸室
7閥瓣38螺栓孔
8開口39活塞0098] 9 軸線
40活塞桿 41波紋管 42彈簧 43側壁 44側壁
45平面
0099]10密封面
0100]11密封圈
0101]12驅動件
0102]13 閥桿
0103]14主關閉方向
0104]15導向元件
46主關閉方向
0105]16導向元件
0106]17導向元件
0107]18導向元件
0108]19導向面
0109]20導向面
0110]21導向面
0111]22導向面
0112]23第二密封元件
0113]24第二閥門流通斷面
0114]25驅動件
0115]26驅動件
0116]27支承單元
0117]28閥桿
0118]29軸線
0119]30密封圈
0120]31密封面
權利要求
真空閥包括-一帶有一閥門流通斷面(6)和一包圍著閥門流通斷面(6)的閥座的壁(1)，該閥座具有一位于一平面中的密封面(10)或者一位于一平面中的密封圈，并且-包括一閥瓣(7)，該閥瓣可從一打開位置，經一關閉行程調節到一關閉位置，在該打開位置中該閥瓣打開閥門流通斷面(6)，在該關閉位置中該閥瓣關閉閥門流通斷面(6)，并且該閥瓣具有一密封圈(11)，該密封圈在關閉位置中壓緊在閥座的密封面(10)上，或者具有一密封面，在關閉位置中閥座的密封圈壓緊在該密封面上，-其中閥瓣(7)在真空閥關閉時從閥瓣(7)的打開位置出發經一關閉行程的主斷面沿著一主關閉方向(14)調節，該主關閉方向平行于閥瓣(7)，并且平行于密封面(10)的平面或者閥座密封圈的平面，并且緊接著在關閉行程的主斷面上為了使閥瓣(7)接近閥座在一與閥瓣(7)成一角度，并且與密封面(10)的平面或者閥座密封圈的平面成一角度走向的關閉行程的末端部分上調節，其特征在于，至少一在關閉行程的末端部分上引導閥瓣(7)的導向元件(15，16)布置在壁(1)上，該導向元件與一布置在閥瓣(7)上的導向元件(17，18)共同起作用，其中閥瓣(7)在關閉行程的末端部分上的導向通過與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度的導向面(19，20，21，22)實現，所述導向面中的至少一個導向面布置在一閥瓣(7)的導向元件(17，18)上或者布置在一布置在壁(1)上的導向元件(15，16)上。
2.根據權利要求1所述的真空閥，其特征在于，至少設有一與主關閉方向(14)相聯系 在閥門流通斷面(6)之前、布置在壁⑴上的導向元件(15)和至少一與主關閉方向(14) 相聯系在閥門流通斷面(6)之后、相對于壁⑴固定的導向元件(16)，該導向元件分別與一 閥瓣⑵的導向元件(17，18)共同起作用。
3.根據權利要求1或者2所述的真空閥，其特征在于，一與主關閉方向(14)相聯系位 于閥門流通斷面(6)之前的導向元件(15)由一壁⑴的凸起構成或者由一安裝在該壁上、 并且遠離該壁的部件構成，并且伸入一在閥瓣(7)中的凹槽中。
4.根據權利要求3所述的真空閥，其特征在于，一導向面(19)布置在凸起上，該導向 面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度，并且與閥瓣(7) 的導向元件(17)共同起作用，和/或者一導向面(21)布置在一在閥瓣(7)中的凹槽的壁 部分上，該導向面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度， 并且與布置在壁(1)上的導向元件(15)共同起作用。
5.根據權利要求3或者4所述的真空閥，其特征在于，多個與主關閉方向(14)相聯系 位于閥門流通斷面(6)之前的導向元件(15)布置在壁(1)上，并且多個凹槽布置在閥瓣 (7)上，布置在壁⑴上的導向元件(15)伸入所述凹槽中。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的真空閥，其特征在于，閥瓣(7)的導向元件(17) 由閥瓣(7)的凸起或者一安裝在閥瓣(7)上、并且遠離該閥瓣的部件構成，并且伸入一與主 關閉方向(14)相聯系位于閥門流通斷面(6)之前在壁(1)中的凹槽中。
7.根據權利要求6所述的真空閥，其特征在于，在壁(1)中的凹槽的壁部分具有一導向 面(19)，該導向面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度， 并且與閥瓣(7)的導向元件(17)共同起作用，和/或者布置在閥瓣(7)上的凸起具有一導 向面(21)，該導向面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度，并且與布置在壁上的導向元件(15)共同起作用。
8.根據權利要求6或者7所述的真空閥，其特征在于，多個導向元件(17)布置在閥瓣 (7)上，并且壁⑴在與主關閉方向(14)相聯系的區域中在閥門流通斷面(6)之前具有多 個凹槽，閥瓣(7)的導向元件(17)伸入所述凹槽中。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的真空閥，其特征在于，一與主關閉方向(14)相 聯系位于閥門流通斷面(6)之后的導向元件(16)由壁⑴的凸起或者一安裝在壁上、并且 遠離該壁的部件構成，并且與一閥瓣的導向元件(18)共同起作用，其中布置在壁(1)上的 導向元件(16)和/或者與該導向元件共同起作用、布置在閥瓣(7)上的導向元件(18)具 有一導向面(20，22)，該導向面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45) 構成一角度。
