專利名稱：組合式真空泵和加載互鎖裝置組件的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種改進的用于半導體加工的加載互鎖裝置(load-lock)和真空泵組件。
背景技術：
在加工半導體晶片時，必須向半導體晶片上沉積材料或從半導體晶片上除去材料。半導體晶片上的材料轉移是用于加強半導體晶片的電性能。為向半導體晶片上轉移材料或從半導體晶片上將材料移走，采用了各種不同的氣體來沖擊半導體晶片。例如，為從半導體晶片上除去污染物，可用一種處理氣體接觸半導體晶片，并使該氣體在晶片上與污染物反應。但是，在進行這種處理前，必須將半導體晶片放置在一低壓環境中。因此，采用了真空處理系統將半導體晶片移到低壓環境中。
真空處理系統采用了一加載互鎖室和一些真空泵。例如，半導體晶片被置于加載互鎖室內，并使用真空泵將加載互鎖室抽為基本真空狀態。在抽空之后，該半導體晶片被放置到一低壓環境中，并將被進一步地加工處理。
可用一干式真空泵將加載互鎖室抽至一低壓。通常，將加載互鎖室內部抽至一低壓狀態的成本涉及五個參數(1)需要抽出的氣體量；(2)加載互鎖室的內表面面積；(3)加載互鎖室內所需的低壓；(4)加載互鎖室和干式真空泵之間的管系內的阻力；和(5)在加載互鎖室內提供低壓所需的時間。
另一成本涉及到每一加載互鎖室一次能處理的晶片數量。因此，為減少將加載互鎖室內部抽至一低壓的成本，有人增加了一次處理半導體晶片的數量。但是，為容納這些半導體晶片的增加數量，必須將加載互鎖室的尺寸加大。因此，這種“批”處理顯著地增加了需要抽取的氣體量和加載互鎖室的內表面面積。
因此，存在降低將加載互鎖室抽至一低壓的成本但不必采取“批”處理的需求。通過減少或消除加載互鎖室和干式真空泵之間的管系內的阻力，可減少抽空成本，而又不必采用“批”處理方式。
發明內容
一種加載互鎖裝置和干式真空泵組件，該組件包括一具有外殼的加載互鎖裝置，至少一個設置在加載互鎖外殼內的加載互鎖室，設置在至少一個加載互鎖室上的至少一個加載口和至少一個卸載口，和一配合系統，其中該配合系統包括一法蘭狀圓柱體；和一具有一根軸的干式真空泵，一牢固地附著在該軸上的轉子，和一主體部分(body portion)，所述軸延伸穿過該主體部分，其中主體部分與法蘭狀圓柱體相連。
還提供了一種加載互鎖裝置和干式真空泵組件，該組件包括一具有加載互鎖外殼的加載互鎖裝置，該加載互鎖外殼包括一配合系統，其中該配合系統包括一法蘭狀圓柱體，和一相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體；一與該配合系統整體連接的干式真空泵，該干式真空泵包括一根軸，一轉子，一從轉子向外延伸的第一同心圓柱體和第二同心圓柱體，其中第一和第二同心圓柱體，法蘭狀圓柱體，和相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體都相對于該軸軸向分布；和具有螺旋形結構、有選擇性地設置在第一和第二同心圓柱體上、法蘭狀圓柱體和相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體上的凸緣，，其中第一和第二同心圓柱體相對于法蘭狀圓柱體和與法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體旋轉，以形成分子拖曳壓縮級。
圖1是干式真空泵和加載互鎖室的組合裝置的透視圖。
圖2是干式真空泵和加載互鎖室的整體連接截面圖。
具體實施例方式
參見圖1和2，一組合式真空泵和加載互鎖裝置組件通常由附圖標記10表示。組件10由一干式真空泵12和一加載互鎖裝置14整體連接在一起構成。加載互鎖裝置14包括一帶有配合系統16的加載互鎖外殼15，該配合系統可整體連接干式真空泵12。干式真空泵12和加載互鎖裝置14之間的連接消除了與通常在兩者之間延伸的輸送管系相關的阻力。一分子拖曳(例如一霍爾威克)級18由與干式真空泵12共享的配合系統16的部件在其端部形成。分子拖曳級(molecular drag stage)18和形成于干式真空泵12內的再生級(regenerativestage)19一起可使組件10在加載互鎖裝置14內產生一真空。
