一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種電鍍工藝，尤其是一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝。
【背景技術】
[0002]通過電解或化學方法在金屬或某些非金屬上鍍上一層鎳的方法，稱為鍍鎳。鍍鎳分電鍍鎳和化學鍍鎳。電鍍鎳是在由鎳鹽(主鹽)、導電鹽、pH緩沖劑、潤濕劑組成的電解液中，陽極用金屬鎳，陰極為鍍件，通以直流電，在陰極(鍍件)上沉積上一層均勻、致密的鎳鍍層。但是在電鍍鎳的過程中經常會出現的白色斑點、鍍層中有沒覆蓋的孔洞等情況發生，因為電鍍鎳的工藝過程復雜而且對各道工藝流程要求較高，稍微的配比改變就影響整個鍍鎳的效果，鍍鎳領域也一直在探究更加優化的鍍鎳方法。
【發明內容】
[0003]本發明是為了提供一種操作簡單的高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，具有快速出光、填平能力強的特點，走位效果好，低電位都具有良好的填平度，不易產生針孔和麻點，鍍液穩定容易操作控制，鍍層柔韌性好，電阻率低，雜質容忍度高。
[0004]本發明的技術解決方案是:高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝。(1)向備用槽中加入純水，將水加熱至60-70°C，加熱后加入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；(2)用10%稀硫酸將PH值調至3.0，加入2-3ml/L30%的雙氧水并攪拌半小時，加入4%的氫氧化鈉溶液將PH值調節到5.5-6，將溫度加熱至65-70°C，保溫半小時，(3)加入2_3g/L活性碳粉，充分攪拌半小時，靜置3-5個小時，過濾至鍍槽；(4)硼酸用95-100°C的沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液用10%稀硫酸將PH值調節到3.0-3.2，溫度保溫在50-55攝氏度；(6)加入鎳開缸劑3-5ml/L、鎳光亮劑0.3-0.5ml/L,鎳柔軟劑8_12ml/L，鎳潤濕劑l_2ml/L，將鍍液PH值調整到4-5 ; (7)加入電鍍件溫度控制在50-60 °C，陰極電流密度DK在0.2_3A/dm2，陽極電流密度0.5-3A/dm2條件下進行電鍍。
[0005]本發明的優點:
[0006]1、走位效果好，覆蓋力強。分散能力好，不易產生針孔和麻點；
[0007]2、鍍液穩定容易操作控制，鍍層柔韌性好，電阻率低；
[0008]3、雜質容忍度高。
【具體實施方式】
[0009]下面根據具體實施例對本發明做進一步說明。
[0010]實施例1
[0011](1)向備用槽中加入純水，將水加熱至60°C，加熱后降入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；(2)用10%稀硫酸將PH值調至3.0，加入2ml/L30%的雙氧水并攪拌半小時，加入4%的氫氧化鈉溶液將PH值調節到6，將溫度加熱至65°C，保溫半小時，(3)加入2g/L活性碳粉，充分攪拌半小時，靜置5個小時，過濾至鍍槽；(4)硼酸用100°C的沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液用10%稀硫酸將PH值調節到3.0，溫度保溫在50°C; (6)加入鎳開缸劑3-5ml/L鎳光亮劑0.4ml/L，鎳柔軟劑10ml/L，鎳潤濕劑lml/L，將鍍液PH值調整到4-5 ; (7)加入電鍍件溫度控制在58°C，陰極電流密度DK在0.3A/dm2，陽極電流密度0.5A/dm2條件下進行電鍍。
[0012]實施例2
[0013](1)向備用槽中加入純水，將水加熱至60°C，加熱后降入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；(2)用10%稀硫酸將PH值調至3.0，加入2ml/L30%的雙氧水并攪拌半小時，加入4%的氫氧化鈉溶液將PH值調節到6，將溫度加熱至65°C，保溫半小時，(3)加入2g/L活性碳粉，充分攪拌半小時，靜置5個小時，過濾至鍍槽；(4)硼酸用100°C的沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液用10%稀硫酸將PH值調節到3.0，溫度保溫在50°C; (6)加入鎳開缸劑3-5ml/L，將鍍液PH值調整到4_5 ; (7)加入電鍍件溫度控制在58°C，陰極電流密度DK在0.3A/dm2，陽極電流密度0.5A/dm2條件下進行電鍍。
