本發(fā)明涉及硬鉻電鍍,尤其涉及一種軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝。
背景技術:
1、軋制鋁皮用的專用軋輥通常是由實心鉻鋼經(jīng)粗磨精磨加工至表面粗糙度到0.8-1.0微米之后,經(jīng)電鍍上8-12微米厚的硬鉻鍍層后,再上機進行鋁皮的軋制工作。
2、現(xiàn)有軋輥硬鉻的電鍍工藝,通常對工藝參數(shù)的控制是比較粗略。比如:鉻酐濃度通常是通過控制電鍍液的波美度來進行控制,一般控制電鍍液的波美度在18-23obe之間;硫酸濃度通常是通過定期化驗來后通過補加硫酸來進行控制,一般控制鉻酐濃度/硫酸濃度的比值為100:1;三價鉻的控制是通過陽極和陰極的面積之比來進行控制的,一般控制在陽極面積/陰極面積=2-3:1,電鍍液里的三價鉻就比較穩(wěn)定。溫度的控制通常是在鍍槽內壁四周布置降溫鈦管,利用溫度控制器對電鍍液溫度進行自動控制,一般控制在50-60℃之間。
3、現(xiàn)有軋輥硬鉻電鍍工藝對一般性的硬鉻工件來說是沒有什么問題的,但對于鋁皮軋制用軋輥來說是遠遠不夠的,由于硫酸在電鍍液中是不被電解消耗的,所以當鉻酐濃度在較寬范圍內變化時,鉻酐濃度和硫酸濃度的比值就會有很大的變化,從而造成軋輥電鍍質量的不穩(wěn)定。電鍍液的溫度控制器通常設置在±2-3℃,這也就導致電鍍液前后可能有4-5℃溫差,如果不是24小時工作的電鍍液,在開始工作的時候還會有上下溫度差,這也能為軋輥電鍍質量帶來不穩(wěn)定。而且現(xiàn)有電鍍液溫度控制器,通常只有一個溫度探頭來探測鍍液的溫度,而對于軋輥電鍍用的鍍槽來說,6米深的鍍液,一個點的溫度探測是很不夠的,這樣也容易造成電鍍液上下有溫差而造成鍍層質量的不穩(wěn)定。
4、因此采用現(xiàn)有硬鉻電鍍工藝,電鍍出來的硬鉻鍍層耐磨性能并不穩(wěn)定,有時三五天就因為軋制出來的產(chǎn)品表面達不到粗糙度要求,就需要提前更換鍍鉻軋輥。
技術實現(xiàn)思路
1、針對上述不足,本發(fā)明所要解決的技術問題是:提供一種軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,使得軋輥上電鍍出來的硬鉻鍍層結構和耐磨性能均很穩(wěn)定,使軋輥返磨間隔由兩天延長至一周,大大提高了軋輥的使用壽命和軋制廠的生產(chǎn)效率,有效降低了軋制成本。
2、為解決上述技術問題,本發(fā)明的技術方案是:
3、一種軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,所述電鍍工藝利用鍍槽內的電鍍液,在軋輥的工作部位表面電鍍上硬鉻鍍層,所述電鍍液包括鉻酐和硫酸,所述鉻酐濃度在230-250g/l范圍內,所述硫酸濃度在3.0-3.2g/l范圍內,所述鉻酐濃度與所述硫酸濃度的比值為100:1.3;電鍍過程中溫度控制在62-65℃范圍內,電流密度控制在30-35a/dm2范圍內。
4、優(yōu)選方式為,所述硬鉻鍍層的厚度控制在8-10微米范圍內。
5、優(yōu)選方式為,所述鍍槽的外面設有循環(huán)過濾設備,所述循環(huán)過濾設備與所述鍍槽連通,所述循環(huán)過濾設備在預設定間隔時間內啟動循環(huán)電鍍液,使所述鍍槽內電鍍液的溫度均衡。
6、優(yōu)選方式為,所述鍍槽內設置有至少一個溫度傳感器,任意兩個所述溫度傳感器檢測的溫度差值大于預設差值,均啟動所述循環(huán)過濾設備循環(huán)電鍍液。
7、優(yōu)選方式為,所述循環(huán)過濾設備包括連通的過濾機、循環(huán)泵、出液管和回液管,所述出液管的進口設在所述鍍槽內,所述回液管的出口設在所述鍍槽內。
8、優(yōu)選方式為,所述出液管的進口和所述回液管的出口上下錯開設置。
9、優(yōu)選方式為,所述鍍槽內設置有至少三個所述溫度傳感器,所有所述溫度傳感器上下間隔設在所述鍍槽內。
10、優(yōu)選方式為,所述鍍槽外設置有顯示單元,所述顯示單元分別與每個所述溫度傳感器電連接,所述顯示單元用于顯示每個所述溫度傳感器檢測的溫度。
11、優(yōu)選方式為,每次軋輥下鍍槽前,使用波美計對電鍍液的比重進行測量,若測量值在22-23obe范圍內,無需調整;若測量值小于22obe,補充鉻酐至電鍍液中,若測量值大于23obe,補充純水至電鍍液中,補充完成后,開啟循環(huán)泵作用電鍍液進行循環(huán)。