加載互鎖外殼15可包括第一加載互鎖室21和第二加載互鎖室22。第一和第二加載互鎖室21和22提供一產生上述真空的區域。第一和第二加載互鎖室21和22是真空密閉的，能在高壓和低壓之間循環。通常，高壓接近于大氣壓力，低壓接近于真空。因此，半導體晶片(未示出)能在高壓時進入第一和第二加載互鎖室21和22，且能在低壓狀況下退出腔內。
為形成第一和第二加載互鎖室21和22，加載互鎖外殼15被分為兩部分。例如，如圖2所示，壁23將第一加載互鎖室21和第二加載互鎖室22分開。而且，正如下面將要討論的，第一和第二加載互鎖室21和22分別連接在干式真空泵12上，且可分別抽真空。
在操作過程中，半導體晶片被放到晶片座(未示出)上，和從晶片座上取下，該晶片座設置在第一和第二加載互鎖室21和22內。半導體晶片分別通過第一加載口25和第二加載口26插入到第一和第二加載互鎖室21和22內。第一和第二加載口25和26分別設置有狹縫閥(slit valves)31和32。狹縫閥31和32分別包括門33和34，該門能由致動器(未示出)驅動相應于第一和第二加載口25和26打開或關閉。事實上，致動器能施力以使門33和34與第一和第二加載口25和26密封配合。
這種密封配合能得以加強，以提供門33和34與第一和第二加載口25和26之間的真空密封。例如，門33和34可設置有支持表面(未示出)，且第一和第二加載口25和26可設置密封面，例如O形環(未示出)。當狹縫閥31和32關閉時，這些支持表面和密封面能防止大氣進入第一和第二加載互鎖室21和22中。
加載互鎖外殼15還可設置有第一卸載口35和第二卸載口36。正如第一和第二加載口25和26一樣，第一和第二卸載口35和36設置了帶有門43和44的狹縫閥41和42。門43和44能以如上所述的方式與第一和第二卸載口35和36密封配合。與狹縫閥31和32一樣，當狹縫閥41和42關閉時，能防止大氣進入第一和第二加載互鎖室21和22中。
當狹縫閥31、32和41、42關閉時，借此形成的真空密封將第一和第二加載互鎖室21和22與大氣隔絕，且可用干式真空泵12將殘留在處理室內的空氣抽走。也就是說，狹縫閥31、32和41、42的關閉可使第一和第二加載互鎖室21和22抽為如前所述的低壓。
為“處理”半導體晶片，可首先打開第一和第二加載口25和26，并用一機械手(未示出)將半導體晶片放入第一和第二加載互鎖室21和22內。之后將狹縫閥31和32關閉，且狹縫閥31、32和41、42在抽真空的過程中保持關閉。在第一和第二加載互鎖室21和22抽至一低壓后，將狹縫閥41和42打開，便可用另一機械手(未示出)將半導體晶片從第一和第二加載互鎖室21和22中取出。
如前所述，干式真空泵12借助于配合系統16整體連接在加載互鎖外殼15上。也就是說，加載互鎖外殼15能整體接受干式真空泵12，而不需要傳送管系。例如，配合系統16可包括一法蘭狀的圓柱體50，該圓柱體構造為容納干式真空泵12的一部分。更明確地說，干式真空泵12包括一帶有主體部分53的泵殼52，該主體部分能直接附著到法蘭狀的圓柱體50上。
此外，如前所述，配合系統16包括與干式真空泵12共用的用以形成分子拖曳級18的部件。而且，配合系統16設置有閥通道，該通道用以在第一和第二加載互鎖室21和22與干式真空泵之間形成流體連通。