[0014]鍍液的配制過程中，鎳開缸劑、鎳光亮劑、鎳柔軟劑、鎳潤濕劑都可以在市面上購得，鍍液的配制過程中，經過多年的實驗測試得出，適量的開缸劑可以減少鍍層應力，使低電流密度區覆蓋率良好，適量的潤濕劑可維持鍍液表面張力，眾多周知電鍍鎳的各原料添加比例需要十分精確，稍微的變動可能會引起鍍層出現針孔，低電流密度區沒有填平度，與其他位置的鍍層有明顯分界，鍍層高電流密度區容易燒焦，鍍層出現起霧現象，還會導致低電流密度區光亮度變差，高、中電流密度區容易出現凹凸起伏的條紋，以及在低電流密度區有霧狀沉積。而完全按照本電鍍工藝進行鍍鎳時，鍍件保持高雅白亮鍍層，基本無毛刺和針孔。
[0015]盡管上述實施例已本發明的技術方案進行了詳細地描述，但是本發明的技術方案并不限于以上實施例，在不脫離本發明的思想和宗旨的情況下，對本發明的技術方案所做的任何改動都將落入本發明的權利要求書所限定的范圍。
【主權項】
1.一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，具體工藝流程為:(1)向備用槽中加入純水，將水加熱至60-70°C，加熱后降入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；⑵用10 %稀硫酸將PH值調至3.0，加入2-3ml/L30%的雙氧水并攪拌半小時，加入4%的氫氧化鈉溶液將PH值調節到5.5-6，將溫度加熱至65-70°C，保溫半小時，(3)加入2_3g/L活性碳粉，充分攪拌半小時，靜置3-5個小時，過濾至鍍槽；(4)硼酸用95-100°C的沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液用10%稀硫酸將PH值調節到3.0-3.2，溫度保溫在50-55攝氏度；(6)加入鎳開缸劑3-5ml/L、鎳光亮劑0.3-0.5ml/L、鎳柔軟劑8_12ml/L、鎳潤濕劑l_2ml/L，將鍍液PH值調整到4-5 ; (7)加入電鍍件溫度控制在50-60°C，陰極電流密度DK在0.2_3A/dm2，陽極電流密度0.5-3A/dm2條件下進行電鍍。2.根據權利要求1所述的一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，其特征在于:步驟(4)中的硼酸中先加入l_2g/L的活性炭攪拌15-30分鐘，過濾后加入鍍槽。3.根據權利要求1所述的一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，其特征在于:步驟(7)中的電鍍前，先用試鍍件在陰極電流DK = 3A/dm2電解1-2分鐘后，再開始電解。4.根據權利要求1所述的一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，其特征在于:(1)向備用槽中加入純水，將水加熱至60°C，加熱后降入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；(2)用10%稀硫酸將PH值調至3.0，加入2ml/L30 %的雙氧水并攪拌半小時，加入4%的氫氧化鈉溶液將PH值調節到6，將溫度加熱至65°C，保溫半小時，(3)加入2g/L活性碳粉，充分攪拌半小時，靜置5個小時，過濾至鍍槽；(4)硼酸用100°C的沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液用10%稀硫酸將PH值調節到3.0，溫度保溫在50°C ； (6)加入鎳開缸劑3_5ml/L鎳光亮劑0.4ml/L,鎳柔軟劑10ml/L,鎳潤濕劑lml/L,將鍍液PH值調整到4-5 ; (7)加入電鍍件溫度控制在58°C，陰極電流密度DK在0.3A/dm2，陽極電流密度0.5A/dm2條件下進行電鍍。5.根據權利要求1所述的一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，其特征在于:陽極可以為含碳鎳陽極或含氧鎳陽極或含硫鎳陽極。
【專利摘要】本發明涉及一種高性能直上鎳鍍液的電鍍工藝，具體工藝流程為：(1)向備用槽中加入純水，將水加熱后降入硫酸鎳和氯化鎳，攪拌溶解；(2)用稀硫酸將PH值調至3.0，加入30％的雙氧水并攪拌半小時，加入的氫氧化鈉溶液將PH值調節到5.5-6,將溫度加熱至65-70℃，保溫半小時，(3)加入活性碳粉，靜置過濾至鍍槽；(4)硼酸用沸水溶解，過濾后加入鍍槽；(5)將鍍槽中的鍍液PH值調節到3.0-3.2，溫度保溫在50-55攝氏度；(6)加入光亮劑，柔軟劑,潤濕劑；(7)加入電鍍件試鍍溫度控制在50-60℃，陰極電流密度DK在2-10A/dm2，陽極電流密度0.5-3A/dm2條件下進行電鍍。
【IPC分類】C25D3/12
【公開號】CN105239112
【申請號】CN201510738320
【發明人】杭冬良
【申請人】江蘇夢得電鍍化學品有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年11月3日