一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，包括金屬基體、預鍍銅層、中間鍍銅層、光亮鍍銅層、鍍鎳層、高耐蝕性三價鉻白鉻鍍層、三價鉻黑鉻鍍層，其中所述金屬基體為鋼鐵基體和鋅合金基體。本實用新型提供的高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，按照GB/T10125-1997《人造氣氛腐蝕試驗鹽霧試驗》進行中性鹽霧試驗96h，鍍件表面無白色腐蝕物生成，耐鹽霧性能比目前的三價鉻黑鉻鍍層高一倍。
【專利說明】
-種高耐腐蝕性H價銘電媳黑銘的復合媳層結構
技術領域
[0001 ]本實用新型設及電鍛領域，具體設及高耐蝕性復合鍛層結構。
【背景技術】
[0002] =價銘電鍛黑銘用于取代六價銘電鍛黑銘已經獲得了廣泛的應用并且取得 了良好的環境效益和社會效益。=價銘黑銘鍛層具有較高的耐磨性和優美的外觀，在電子 和五金電鍛領域具有廣泛的應用前景。
[0003] 因鍛銘過程中會產生氨氣，銘層釋放應力，=價銘黑銘鍛層中存在孔隙，且含有 硫、鉆和鐵等元素，受上述因素的影響，其耐蝕性較低，達不到高端產品的技術要求，因此， 對=價銘電鍛黑銘工藝W及鍛層結構還有待于進一步的研究和改善。
[0004] 目前，=價銘電鍛黑銘的鍛層結構從底層到外層通常為，氯化鍛銅層、焦憐酸鹽鍛 銅層、光亮鍛銅層、半光亮鍛儀層、光亮鍛儀層、=價銘黑銘鍛層。進行中性鹽霧試驗發現， 鹽霧試驗48h W后黑銘鍛層表面一般會生成白色腐蝕物，將黑銘鍛層去除后發現，光亮鍛儀 層已受到嚴重腐蝕。鍛儀層的耐蝕性比鍛銘層低得多，對未經保護處理的鍛儀層進行中性 鹽霧試驗24h，其表面便會被腐蝕。在運種鍛儀層和=價銘鍛層的復合鍛層結構中，一般情 況下腐蝕物通過鍛銘層孔隙首先腐蝕鍛儀層。
[0005] 其中參考文獻：[1]郭崇武，賴矣議.硫酸鹽體系=價銘常溫電鍛黑銘工藝[J].電 鍛與涂飾，2012,31(7) :9-12。[2]郭崇武，賴矣議.一種硫酸鹽S價銘電鍛黑銘工藝的應用 [J].電鍛與精飾，2013,35(5) :9-11。[3]郭崇武.硫酸鹽S價銘滾鍛黑銘工藝研究[J].電鍛 與涂飾，2014,33(13) :565-568。 【實用新型內容】
[0006] 本實用新型提供一種高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，W提高=價銘 黑銘鍛層的耐蝕性。
[0007] 為實現上述目的，本實用新型采用如下技術方案：
[000引一種高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，包括金屬基體和電鍛層，所述 電鍛層結構包括:預鍛銅層、中間鍛銅層、光亮鍛銅層、鍛儀層、高耐蝕性=價銘白銘鍛層、 =價銘黑銘鍛層，并依次逐層電鍛于所述金屬基體表面上。
[0009] 進一步地，所述金屬基體為鋼鐵基體或鋒合金基體中的一種。
[0010] 進一步地，所述預鍛銅層為采用氯化鍛銅工藝制備的氯化鍛銅層，厚度為1~3皿。
[0011] 進一步地，所述中間鍛銅層為采用焦憐酸鹽鍛銅工藝制備的焦憐酸鹽鍛銅層，厚 度為3~化m。
[0012] 進一步地，所述光亮鍛銅層采用酸銅電鍛工藝制備，厚度為7~15皿。
[0013] 進一步地，所述鍛儀層采用光亮鍛儀工藝制備，厚度為7~15皿。
[0014] 進一步地，所述高耐蝕性=價銘白銘鍛層采用氯化物=價銘電鍛白銘工藝制備， 厚度為0.2~0.5皿。
[0015] 進一步地，所述=價銘黑銘鍛層采用硫酸鹽=價銘電鍛黑銘工藝制備，厚度為0.1 ~0 ?化HId
[0016] 本實用新型提供的高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，在=價銘黑銘鍛 層下面增加一層高耐蝕性=價銘白銘鍛層，有效解決了=價銘黑銘鍛層耐蝕性較低的問 題，能大幅度提高=價銘黑銘鍛件的使用壽命;每個結構層的鍛層厚度適中，能符合薄涂層 時代趨勢要求。