配合系統16局部形成于加載互鎖外殼15的底壁56之外。例如，底壁56包括一偏置壁部(offset wall portion)58和一圓柱壁部59。圓柱壁部59將偏置壁部58和底部56剩余的部分連接在一起。作為配合系統16的部分，偏置壁部58和圓柱壁部59有效地“分割”了第一和第二加載互鎖室21和22的部分。圓柱壁部59徑向向內延伸的部分是一支撐板60，和一連接板61。法蘭狀圓柱體50由支撐板60相對于加載互鎖外殼15而支撐。而且，連接板61將一同心圓柱體62置于法蘭狀圓柱體50相鄰處。同心圓柱體62與法蘭狀圓柱體50共軸，且正如下面將要討論的一樣，法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62與干式真空泵12共用。
第一通道63和第二通道64設置穿過偏置壁部58。第一和第二通道63和64提供第一和第二加載互鎖室21和22與干式真空泵12之間的流體連通，且第一閥組件65和第二閥組件66分別設置在第一和第二通道63和64內。第一閥組件65和第二閥組件66能有選擇地提供干式真空泵12與第一和第二加載互鎖室21和22之間的流體連通。第一和第二通道63和64各包括一閥座67，且第一和第二閥組件65和66各包括一穿過支撐板60的閥桿68，且連接到一致動器(未示出)上。閥桿68支撐一閥塞69，該閥塞設置用以與閥座67接合。致動器往復地使閥塞69和閥座67嚙合和分開。因此，當第一和第二閥組件65和66兩者之一打開時，便可分別對第一和第二加載互鎖室21和22進行抽空。事實上，配合系統16和干式真空泵12之間的合作可用于抽取第一和第二加載互鎖室21和22。
如上所述，干式真空泵12包括泵殼52。安裝在泵殼52內的是一軸76。軸76能繞其縱向軸線旋轉，且由一電動馬達(未示出)驅動。
而且，如前所述，再生級19形成于干式真空泵12內。例如，一轉子80牢固地連接在軸76上。轉子80為圓盤形，且包括一上表面81和一下表面82。再生級19形成在轉子80的下表面82和泵殼52的主體部分53之間。
在一個實施例中，下表面82包括六個繞軸76對稱設置的凸起環(raisedrings)84、45、86、87、88、89。每個凸起環84、85、86、87、88、89上都設置有一系列等距分布的葉片B。每個葉片B都呈輕微的弧形，其凹面指向轉子80的運動方向。而且，每個凸起環84、85、86、87、88、89上設置有一百個葉片B，以形成六個同心環形陣列。每個凸起環84、85、86、87、88、89的寬度和各個環上葉片B的相應尺寸從最外側的凸起環89向最內側的凸起環84逐漸遞減。
主體部分53形成為再生級19的定子，且包括六個同心環形通道94、95、96、97、98、99。通道94、95、96、97、98、99形成于主體部分53內，且每一個都成形為具有上部102和下部103的鑰匙孔形狀。通道94、95、96、97、98、99的上部102的尺寸適合用以容納凸起環84、85、86、87、88、89，下部103的尺寸則適合用以容納相關凸起環上的葉片B。
在一個實施例中，葉片B的橫截面積如圖2所示，大約是相應通道94、95、96、97、98、99的最大橫截面積的1/6。但是，各個通道94、95、96、97、98、99還沿其長度部分具有一縮減的橫截面積。這個縮減的橫截面積基本上和相應的容納于其中的葉片B具有相同的尺寸。這個縮減的橫截面積形成了“分離裝置(stripper)”，該分離裝置推動經過通道的氣體，使之通過孔(未示出)偏轉進入相鄰的內通道。
如上所述，分子拖曳級18由被配合系統16與干式真空泵12共用的部件形成。更明確地說，法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62與干式真空泵12共用。法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62相對于軸76而軸向定向，且形成為分子拖曳級18的定子。
