專利名稱：高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構。
背景技術：
高層建筑及地下室埋深較大的電梯井坑一般比地下室底板深2.0m左右，而對于地下水位較高，且基底層地下水滲透系數很高時，對于電梯井坑部位的降水往往會產生較大的施工難度和增加不少的費用。
發明內容本實用新型的目的在于提供一種結構合理，施工方便，工作效果好的高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構。本實用新型的技術解決方案是:一種高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構，其特征是:包括直壁式基礎，直壁式基礎的基坑底部設置基坑水下混凝土層，基坑水下混凝土層的中間部位上表面設置電梯井坑墊層，在基坑側壁與電梯井坑墊層之間設置55°的回填坡砂石坡角，在回填坡砂石坡角表面設置素砼回填層。本實用新型結構合理，施工方便，施工費用底，工作效果好。
以下結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
圖1是本實用新型一個實施例的結構示意圖。
具體實施方式
一種高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構，包括直壁式基礎，直壁式基礎的基坑底部設置基坑水下混凝土層1，基坑水下混凝土層的中間部位上表面設置電梯井坑墊層2，在基坑側壁5與電梯井坑墊層之間設置55°的回填坡砂石坡角3，在回填坡砂石坡角表面設置素砼回填層4。
權利要求1.一種高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構，其特征是:包括直壁式基礎，直壁式基礎的基坑底部設置基坑水下混凝土層，基坑水下混凝土層的中間部位上表面設置電梯井坑墊層，在基坑側壁與電梯井坑墊層之間設置55°的回填坡砂石坡角，在回填坡砂石坡角 表面設置素砼回填層。
專利摘要本實用新型公開了一種高滲透層水位下電梯基坑沉井內電梯井坡角回填結構，包括直壁式基礎，直壁式基礎的基坑底部設置基坑水下混凝土層，基坑水下混凝土層的中間部位上表面設置電梯井坑墊層，在基坑側壁與電梯井坑墊層之間設置55o的回填坡砂石坡角，在回填坡砂石坡角表面設置素砼回填層。本實用新型結構合理，施工方便，施工費用底，工作效果好。
文檔編號E02D17/18GK203160257SQ201320184258
公開日2013年8月28日 申請日期2013年4月14日 優先權日2013年4月14日
發明者邵曉鋒, 包華, 邵海榮, 江海燕, 溫建成, 邵亞新, 成軍 申請人:江蘇通州四建集團有限公司, 南通大學