【附圖說明】
[0017] 此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，構成本申請的一部分， 并不構成對本實用新型的不當限定，在附圖中：
[0018] 圖1是本實用新型金屬基體為鋼鐵基體的高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層 結構的示意圖；
[0019] 圖2是本實用新型金屬基體為鋒合金基體的高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛 層結構的示意圖。
【具體實施方式】
[0020] 下面將結合附圖W及具體實施例來詳細說明本實用新型，在此W本實用新型的示 意性實施例及說明用來解釋本實用新型，但并不作為對本實用新型的限定。
[0021] 實施例1:
[0022] 如圖1所示的高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，包括鋼鐵基體1，在鋼 鐵基體1上依次電鍛:預鍛銅層2、中間鍛銅層3、光亮鍛銅層4、鍛儀層5、高耐蝕性=價銘白 銘鍛層6、=價銘黑銘鍛層7。
[0023] 所述預鍛銅層2采用業內常用的氯化鍛銅工藝制備，厚度為1~3皿。
[0024] 所述中間鍛銅層3采用業內常用的焦憐酸鹽鍛銅工藝制備，厚度為3~6WI1。
[0025] 所述光亮鍛銅層4采用業內常用的酸銅電鍛工藝制備，厚度為7~15皿。
[0026] 所述鍛儀層5采用業內常用的光亮鍛儀工藝制備，厚度為7~15皿。
[0027] 所述高耐蝕性S價銘白銘鍛層6采用新型氯化物S價銘電鍛白銘工藝制備，如超 邦化工的化ich-6561氯化物S價銘鍛銘工藝或化ich-6771氯化物S價銘鍛銘工藝，鍛液的 主要成分有氯化銘、甲酸錠，光亮劑、濕潤劑、導電鹽W及稀±添加劑，所制得白銘鍛層6的 厚度為0.2~0.5皿。
[0028] 所述=價銘黑銘鍛層7采用硫酸鹽=價銘電鍛黑銘工藝制備，如超邦化工的 化ich-7677硫酸鹽S價銘電鍛黑銘工藝，鍛液的主要成分有硫酸銘、絡合劑、光亮劑和發黑 劑，所制得黑銘鍛層7的厚度為0.1~0.2皿。
[0029] 本實施例具體電鍛操作過程包括：
[0030] 步驟1、前處理:對鋼鐵零部件依次進行"堿性化學除油^水洗^陰極電解除油^ 水洗^酸洗^水洗^堿性陽極電解除油^水洗^活化^水洗"的工序處理。
[0031 ]步驟2、預鍛銅層2:鋼鐵零部件進行前處理后，進行氯化鍛銅，獲得預鍛銅層2。
[0032] 步驟3、中間鍛銅層3:在預鍛銅層2的基礎上進行焦憐酸鹽鍛銅獲得中間鍛銅層3。
[0033] 步驟4、光亮鍛銅層4:在中間鍛銅層3的基礎上電鍛酸銅獲得光亮鍛銅層4。
[0034] 步驟5、鍛儀層5:在光亮鍛銅層4的基礎上鍛光亮儀獲得鍛儀層5。
[0035] 步驟6、高耐蝕性=價銘白銘鍛層6:在鍛儀層5的基礎上制備高耐蝕性=價銘白銘 鍛層6。
[0036] 步驟7、=價銘黑銘鍛層7:在高耐蝕性=價銘白銘鍛層6的基礎上制備=價銘黑鍛 層7。
[0037] 實施例2:
[0038] 如圖2所示的高耐腐蝕性=價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，包括金屬基體la,所述 金屬基體為鋒合金，在鋒合金基體上依次電鍛:預鍛銅層2曰、中間鍛銅層3曰、光亮鍛銅層4曰、 鍛儀層5a、高耐蝕性=價銘白銘鍛層6a、=價銘黑銘鍛層7a。
[0039] 所述預鍛銅層2a采用業內常用的氯化鍛銅工藝制備，厚度為1~3皿。
[0040] 所述中間鍛銅層3a采用業內常用的焦憐酸鹽鍛銅工藝制備，厚度為3~6WI1。
[0041] 所述光亮鍛銅層4a采用業內常用的酸銅電鍛工藝制備，厚度為7~15WI1。
[0042] 所述鍛儀層5a采用業內常用的光亮鍛儀工藝制備，厚度為7~15皿。
[0043] 所述高耐蝕性=價銘白銘鍛層6a采用如實施例1所述的氯化物=價銘鍛銘工藝制 備，所制得白銘鍛層6a的厚度為0.2~0.5皿。
