一種電解液連續凈化除雜系統的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型公開了一種電解液連續凈化除雜系統，屬于控制電解液的澄清并除去有害離子及懸浮陽極泥顆粒等無關污染物，保證陰極能合格析出的電解生產配套凈化除雜系統。
【背景技術】
[0002]鉍電解及其他有色金屬的電解均存在有害離子在電解液中的不斷富集，尤其是在含雜質較高的原料的電解過程中，特別是如鉍電解生產中類似的相關雜質離子(如鉛銻離子)在火法初步精煉中難以大量去除，由于該雜質離子標準電位低于電解主金屬電位的情況下，雜質離子將大量進入電解液，因此將導致電解液中雜質離子大量富集。同時長期生產使用后，將會出現電解液中散落陽極泥懸浮在電解液中，并影響電解效率和陰極質量。除去電解液中雜質離子及懸浮陽極泥一直是個棘手問題，許多公司采用活性炭定期過濾吸附雜質及其他污染物，或定期補充新電解液并更換老電解液，或抽取部分電解液進行單獨處理分離雜質，然后將處理后的電解液重新注入電解系統等辦法來解決此問題。上述辦法存在操作難度大，效率低下，并且成本高昂，不利于生產順行等缺點。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型要解決的技術問題是針對現有技術的上述缺點，提出了一種電解液連續凈化除雜系統，該系統具有設備配置簡單，維護方便，生產操作方便，效率高等特點。
[0004]為了解決上述問題，本實用新型的基本構思是:一種電解液連續凈化除雜系統，包括高位槽、低位槽和車間設置的若干電解槽；高位槽的最低部高于電解槽的最高工作液面，電解工作槽的最低部又高于低位槽的最高工作液面；高位槽的底側有排液管下接分流管連到若干電解槽的進液口，若干電解槽底部的排液口又通過會聚管連接低位槽的第一進液口 ；在低位槽的底側和高位槽的回液口之間有一返回管路連接，且于低位槽底側的返回管路段裝設有電解液循環栗；在高位槽底側的排液管上還設一支管，支管經水力控制閥連接除雜反應攪拌桶；從除雜反應攪拌桶底側的反應物轉移口接壓濾栗，通過壓力管道連接壓濾機；壓濾機下方的集液盤通過斜管通至中間儲槽，在中間儲槽上部設溢流口，由溢流管連通到低位槽內的第二進液口。
[0005]所述壓濾機下方的集液盤位置要高于中間儲槽的最高工作面；所述中間儲槽溢流口的高度也要高于低位槽9的最高工作面。
[0006]所述的水力控制閥由一個主閥和導管及導閥所組成，導閥隨介質上下游壓力的變化而產生動力動作，控制主閥閥瓣完全開啟或完全關閉或處于調節狀態。
[0007]所述的除雜反應攪拌桶上方裝有攪拌機，并且連接一除雜藥劑暫存計量桶。
[0008]工作時，將從低位槽栗入高位槽中的含有雜質離子及不溶懸浮物或懸浮陽極泥的溶液，通過排液管上的支管及水力控制閥的自動控制，經重力自流，進入除雜反應攪拌桶；經與除雜藥劑反應下生產沉淀；對于含鉍電解液，將攪拌桶上部除雜藥劑暫存計量桶中的除雜藥劑通過閥門打開，并緩慢滴入攪拌桶內；則在除雜藥劑的作用反應下，由于生成物溶度積很小而沉淀；將含有沉淀的反應液，經壓濾機壓濾去除雜質；壓濾后的濾液流入一個中間儲槽，并在中間儲槽上部溢流到低位槽內與電解液混合，混合后的電解液通過返回管路、電解液循環栗栗入高位槽；接著，混合后的電解液又通過排液管上的支管及水力控制閥再次流入除雜反應攪拌桶，如此循環實現連續除雜作業。
