一種高效的真空滅弧室刷鍍設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種刷鍍設備，特別是一種高效的真空滅弧室刷鍍設備。
【背景技術】
[0002]刷鍍也稱為涂鍍或者無槽電鍍，屬于電鍍工藝的范疇，在真空滅弧室的制造過程中，常常需要用到刷鍍工藝，在滅弧室的表面刷鍍上一層金屬。現有的真空滅弧室刷鍍設備中，通常是先將刷鍍藥水倒在刷鍍槽內后，操作人員手持刷鍍刷電極，將真空滅弧室器件放置在專用夾具上，使用刷鍍電極沾取鍍液進行刷鍍，但是，由于為了操作方便，鍍液槽在設計時通常是設計成寬口寬底的鍍液槽，這種鍍液槽在使用時需要向槽內倒入大量的刷鍍藥水，造成了浪費，同時，刷鍍時需要操作人員手持鍍件，邊刷鍍邊旋轉鍍件，費時費力，使用很不方便，刷鍍效率較低。
【發明內容】
[0003]本發明的目的在于，提供一種高效的真空滅弧室刷鍍設備。本發明具有節約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的特點。
[0004]本發明的技術方案:一種高效的真空滅弧室刷鍍設備，包括有殼體，殼體中設有上大下小的鍍液槽，鍍液槽一側的槽壁上設有斜槽，斜槽較低的一端與所述鍍液槽連通，斜槽的上下兩端分別設有上夾具和下夾具，上夾具和下夾具之間設有兩根平行的轉動軸。
[0005]前述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，所述的斜槽與水平面的夾角為0度-90度。
[0006]前述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，所述的斜槽與水平面的夾角為30度-45度。
[0007]前述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，所述的轉動軸的一端伸出上夾具，并在其伸出端連接有電機。
[0008]前述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，所述的鍍液槽的橫截面為三角形或倒梯形。
[0009]本發明的有益效果:本發明通過將鍍液槽設計成上大下小的形狀，刷鍍藥水集中在下方較小的區域內，使用時不需要倒入大量的刷鍍藥水同樣可以方便刷鍍，節約了刷鍍藥水。同時，本發明通過在鍍液槽一側的槽壁上設置一個斜槽，并在斜槽的上下兩端分別設置一個上夾具和下夾具，上下夾具之間設置兩根平行的轉動軸，使用時將真空滅弧室放在轉動軸上，利用上下夾具將真空滅弧室夾住，利用刷鍍刷在鍍液槽內蘸取刷鍍藥水后對真空滅弧室進行刷鍍，同時轉動轉動軸，帶動真空滅弧室旋轉，使滅弧室的表面均能被刷到，使用非常方便，且刷鍍到真空滅弧室表面的多余的藥水從滅弧室表面掉落到斜槽內，然后流入鍍液槽內進行重復利用，進一步節約了刷鍍藥水。此外，本發明通過在轉動軸的一端連接電機，利用電機帶動轉動軸旋轉，進一步提高了本發明的刷鍍效率。綜上所述，本發明具有節約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的有益效果。
[0010]經統計:
[0011]生產相同數量的產品，鍍液用量可減少10%左右；同時按1天工作8小時計算，傳統設備每人每天刷鍍50只產品，而使用本發明后每人每天可以刷鍍100只產品，效率提升1倍；降低了工人的勞動強度。
【附圖說明】
[0012]附圖1為本發明的透視圖；
[0013]附圖2為本發明的截面圖。
[0014]附圖標記說明:1-殼體，2-鍍液槽，3-斜槽，4-下夾具，5-上夾具，6_轉動軸，7_電機，8-皮帶。
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的說明，但并不作為對本發明限制的依據。
[0016]本發明的實施例:一種高效的真空滅弧室刷鍍設備，如附圖1-2所示，包括有殼體1，殼體1中設有上大下小的鍍液槽2，鍍液槽2—側的槽壁上設有斜槽3，斜槽3較低的一端與所述鍍液槽2連通，斜槽3的上下兩端分別設有上夾具5和下夾具4，上夾具5和下夾具4之間設有兩根平行的轉動軸6。
[0017]作為優選，通過將斜槽3與水平面的夾角設計為0度-90度(最優的是，所述的斜槽3與水平面的夾角為30度-45度)，這樣既方便刷鍍，同時也便于斜槽3內的刷鍍藥水流回鍍液槽2內。
[0018]作為優選，通過電機7經皮帶8帶動轉動軸6轉動，減少了人力的使用，提高了刷鍍效率。
[0019]作為優選，所述的鍍液槽2的橫截面為三角形或倒梯形。
[0020]本發明工作時，首先將刷鍍藥水倒入鍍液槽2內，然后將圓柱形的真空滅弧室放在兩個轉動軸6之間，利用上夾具5和下夾具4將其夾住，蘸取鍍液槽2內的刷鍍藥水在真空滅弧室的表面進行刷鍍，刷鍍好一面后轉動轉動軸6，帶動真空滅弧室轉動，然后對真空滅弧室的其他面進行刷鍍。
【主權項】
1.一種高效的真空滅弧室刷鍍設備，其特征在于:包括有殼體(1)，殼體(1)中設有上大下小的鍍液槽(2)，鍍液槽(2)—側的槽壁上設有斜槽(3)，斜槽(3)較低的一端與所述鍍液槽(2)連通，斜槽(3)的上下兩端分別設有上夾具(5)和下夾具(4)，上夾具(5)和下夾具(4)之間設有兩根平行的轉動軸(6)。2.根據權利要求1所述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，其特征在于:所述的斜槽(3)與水平面的夾角為0度-90度。3.根據權利要求2所述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，其特征在于:所述的斜槽(3)與水平面的夾角為30度-45度。4.根據權利要求1所述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，其特征在于:所述的轉動軸(6)的一端伸出上夾具(5)，并在其伸出端連接有電機(7)。5.根據權利要求1所述的高效的真空滅弧室刷鍍設備，其特征在于:所述的鍍液槽(2)的橫截面為三角形或倒梯形。
【專利摘要】本發明公開了一種高效的真空滅弧室刷鍍設備。包括有殼體(1)，殼體(1)中設有上大下小的鍍液槽(2)，鍍液槽(2)一側的槽壁上設有斜槽(3)，斜槽(3)較低的一端與所述鍍液槽(2)連通，斜槽(3)的上下兩端分別設有上夾具(5)和下夾具(4)，上夾具(5)和下夾具(4)之間設有兩根平行的轉動軸(6)。本發明具有節約刷鍍藥水，使用方便，刷鍍效率高的有益效果。
【IPC分類】C25D7/00, C25D17/02, C25D5/06
【公開號】CN105442007
【申請號】CN201510988306
【發明人】張毅, 王振春, 黃峰鑫
【申請人】中國振華電子集團宇光電工有限公司（國營第七七一廠）
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年12月24日