[0044] 所述=價銘黑銘鍛層7a采用如實施例1所述的硫酸鹽=價銘電鍛黑銘工藝制備， 所制得黑銘鍛層7a的厚度為0.1~0.2皿。
[0045] 本實施例具體電鍛操作過程包括：
[0046] 步驟1、前處理:對鋒合金零部件進行"化學除油^水洗^浸蝕^水洗"的工序。
[0047] 步驟2、預鍛銅層2a:鋒合金零部件進行前處理后，進行氯化鍛銅獲得預鍛銅層2曰。 [004引步驟3、中間鍛銅層3a:在預鍛銅層2a的基礎上進行焦憐酸鹽鍛銅獲得中間鍛銅層 3a。
[0049] 步驟4、光亮鍛銅層4a:在中間鍛銅層3a的基礎上電鍛酸銅獲得光亮鍛銅層4曰。
[0050] 步驟5、鍛儀層5a:在光亮鍛銅層4a的基礎上鍛光亮儀獲得鍛儀層5曰。
[0051] 步驟6、高耐蝕性=價銘白銘鍛層6a:在鍛儀層5a的基礎上制備高耐蝕性=價銘白 銘鍛層6a。
[0052] 步驟7、S價銘黑銘鍛層7a:在高耐蝕性S價銘白銘鍛層6a的基礎上制備S價銘黑 鍛層7曰。
[0053] 上述實施例中，直接在光亮鍛銅層上鍛光亮儀，無需制備半光亮鍛儀層;在光亮鍛 儀層和=價銘黑鍛層之間鍛有=價銘白銘鍛層，該鍛層無裂紋和孔隙，能有效防護鍛儀層 被腐蝕。 「0化41
[0055] 本實用新型提供的高耐腐蝕性S價銘電鍛黑銘的復合鍛層結構，按照GB/T10125- 199^人造氣氛腐蝕試驗鹽霧試驗》進行中性鹽霧試驗96h，比目前行業要求的中性鹽霧試 驗4她高一倍，試驗結果表明鍛件表面均無腐蝕物生成。
[0056] W上對本實用新型實施例所提供的技術方案進行了詳細介紹，本文中應用了具體 個例對本實用新型實施例的原理W及實施方式進行了闡述，W上實施例的說明只適用于幫 助理解本實用新型實施例的原理；同時，對于本領域的一般技術人員，依據本實用新型實施 例，在【具體實施方式】W及應用范圍上均會有改變之處，綜上所述，本說明書內容不應理解為 對本實用新型的限制。
【主權項】
1. 一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于:包括金屬基體和電 鍍層，所述電鍍層結構包括:預鍍銅層、中間鍍銅層、光亮鍍銅層、鍍鎳層、高耐蝕性三價鉻 白鉻鍍層、三價鉻黑鉻鍍層，并依次逐層電鍍于所述金屬基體表面上。2. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述金屬基體為鋼鐵基體或鋅合金基體中的一種。3. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述預鍍銅層為采用氰化鍍銅工藝制備的氰化鍍銅層，厚度為1~3μπι。4. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述中間鍍銅層為采用焦磷酸鹽鍍銅工藝制備的焦磷酸鹽鍍銅層，厚度為3~6μπι。5. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述光亮鍍銅層采用酸銅電鍍工藝制備，厚度為7~15μπι。6. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述鍍鎳層采用光亮鍍鎳工藝制備，厚度為7~15μπι。7. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述高耐蝕性三價鉻白鉻鍍層采用氯化物三價鉻電鍍白鉻工藝制備，厚度為〇. 2~0.5μπι。8. 如權利要求1所述的一種高耐腐蝕性三價鉻電鍍黑鉻的復合鍍層結構，其特征在于： 所述三價鉻黑鉻鍍層采用硫酸鹽三價鉻電鍍黑鉻工藝制備，厚度為〇. 1~〇. 2μπι。
【文檔編號】C25D3/08GK205556812SQ201620125497
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年2月17日
【發明人】郭崇武, 賴奐汶
【申請人】廣州超邦化工有限公司