[0009]在本實用新型中，水力控制閥的自動液位控制作用，可以達到流量的平衡，可以確保電解過程中，雜質在電解液中得到穩定有效的控制。本實用新型中的除雜藥劑硫酸可以使電解液中的鉛離子、銻等雜質離子形成沉淀，由于沉淀物的溶度積很低，有害雜質可以有效去除，輔料成本低廉，實用性強，可操作性強、壓濾渣含鉍等主金屬離子很低，金屬回收率高。本本實用新型在長期連續工作中，可以將微量的懸浮陽極泥顆粒及其他無關污染物通過壓濾機的反復壓濾，使其能夠大部分被過濾除去，保證電解液的澄清，不污染陰極。本實用新型在除雜反應攪拌桶上方裝有攪拌機，并且連接一除雜藥劑暫存計量桶；同時又在除雜反應攪拌桶5底側的反應物轉移口接壓濾栗；實現在除雜反應攪拌桶緩慢滴入除雜藥劑，同時在下部用壓濾栗不停的將反應液栗入壓濾機，由于攪拌桶的深度及攪拌效果，可以保證反應的充分進行。
[0010]本實用新型對于其他類型的電解液，可以選擇合適的除雜藥劑達到類似的效果。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0012]附圖中:1高位槽；2電解槽；3水力控制閥；4攪拌機；5除雜反應攪拌桶；6壓濾栗；7壓濾機；8中間儲槽；9低位槽；10電解液循環栗；11除雜藥劑(濃硫酸)暫存計量桶。
【具體實施方式】
[0013]下面結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】作詳細闡述。
[0014]—種電解液連續凈化除雜系統，包括高位槽1、低位槽9和車間設置的若干電解槽2 ;高位槽1的最低部高于電解槽2的最高工作液面，電解工作槽2的最低部又高于低位槽9的最高工作液面；高位槽1的底側有排液管下接分流管連到若干電解槽2的進液口，若干電解槽2底部的排液口又通過會聚管連接低位槽9的第一進液口 ；在低位槽9的底側和高位槽1的回液口之間有一返回管路連接，且于低位槽9底側的返回管路段裝設有電解液循環栗10 ;在高位槽1底側的排液管上還設一支管，支管經水力控制閥3連接除雜反應攪拌桶5 ;從除雜反應攪拌桶5底側的反應物轉移口接壓濾栗6，通過壓力管道連接壓濾機7 ;壓濾機7下方的集液盤通過斜管通至中間儲槽8，在中間儲槽8上部設溢流口，由溢流管連通到低位槽9內的第二進液口。
[0015]所述的除雜反應攪拌桶5上方裝有攪拌機4，并且連接一除雜藥劑(濃硫酸)暫存計量桶11。
[0016]本實施方式工作時，將從低位槽9栗入高位槽1中的含有雜質離子及不溶懸浮物或懸浮陽極泥的溶液，通過排液管上的支管及水力控制閥3的自動控制，經重力自流，進入除雜反應攪拌桶5 ;經與除雜藥劑反應下生產沉淀；對于含鉍電解液，將攪拌桶上部除雜藥劑(濃硫酸)暫存計量桶11中的除雜藥劑(濃硫酸)通過閥門打開，并緩慢滴入攪拌桶內；則在除雜藥劑(濃硫酸)的作用反應下，由于生成物溶度積很小而沉淀，轉化工序的化學反應式為:
[0017]2PbSiF6+H2S04=PbS04+H2SiF6；Sb 2 (SiF6) 3+H2S04=Sb2 (S04)3+ H2SiF6；
[0018]將含有沉淀的反應液(硫酸鉛、硫酸銻沉淀、懸浮陽極泥顆粒劑或其他不溶懸浮物)，經壓濾機7壓濾去除雜質(鉍離子則仍在電解液中保留)；壓濾后的濾液流入一個中間儲槽8，并在中間儲槽8上部溢流到低位槽9內與電解液混合，混合后的電解液通過返回管路、電解液循環栗10栗入高位槽1 ;接著，混合后的電解液又通過排液管上的支管及水力控制閥3再次流入除雜反應攪拌桶5，如此循環實現連續除雜作業。
