一種金屬電化學滲析電鍍槽的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及電鍍設備領域，特別是一種金屬電化學滲析電鍍槽。
【背景技術】
[0002]電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制品的表面附著一層金屬膜的工藝。而復合電鍍是指包含有細微的固體顆粒的電鍍液中，在電場的作用下，使固體微粒與所鍍金屬一起沉積到工件上而形成復合鍍層的過程。
[0003]現有用于復合電鍍的陽極金屬材料，如鎳餅，通常采用懸掛的方式置于電鍍槽體內，在電鍍液內也含有固體顆粒，但是該方式的浪費較大，且電鍍液中的固體顆粒容易出現分布不均勻的現象，從而影響到鍍層的質量。
[0004]在電鍍液與待電鍍的工件之間可能會形成微小的氣泡，對精度要求較高的待電鍍元件而言，氣泡會形成電鍍缺陷。
【發明內容】
[0005]本實用新型所要解決的技術問題是提供一種金屬電化學滲析電鍍槽，能夠避免電鍍液內的固體顆粒影響陽極金屬材料，并能使電鍍液內的固體顆粒分布均勻，確保鍍層的質量，優選的方案中，能夠避免因氣泡形成電鍍缺陷。
[0006]為解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是:一種金屬電化學滲析電鍍槽，包括槽體，在槽體內設有陰極掛具，在槽體內壁還設有陽極材料儲槽，陽極材料儲槽的內側設有尚子膜；
[0007]在槽體內還設有進口浸沒在電鍍液內的電鍍液循環管，電鍍液循環管與電鍍液儲槽連接，電鍍液儲槽通過栗與位于槽體底部的噴射口連接。
[0008]所述的噴射口成切向與槽體內連通。
[0009]所述的陰極掛具為網狀結構，在網狀結構的底部設有支腳。
[0010]所述的陰極掛具為至少一根橫梁的結構。
[0011 ] 所述的槽體還通過法蘭與密封頂蓋密封連接，密封頂蓋上設有抽真空口。
[0012]本實用新型提供的一種金屬電化學滲析電鍍槽，通過設置的陽極材料儲槽和丙綸制成的離子膜，陽極材料的金屬離子能夠通過，電鍍液中的顆粒物則無法進入陽極材料儲槽進行交換，陽極材料的雜質也不能通過離子膜，避免污染電鍍液，確保電鍍作業正常進行。設置的噴射口和電鍍液循環管，能夠使電鍍液內的固體顆粒分布均勻，提高鍍層的質量。進一步優選的方案中，設置密封頂蓋配合抽真空口，能夠降低槽體內的真空度，消除氣泡，避免氣泡影響鍍層質量。
【附圖說明】
[0013]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明:
[0014]圖1為本實用新型的整體結構示意圖。
[0015]圖中:槽體1，陽極材料儲槽2，離子膜3，密封頂蓋4，電鍍液循環管5，陰極掛具6，電鍍液7，抽真空口 8，電鍍液儲槽9，栗10，噴射口 11。
【具體實施方式】
[0016]如圖1中，一種金屬電化學滲析電鍍槽，包括槽體1，在槽體I內設有陰極掛具6，在槽體I內壁還設有陽極材料儲槽2，陽極材料儲槽2的內側設有離子膜3 ；由此結構，開始電鍍作業時，在電流的作用下陽極材料，例如鎳，溶解成金屬鎳離子，鎳離子能夠自由通過離子膜3，和槽體I內的固體顆粒一起沉積到工件表面，完成復合電鍍。鎳溶解產生的陽極泥固體雜質不能通過離子膜3，避免污染槽體內的電鍍液7，而電鍍液7中的固體顆粒也不能進入到陽極材料儲槽2內。
