本技術(shù)涉及離心電鍍,尤其涉及一種陰極杯電鍍缸。
背景技術(shù):
1、離心電鍍技術(shù)是一種利用離心力加速金屬離子沉積過程的電鍍技術(shù)。傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)主要依賴于電流和電解液的化學反應(yīng),而離心電鍍技術(shù)則通過離心力來提高金屬離子的沉積速度和均勻性。離心電鍍技術(shù)具有高效、快速、均勻的優(yōu)點,因此在電子、航空、汽車、醫(yī)療等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。
2、然而現(xiàn)有技術(shù)中的陰極杯電鍍缸,其缸體是分體式結(jié)構(gòu),不僅容易出現(xiàn)卡產(chǎn)品的現(xiàn)象,產(chǎn)品載量少,而且電流不均勻,導致鍍層一致性差。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本實用新型的目的在于提出一種陰極杯電鍍缸,解決了現(xiàn)有技術(shù)中的陰極杯電鍍缸,其缸體是分體式結(jié)構(gòu),不僅容易出現(xiàn)卡產(chǎn)品的現(xiàn)象,產(chǎn)品載量少,而且電流不均勻,導致鍍層一致性差。
2、為達此目的,本實用新型采用以下技術(shù)方案:
3、一種陰極杯電鍍缸,包括陰極杯、陰極杯蓋、頂排壓塊和陽極鈦籃;
4、陰極杯蓋安裝于所述陰極杯的頂部,所述陰極杯蓋設(shè)有第一通孔和避空區(qū),所述第一通孔位于所述陰極杯內(nèi)壁的內(nèi)側(cè),所述頂排壓塊安裝于所述陰極杯杯蓋,所述頂排壓塊設(shè)有第二通孔,所述第二通孔通過所述第一通孔與所述陰極杯的內(nèi)部連通,所述陽極鈦籃的端部穿過所述避空區(qū),并設(shè)于所述陰極杯的內(nèi)部,所述陰極杯為一體成形結(jié)構(gòu)。
5、進一步,所述第二通孔為圓錐形結(jié)構(gòu)通孔,所述第二通孔底部的直徑大于所述第二通孔頂部的直徑。
6、具體地,所述頂排壓塊的底部設(shè)有阻擋網(wǎng)。
7、優(yōu)選地,所述陰極杯蓋設(shè)有多個安裝槽,多個所述安裝槽沿所述陰極杯蓋的圓周方向均勻設(shè)置,每個所述安裝槽的底部分別設(shè)有所述第一通孔。
8、一些實施例中,每個所述頂排壓塊分別設(shè)有兩個所述第二通孔,所述第一通孔為要腰型孔,每個所述第一通孔正對同一個所述頂排壓塊的兩個第二通孔。
9、具體地,還包括法蘭和鎖緊螺釘;
10、所述法蘭安裝于所述陰極杯蓋的頂面,所述法蘭位于所述頂排壓塊的外側(cè),所述法蘭、所述陰極杯蓋和所述陰極杯通過所述鎖緊螺釘鎖緊固定。
11、優(yōu)選地,所述陽極鈦籃包括主體和底蓋,所述底蓋安裝于所述主體的底部,且所述底蓋為塑膠材質(zhì),所述主體為純鈦材質(zhì)。
12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,上述技術(shù)方案中的一個技術(shù)方案具有以下有益效果:
13、陰極杯為一體成形結(jié)構(gòu),且為純鈦材質(zhì),與傳統(tǒng)陰極杯電鍍缸相比,本申請不會出現(xiàn)卡產(chǎn)品的現(xiàn)象,實現(xiàn)全包圍接觸產(chǎn)品,防止漏鍍產(chǎn)品,不僅載量更多,而且電流均勻,鍍層一致性好,效率更高,陰極杯和陽極鈦籃的大小設(shè)計合理,杯腔與陽極的距離更近,上鍍率高。
1.一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:包括陰極杯、陰極杯蓋、頂排壓塊和陽極鈦籃;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:所述第二通孔為圓錐形結(jié)構(gòu)通孔,所述第二通孔底部的直徑大于所述第二通孔頂部的直徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:所述頂排壓塊的底部設(shè)有阻擋網(wǎng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:所述陰極杯蓋設(shè)有多個安裝槽,多個所述安裝槽沿所述陰極杯蓋的圓周方向均勻設(shè)置,每個所述安裝槽的底部分別設(shè)有所述第一通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:每個所述頂排壓塊分別設(shè)有兩個所述第二通孔,所述第一通孔為要腰型孔,每個所述第一通孔正對同一個所述頂排壓塊的兩個第二通孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:還包括法蘭和鎖緊螺釘;
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陰極杯電鍍缸,其特征在于:所述陽極鈦籃包括主體和底蓋,所述底蓋安裝于所述主體的底部,且所述底蓋為塑膠材質(zhì),所述主體為純鈦材質(zhì)。