法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62與從轉子80向外延伸的第一同心圓柱107和第二同心圓柱108相互關聯。與法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62一樣，第一和第二同心圓柱體107和108相對于軸76軸向定向。法蘭狀圓柱體50、同心圓柱體62、第一和第二同心圓柱體107和108繞軸76的軸線對稱安裝設置。而且，第一和第二同心圓柱體107和108與法蘭狀圓柱體50和同心圓柱體62相互交插，借此在相鄰的圓柱體之間形成均勻的間隙。因此，在第一同心圓柱體107和同心圓柱體62之間形成了一均勻間隙，在第二同心圓柱體108和同心圓柱體62之間形成了另一均勻間隙，在第二同心圓柱體108和法蘭狀圓柱體50之間又形成了另一均勻的間隙。這些均勻的間隙在尺寸上從最內側的圓柱體(第一同心圓柱體107)向最外側的圓柱體(法蘭狀圓柱體50)逐漸遞減。
位于相鄰圓柱體之間的間隙內的是不同的帶有螺紋的直立凸緣。這些不同的凸緣具有基本上穿過它們各自的間隙延伸的螺旋狀結構。這些凸緣能附著到任一個相鄰的圓柱體上。但是，在某個實施例中，如圖2所示，第一凸緣110附著在同心圓柱體62的內表面上，第二凸緣111附著在同心圓柱體62的外表面上，第三凸緣112附著在法蘭狀圓柱體50的內表面上。雖然在圖中未示出，但是轉子80和第一和第二同心圓柱體107和108能有效地制作為一個整體件，例如，該整體件用鋁或鋁合金制成。
在組件10的運行過程中，存在于第一和第二加載互鎖室21和22內的氣體借助于轉子80的高速旋轉通過第一和第二通道63和64被抽到一空間114中，該空間形成在配合系統16和干式真空泵12之間。之后，氣體被抽入到分子拖曳級18內。氣體進入第一同心圓柱體107和同心圓柱體62之間的一入口115。然后氣體向下經過第一凸緣110，然后向上經過第二凸緣111，然后再向下經過第三凸緣112。然后氣體穿過將分子拖曳級18連接到再生級19上的孔(未示出)。在再生級19內，氣體進入通道99，從那里起再由各個分離裝置的作用經過通道98、97、96、95、94(按此次序)，直到經由主體部分53內的孔118和119從泵中排出為止。因此，氣流基本上在分子拖曳級18內是徑向向外的，而在再生級19內則是徑向向內的，由此便形成了一個平衡的、有效的組件10。
理想地，電動馬達在組件10的運行過程中連續運轉。這種連續運轉有利于增加電動馬達的壽命。為使電動馬達能以這種方式運轉，而不是相應于第一和第二加載互鎖室21和22的同寸抽空而來回循環，可對加載互鎖室分別進行抽空。
出于舉例說明的目的，可在第二加載互鎖室22進行卸載或加載時對第一加載互鎖室21進行抽空，或者可在第一加載互鎖室21進行卸載或加載時對第二加載互鎖室22進行抽空。
例如，當第一加載互鎖室21正在進行抽空時，第一閥組件65是打開的，來自于第一加載互鎖室21的氣體通過第一通道63抽入分子拖曳級18和再生級19內，以通過孔118和119排出。同時，第二閥組件66是關閉的(禁止和干式真空泵12連通)，借此可允許狹縫閥42打開，以將半導體晶片在低壓下通過第二卸載口36移出。之后，關閉狹縫閥42，并打開狹縫閥32以在高壓下通過第二加載口26將半導體晶片插入第二加載互鎖室22內。加載完成后，就準備對第二加載互鎖室22進行抽空。
而且，當第二加載互鎖室22正在進行抽空時，第二閥組件66是打開的，來自于第二加載互鎖室22的氣體通過第二通道64抽入分子拖曳級18和再生級19內，以通過孔118和119排出。同時，第一閥組件65是關閉的(禁止和干式真空泵12連通)，借此可允許狹縫閥41打開，以將半導體晶片在低壓下通過第一卸載口35移出。之后，關閉狹縫閥41，并打開狹縫閥31以在高壓下通過第一加載口25將半導體晶片插入第一加載互鎖室21內。加載完成后，就準備對第一加載互鎖室21進行抽空，并重復上述循環。