[0019]參考附圖1、對于鉍電解液在高位槽1往下自流進入電解槽的出口處分一根支管流出，并通過水力控制閥3進行進液的自動控制，電解液自流流入反應攪拌桶5，在攪拌機4的攪拌下，調節除雜藥劑(濃硫酸)暫存計量桶11的出口閥門，以合理調節濃硫酸加入的速度，同時下部壓濾栗6在不停的將含有沉淀的渾濁反應液栗入壓濾機7進行壓濾，壓濾后的清液流入中間儲槽8后，通過溢流至低位槽9，進入循環系統進行循環。以上即可形成一個電解液的閉合回路，能有效去除電解液中的鉛、銻等離子，并過濾掉懸浮陽極泥及其他進入電解液的不溶懸浮污染物，可以實現自動連續運作，使電解液長期保持品質良好。
【主權項】
1.一種電解液連續凈化除雜系統，包括高位槽(1 )、低位槽(9)和車間設置的若干電解槽(2);其特征在于:高位槽(1)的最低部高于電解槽(2)的最高工作液面，電解槽(2)的最低部又高于低位槽(9)的最高工作液面；高位槽(1)的底側有排液管下接分流管連到若干電解槽(2 )的進液口，若干電解槽(2 )底部的排液口又通過會聚管連接低位槽(9 )的第一進液口 ；在低位槽(9)的底側和高位槽(1)的回液口之間有一返回管路連接，且于低位槽(9)底側的返回管路段裝設有電解液循環栗(10);在高位槽(1)底側的排液管上還設一支管，支管經水力控制閥(3)連接除雜反應攪拌桶(5);從除雜反應攪拌桶(5)底側的反應物轉移口接壓濾栗(6)，通過壓力管道連接壓濾機(7);壓濾機(7)下方的集液盤通過斜管通至中間儲槽(8)，在中間儲槽(8)上部設溢流口，由溢流管連通到低位槽(9)內的第二進液口。2.根據權利要求1所述的一種電解液連續凈化除雜系統，其特征還在于:所述壓濾機(7)下方的集液盤位置要高于中間儲槽(8)的最高工作面；所述中間儲槽(8)溢流口的高度也要高于低位槽(9)的最高工作面。3.根據權利要求1所述的一種電解液連續凈化除雜系統，其特征還在于:所述的水力控制閥(3)由一個主閥和導管及導閥所組成，導閥隨介質上下游壓力的變化而產生動力動作，控制主閥閥瓣完全開啟或完全關閉或處于調節狀態。4.根據權利要求1所述的一種電解液連續凈化除雜系統，其特征還在于:所述的除雜反應攪拌桶(5)上方裝有攪拌機(4)，并且連接一除雜藥劑暫存計量桶11。
【專利摘要】本實用新型公開了一種電解液連續凈化除雜系統，通過將部分電解液從高位槽通過管道及自動控制閥門的控制，自流到除雜攪拌桶，在加入除雜藥劑和攪拌反應作用下，生成了沉淀的反應液不斷的從攪拌桶下部通過壓濾泵泵入壓濾機，過濾后的澄清液流入中間儲槽，并溢流至低位槽；本實用新型由于能夠長期穩定的連續工作，實現了對雜質離子及懸浮陽極泥顆粒等的有效去除，保證了電解液的質量，使陰極能夠合格析出。本實用新型操作簡單，勞動強度低，設備及工藝條件簡單，成本低廉，易于實現。
【IPC分類】C25C7/06
【公開號】CN205077165
【申請號】CN201520785150
【發明人】甘學龍, 李文飛, 湯敏, 吳祖祥, 周賤華
【申請人】湖南金旺鉍業股份有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年10月12日