10.根據權利要求1至8中任一項所述的真空閥，其特征在于，一與主關閉方向(14)相 聯系位于閥門流通斷面(6)之后的導向元件(16)布置在真空閥的側壁(3)上，該側壁遠離 具有閥門流通斷面(6)的壁(1)，并且與一布置在閥瓣(7)的導向元件(18)共同起作用，其 中布置在側壁(3)上的導向元件(16)和/或者布置在閥瓣(7)的導向元件(18)具有一與 密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度導向面(20，22)。
11.根據權利要求9或者10所述的真空閥，其特征在于，與至少一與主關閉方向(14) 相聯系布置在閥門流通斷面(6)之后相對于壁(1)固定的導向元件(16)共同起作用的閥 瓣(7)的導向元件(18)由一在與主關閉方向(14)相聯系閥瓣(7)的前邊緣上伸出的閥瓣 的凸起構成。
12.根據權利要求11所述的真空閥，其特征在于，一導向面(22)布置在背離壁(1)的 凸起的一側上，該導向面與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度。
13.根據權利要求1至12中任一項所述的真空閥，其特征在于，為了閥瓣(7)在關閉行 程上的調節至少設有一驅動件(12)，該驅動件在整個關閉行程上調節閥瓣(7)。
14.根據權利要求1至13中任一項所述的真空閥，其特征在于，真空閥具有一帶有一容 納閥瓣⑵的內腔(5)的閥殼體，該內腔由具有閥門流通斷面(6)的壁⑴的一側限定，并 且形成真空閥的真空區域。
15.根據權利要求14所述的真空閥，其特征在于，內腔(5)由處于具有閥門流通斷面 (6)的壁⑴對面的壁(2)的一側限定，該壁(2)具有另一開口(8，24)。
16.根據權利要求14或者15所述的真空閥，其特征在于，導向元件(15，16，17，18)布 置在閥殼體的內腔(5)中，該導向元件在關閉行程的末端部分上引導閥瓣(7)。
17.根據權利要求14至16中任一項所述的真空閥，其特征在于，在閥殼體的內腔(5) 中除了構成在第一壁⑴中用于第一閥門流通斷面(6)密封的第一密封元件的閥瓣(7)還 布置一第二密封元件(23)，該密封元件在一它打開一布置在第二壁(2)中的第二閥門流通 斷面(24)的打開位置和一它關閉和密封第二閥門流通斷面(24)的關閉位置之間可獨立于 閥瓣(7)調節。
18.根據權利要求17所述的真空閥，其特征在于，第二密封元件(23)可調節到一中間 位置，在該中間位置中它蓋住第二閥門流通斷面(24)，但是被一包圍著第二閥門流通斷面 (24)的第二閥座抬起。
19.根據權利要求18所述的真空閥，其特征在于，為了第二密封元件(23)在打開位置 和中間位置之間的調節至少設有一驅動件(25)，該驅動件布置在閥殼體之外，并且可至少 被一閥桿(28)軸向調節，第二密封元件(23)與該閥桿一起移動。
20.根據權利要求19所述的真空閥，其特征在于，至少設有另一驅動件(26)，該驅動件 布置在一支承單元(27)上，該支承單元至少安裝在一閥桿(28)上，并且借助于該閥桿第二 密封元件(23)可在中間位置和關閉位置之間調節。
21.根據權利要求18至20中任一項所述的真空閥，其特征在于，一在第二密封元件 (23)在它的打開位置和它的中間位置之間調節時與第二密封元件(23) —起移動的部件 (33)在第二密封元件(23)的關閉位置中在它背離第二閥門流通斷面(24) —側的區域中支 撐在閥瓣(7)上。
22.根據權利要求21所述的真空閥，其特征在于，此外在第二密封元件(23)在它的打 開位置和它的中間位置之間調節時與第二密封元件(23) —起移動的部件(33)在它背離第 二閥門流通斷面(24) —側的區域中支撐在至少一個導向元件(16)上，該導向元件布置在 具有第一閥門流通斷面(6)的第一壁(1)上或者布置在遠離第一壁(1)的側壁(3)上。
23.根據權利要求21或者22所述的真空閥，其特征在于，支承單元(27)的支撐部件 (33)板狀地構成。
全文摘要
本發明涉及一種真空閥，該真空閥包括帶有一閥門流通斷面(6)和一包圍著閥門流通斷面(6)的閥座的壁(1)和一閥瓣(7)，其中，閥瓣(7)在真空閥關閉時從其打開位置經一關閉行程的主斷面沿著一主關閉方向(14)調節，該主關閉方向平行于閥瓣(7)，并且平行于密封面(10)的平面或者閥座密封圈的平面，并且緊接著在關閉行程的主斷面上為了使閥瓣(7)接近閥座在一與閥瓣(7)成一角度，并且與密封面(10)的平面或者閥座密封圈的平面成一角度走向的關閉行程的末端部分上調節。至少一在關閉行程的末端部分上引導閥瓣(7)的導向元件(15，16)布置在壁(1)上，該導向元件與布置在閥瓣(7)上的導向元件(17，18)共同起作用，其中閥瓣(7)在關閉行程的末端部分上的導向通過與密封面(10)的平面(45)或者閥座的密封圈的平面(45)構成一角度的導向面(19，20，21，22)實現，所述導向面至少布置在一閥瓣(7)的導向元件(17，18)上或者布置在一布置在壁(1)上的導向元件(15，16)上。
文檔編號F16K3/18GK101889162SQ200880119187
公開日2010年11月17日 申請日期2008年12月5日 優先權日2007年12月6日
發明者B·杜利 申請人:Vat控股公司