12、優(yōu)選方式為,在固定周期內,化驗電鍍液中硫酸濃度,根據(jù)化驗結果進行調整,控制硫酸濃度在3.0-3.2g/l范圍內。
13、采用上述技術方案后,本發(fā)明的有益效果是:
14、由于本發(fā)明的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,主要利用鍍槽內的電鍍液,在軋輥的工作部位表面電鍍上硬鉻鍍層,電鍍液包括鉻酐和硫酸,鉻酐濃度在230-250g/l范圍內,硫酸濃度在3.0-3.2g/l范圍內,鉻酐濃度與硫酸濃度的比值為100:1.3;且電鍍過程中溫度控制在62-65℃范圍內,電流密度控制在30-35a/dm2范圍內。其中鉻酐為電鍍液的主鹽,為電鍍提供所需的金屬鉻離子,硫酸為催化劑為金屬鉻離子在電場中順利析出提供幫助,起催化加速作用,溫度為電鍍過程提供必要且足夠的離子活動力;電流密度為硬鉻電鍍過程的持續(xù)進行提供動力,基于以上原理,本發(fā)明通過精準控制鉻酐濃度、硫酸濃度以及鉻酐濃度與硫酸濃度的比值,來實現(xiàn)對電鍍液的上鍍速度和硬度精準進行控制的目的,還通過精準控制電鍍溫度,使硬鉻鍍層的硬度及耐磨性能得到提升,使得軋輥上電鍍出來的硬鉻鍍層的結構和耐磨性能穩(wěn)定,使軋輥返磨間隔由兩天延長至一周,大大提高了軋輥的使用壽命和軋制廠的生產(chǎn)效率,有效降低了軋制成本。
1.一種軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,所述電鍍工藝利用鍍槽內的電鍍液,在軋輥的工作部位表面電鍍上硬鉻鍍層,其特征在于,所述電鍍液包括鉻酐和硫酸,所述鉻酐濃度在230-250g/l范圍內,所述硫酸濃度在3.0-3.2g/l范圍內,所述鉻酐濃度與所述硫酸濃度的比值為100:1.3;
2.根據(jù)權利要求1所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述硬鉻鍍層的厚度控制在8-10微米范圍內。
3.根據(jù)權利要求1所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述鍍槽的外面設有循環(huán)過濾設備,所述循環(huán)過濾設備與所述鍍槽連通,所述循環(huán)過濾設備在預設定間隔時間內啟動循環(huán)電鍍液,使所述鍍槽內電鍍液的溫度均衡。
4.根據(jù)權利要求3所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述鍍槽內設置有至少一個溫度傳感器,任意兩個所述溫度傳感器檢測的溫度差值大于預設差值,均啟動所述循環(huán)過濾設備循環(huán)電鍍液。
5.根據(jù)權利要求3所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述循環(huán)過濾設備包括連通的過濾機、循環(huán)泵、出液管和回液管,所述出液管的進口設在所述鍍槽內,所述回液管的出口設在所述鍍槽內。
6.根據(jù)權利要求5所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述出液管的進口和所述回液管的出口上下錯開設置。
7.根據(jù)權利要求4所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述鍍槽內設置有至少三個所述溫度傳感器,所有所述溫度傳感器上下間隔設在所述鍍槽內。
8.根據(jù)權利要求7所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,所述鍍槽外設置有顯示單元,所述顯示單元分別與每個所述溫度傳感器電連接,所述顯示單元用于顯示每個所述溫度傳感器檢測的溫度。
9.根據(jù)權利要求5所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,
10.根據(jù)權利要求1所述的軋輥硬鉻鍍層的電鍍工藝,其特征在于,在固定周期內,化驗電鍍液中硫酸濃度,根據(jù)化驗結果進行調整,控制硫酸濃度在3.0-3.2g/l范圍內。