正如可以理解的一樣，通過使用配合系統16獲得的加載互鎖裝置14和干式真空泵12的鄰近關系消除了它們兩者之間的任何阻力。象這樣，使用配合系統16可使得用以在第一和第二加載互鎖室21和22內提供低壓的時間得以減少。這種時間的節省避免了半導體晶片“批”處理的必要性，同時還能減少處理的成本。
應當理解，此處描述的實施例僅僅只是示例性的，本領域的技術人員可以在不脫離本發明的精神和范圍下做一些變化和改進。所有這些變化和改進都包括于如上所述的本發明的范圍內。應當理解，前面所述的實施例都只是可供選擇的，而不能進行組合。
權利要求
1.一種加載互鎖裝置和干式真空泵組件，包括一具有加載互鎖外殼的加載互鎖裝置，所述加載互鎖外殼包括一配合系統，其中，所述配合系統包括一法蘭狀圓柱體和一相對于所述法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體，一和所述配合系統整體連接的干式真空泵，所述干式真空泵包括一軸、一轉子、從所述轉子向外延伸的第一同心圓柱體和第二同心圓柱體，其中，所述第一和第二同心圓柱體、所述法蘭狀圓柱體和所述相對于所述法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體相對于所述軸軸向分布，和具有螺旋形結構的多個凸緣，所述凸緣可有選擇地設置在所述第一和第二同心圓柱體、所述法蘭狀圓柱體和所述相對于所述法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體上，其中，所述第一和第二同心圓柱體相對于所述法蘭狀圓柱體和相對于法蘭狀圓柱體同心設置的所述圓柱體旋轉，以便形成分子拖曳壓縮級。
2.如權利要求1所述的組件，其特征在于，所述干式真空泵包括一具有主體部分的泵殼，所述主體部分包括多個同心環形通道，其中，所述轉子包括一上表面和一下表面和設置在所述下表面上的多個凸起環，所述多個凸起環繞所述軸對稱分布，并且所述多個同心環形通道容納所述多個凸起環，以便形成一再生壓縮級。
3.如權利要求2所述的組件，其特征在于，所述分子拖曳壓縮級連接至所述再生壓縮級，并且所述分子拖曳壓縮級和所述再生壓縮級一起用于消除位于所述加載互鎖裝置內的氣體。
4.如權利要求3所述的組件，其特征在于，所述凸緣設置在所述法蘭狀圓柱體的內表面和相對于法蘭狀圓柱體同心設置的所述圓柱體的內外表面上。
5.一種加載互鎖裝置和干式真空泵組件，包括一加載互鎖裝置，所述加載互鎖裝置具有一外殼、設置在所述加載互鎖外殼內的至少一個加載互鎖室、設置在所述至少一個加載互鎖室上的至少一個加載口和至少一個卸載口以及一配合系統，其中，所述配合系統包括一法蘭狀圓柱體；和一干式真空泵，所述干式真空泵具有一軸、一牢固地附著在所述軸上的轉子和一主體部分，所述軸穿過所述主體部分延伸，其中，所述主體部分附著在所述法蘭狀圓柱體上。
6.如權利要求5所述的組件，其特征在于，所述加載互鎖外殼包括第一加載互鎖室和第二加載互鎖室，所述干式真空泵分別抽空所述第一加載互鎖室和第二加載互鎖室。
7.如權利要求6所述的組件，其特征在于，所述第一加載互鎖室包括第一加載口和第一卸載口，并且所述第二加載互鎖室包括第二加載口和第二卸載口。
8.如權利要求7所述的組件，其特征在于，所述第一和第二加載口及所述第一和第二卸載口分別包括防止大氣進入所述第一和第二加載互鎖室內的狹縫閥。
9.如權利要求5所述的組件，其特征在于，還包括從所述轉子向外延伸的第一同心圓柱體和第二同心圓柱體，其中，所述法蘭狀圓柱體環繞所述第一圓柱體和第二圓柱體，并且一連接在所述法蘭狀圓柱體上的同心圓柱體位于所述第一同心圓柱體和第二同心圓柱體之間。
10.如權利要求9所述的組件，其特征在于，還包括形成在所述第一同心圓柱體與第二同心圓柱體之間、所述第二同心圓柱體與所述同心圓柱體之間、以及所述第二同心圓柱體與所述法蘭狀圓柱體之間的多個大致均勻的間隙，其中，具有多個螺旋形結構的凸緣設置在所述大致均勻的間隙內。