[0017]在槽體I內還設有進口浸沒在電鍍液7內的電鍍液循環管5，電鍍液循環管5可以設置在槽體I的側壁或者頂部，設置在側壁的位置則采用溢流的方式循環，而設置在頂部則需要設置額外的抽取栗。電鍍液循環管5與電鍍液儲槽9連接，電鍍液儲槽9通過栗10與位于槽體I底部的噴射口 11連接。由此結構，利用電鍍液的循環，避免鍍液內的固體顆粒沉淀在槽體I的底部，使電鍍液內的固體顆粒分布均勻。
[0018]優選的方案中，所述的噴射口 11成切向與槽體I內連通。噴射口 11為1~4個。由此結構，使電鍍液產生攪拌的效果。
[0019]所述的陰極掛具6為網狀結構，在網狀結構的底部設有支腳。由此結構，避免阻擋噴射口 11噴出的電鍍液，避免電鍍液7中的固體顆粒沉淀。
[0020]所述的陰極掛具6為至少一根橫梁的結構。圖中未示出，由此結構，便于以懸掛的方式固定工件。
[0021]如圖1中，所述的槽體I還通過法蘭與密封頂蓋4密封連接，密封頂蓋4上設有抽真空口 8。由此結構，便于將抽真空口 8與負壓設備連接，將槽體I內抽真空，避免電鍍液7循環過程中產生的氣泡影響電鍍質量。進一步優選的，在電鍍液儲槽9內還設有消泡機構，例如攪拌機構，以進一步消除電鍍液7內的氣泡。
[0022]上述的實施例僅為本實用新型的優選技術方案，而不應視為對于本實用新型的限制，本申請中的實施例及實施例中的特征在不沖突的情況下，可以相互任意組合。本實用新型的保護范圍應以權利要求記載的技術方案，包括權利要求記載的技術方案中技術特征的等同替換方案為保護范圍。即在此范圍內的等同替換改進，也在本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種金屬電化學滲析電鍍槽，包括槽體(1 )，在槽體(1)內設有陰極掛具(6)，其特征是:在槽體(1)內壁還設有陽極材料儲槽(2)，陽極材料儲槽(2)的內側設有離子膜(3); 在槽體(1)內還設有進口浸沒在電鍍液(7)內的電鍍液循環管(5)，電鍍液循環管(5)與電鍍液儲槽(9 )連接，電鍍液儲槽(9 )通過栗(10 )與位于槽體(1)底部的噴射口( 11)連接。2.根據權利要求1所述的一種金屬電化學滲析電鍍槽，其特征是:所述的噴射口(11)成切向與槽體(1)內連通。3.根據權利要求1所述的一種金屬電化學滲析電鍍槽，其特征是:所述的陰極掛具(6)為網狀結構，在網狀結構的底部設有支腳。4.根據權利要求1所述的一種金屬電化學滲析電鍍槽，其特征是:所述的陰極掛具(6)為至少一根橫梁的結構。5.根據權利要求1所述的一種金屬電化學滲析電鍍槽，其特征是:所述的槽體(1)還通過法蘭與密封頂蓋(4)密封連接，密封頂蓋(4)上設有抽真空口(8)。
【專利摘要】一種金屬電化學滲析電鍍槽，包括槽體，在槽體內設有陰極掛具，在槽體內壁還設有陽極材料儲槽，陽極材料儲槽的內側設有離子膜；在槽體內還設有進口浸沒在電鍍液內的電鍍液循環管，電鍍液循環管與電鍍液儲槽連接，電鍍液儲槽通過泵與位于槽體底部的噴射口連接。所述的噴射口成切向與槽體內連通。本實用新型提供的一種金屬電化學滲析電鍍槽，通過設置的陽極材料儲槽和丙綸制成的離子膜，陽極材料的金屬離子能夠通過，電鍍液中的顆粒物則無法進入陽極材料儲槽進行交換，陽極材料的雜質也不能通過離子膜，避免污染電鍍液，確保電鍍作業正常進行。設置的噴射口和電鍍液循環管，能夠使電鍍液內的固體顆粒分布均勻，確保鍍層的質量。
【IPC分類】C25D15/00, C25D17/02
【公開號】CN205062219
【申請號】CN201520770586
【發明人】盧士干, 劉興蓉
【申請人】湖北吉隆表面工程有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年9月30日