11.如權利要求10所述的組件，其特征在于，所述凸緣中的第一凸緣附著在所述同心圓柱體的內表面上，所述凸緣中的第二凸緣附著在所述同心圓柱體的外表面上，并且所述凸緣中的第三凸緣附著在所述法蘭狀圓柱體的內表面上。
12.如權利要求5所述的組件，其特征在于，還包括一分子拖曳壓縮級，所述分子拖曳壓縮級包括所述法蘭狀圓柱體和一附著在所述法蘭狀圓柱體上且與第一同心圓柱體和第二同心圓柱體相互交插的同心圓柱體，和有選擇地設置在所述第一同心圓柱體、所述第二同心圓柱體、所述法蘭狀圓柱體和連接在所述法蘭狀圓柱體上的所述同心圓柱體上的多個凸緣，其中，所述第一同心圓柱體和所述第二同心圓柱體從所述轉子向外延伸，所述第一同心圓柱體和所述第二同心圓柱體相對于所述法蘭狀圓柱體和連接在所述法蘭狀圓柱體上的所述同心圓柱體旋轉。
13.如權利要求12所述的組件，其特征在于，還包括一形成在所述轉子和所述主體部分之間的再生壓縮級，其中，多個同心環形通道形成于所述主體部分內，并且所述轉子具有一上表面和一下表面，其中，多個不同的凸起環設置在所述下表面上，并且一系列間隔分布的葉片安裝在每個不同的凸起環上，這些不同的凸起環和所述一系列安裝在各個不同的凸起環上的間隔分布的葉片裝配在所述同心環形通道內。
14.如權利要求5所述的組件，其特征在于，還包括一形成在所述轉子和主體部分之間的再生壓縮級，其中，多個同心環形通道形成于所述主體部分內，其中，所述轉子具有一上表面和一下表面，其中，多個不同的凸起環設置在所述下表面上，一系列間隔分布的葉片安裝在每個所述不同的凸起環上，這些不同的凸起環和所述一系列安裝在各個不同的凸起環上的間隔分布的葉片裝配在所述同心環形通道內。
15.如權利要求5所述的組件，其特征在于，所述干式真空泵的主體部分直接附著在所述法蘭狀圓柱體上，以便將所述加載互鎖裝置與干式真空泵整體連接。
16.如權利要求5所述的組件，其特征在于，所述加載互鎖外殼包括一底壁，且設有至少一個通道穿過所述底壁，以使所述至少一個加載互鎖室與所述干式真空泵之間流體連通。
17.如權利要求16所述的組件，其特征在于，所述加載互鎖外殼包括第一加載互鎖室、第二加載互鎖室、穿過所述底壁以使所述干式真空泵與第一加載互鎖室之間連通的第一通道和穿過所述底壁以使所述干式真空泵與第二加載互鎖室之間連通的第二通道。
18.如權利要求17所述的組件，其特征在于，還包括設置在每一個所述第一通道和第二通道內的閥，所述閥有選擇地在所述干式真空泵與第一加載互鎖室和第二加載互鎖室之間提供連通。
19.如權利要求5所述的組件，其特征在于，還包括一形成在所述干式真空泵內的再生壓縮級，和一由被所述加載互鎖裝置與所述干式真空泵共用的部件所形成的分子拖曳壓縮級。
全文摘要
一種加載互鎖裝置和干式真空泵組件，包括一具有加載互鎖外殼的加載互鎖裝置，該加載互鎖外殼包括一配合系統，該配合系統具有一法蘭狀圓柱體和一相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體；一干式真空泵，該干式真空泵包括一根軸，一轉子，一從轉子向外延伸的第一同心圓柱體和第二同心圓柱體，且與配合系統整體連接，第一和第二干式真空泵同心圓柱體，法蘭狀圓柱體，以及相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體都相對于該軸軸向分布；和一分子拖曳壓縮級，該壓縮級由具有螺旋形結構的有選擇地設置在第一和第二同心圓柱體、法蘭狀圓柱體、和相對于該法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體上的凸緣形成。第一和第二同心圓柱體相對于法蘭狀圓柱體和相對于法蘭狀圓柱體同心設置的圓柱體旋轉。
文檔編號F04D23/00GK1696512SQ200510076250
公開日2005年11月16日 申請日期2005年4月5日 優先權日2004年4月9日
發明者G·亨特利, N·G·貝勒尼 申請人:波克股份有限公司