本發(fā)明涉及一種表面封孔液、封孔方法及復(fù)合材料,具體地涉及一種微弧氧化層表面封孔液、封孔方法及復(fù)合材料。
背景技術(shù):
1、鎂及鎂合金具有密度小、比強(qiáng)度和比剛度高、阻尼減震性和電磁屏蔽性能好、容易機(jī)械加工和回收利用的優(yōu)點(diǎn)。例如,鎂合金是目前最輕的合金結(jié)構(gòu)材料,鎂合金密度約為鋁合金的2/3,鋼鐵的1/4;與此同時(shí),散熱性能上鎂比鋼高近1倍,是塑料的10倍。這些工業(yè)特性以及其在自然環(huán)境中的豐富儲(chǔ)量使其具備廣泛的應(yīng)用潛力。在航空航天、汽車(chē)工業(yè)、電子信息、建筑、醫(yī)療等領(lǐng)域有著其它材料無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。特別是,近年來(lái)伴隨我國(guó)新能源汽車(chē)工業(yè)的飛速發(fā)展及汽車(chē)輕量化研究,更為鎂合金的應(yīng)用帶來(lái)廣闊市場(chǎng)。但是鎂的化學(xué)性質(zhì)活潑,其自然形成的氧化層相比鋁合金而言,無(wú)法起到很好的保護(hù)效果,耐腐蝕性和耐磨性都較差,這些缺點(diǎn)都限制了鎂和鎂合金的使用。因此,需要對(duì)其進(jìn)行表面處理,讓其在更多領(lǐng)域發(fā)揮其優(yōu)勢(shì)。
2、當(dāng)前應(yīng)用比較多的表面處理方法有電鍍、陽(yáng)極氧化、微弧氧化、激光處理、磷化電泳等,其中陽(yáng)極氧化得到的表面處理氧化層較薄,耐蝕性并未顯著提高,而且處理液污染大,不能很好的滿(mǎn)足要求;電鍍和磷化電泳存在污染大,復(fù)雜和效果不好等缺點(diǎn),限制了其應(yīng)用;激光處理成本高,難以大規(guī)模應(yīng)用。
3、相對(duì)于此,微弧氧化通過(guò)高電壓的作用,發(fā)生等離子放電,形成高溫,鎂合金基體與溶液的氧以冶金結(jié)合的方式形成陶瓷氧化層,厚度大,硬度高,相比其他工藝可以更加有效的提升鎂合金的耐腐蝕性。但是在微弧氧化過(guò)程中,形成的氧化層呈現(xiàn)出多孔的形式,腐蝕介質(zhì)容易通過(guò)這些微孔與鎂合金的基體產(chǎn)生接觸,進(jìn)而造成基體的腐蝕。由此,孔隙附近的腐蝕速度會(huì)增加,產(chǎn)生的生成物還會(huì)在陶瓷氧化層與金屬基體之間積聚,導(dǎo)致原本的陶瓷氧化層發(fā)生開(kāi)裂和脫落。因此,在實(shí)際的生產(chǎn)應(yīng)用之中,還需要對(duì)微弧氧化的陶瓷氧化層進(jìn)行封孔處理,來(lái)進(jìn)一步提升耐腐蝕性能。
4、當(dāng)前對(duì)于微弧氧化封孔的處理工藝主要有:1.沸水封孔,2.樹(shù)脂、石蠟等有機(jī)物固化封孔;3.無(wú)機(jī)鹽類(lèi)封孔,4.溶膠凝膠、自封孔等。
5、中國(guó)專(zhuān)利cn201510076185.9提出了一種簡(jiǎn)單有效的鎂合金微弧氧化膜封孔方法,首先配置pvdf溶液,然后加入原硅酸鈉、氫氧化鉀或氫氧化鈉,再選擇性加入過(guò)氧化二苯甲酰(bpo)和二乙烯苯dvb,在30℃下攪拌反應(yīng)一段時(shí)間,過(guò)濾得到濾液。將表面鍍有微弧氧化膜的鎂合金樣品在上述濾液中浸泡一定時(shí)間后,取出并置于烘箱中干燥得到封孔后樣品。該方法設(shè)備投資大,成本高,同時(shí)封孔效果不好,保護(hù)時(shí)間短,耐熱性差
6、中國(guó)專(zhuān)利cn201210357957.2提出一種以含有5~15g/l硅酸鈉、2~8g/l鎳鹽、0.1~2g/l促進(jìn)劑的溶液為封孔液,采用浸泡的方式在常溫下對(duì)微弧氧化膜層進(jìn)行封孔。該方法中,化學(xué)試劑多,配置復(fù)雜,容易造成環(huán)境污染且危害人們身體,常溫封孔效果不明顯。
7、中國(guó)專(zhuān)利cn201711243919.3提出了一種鎂合金微弧氧化表面陶瓷氧化層的封孔方法,其封孔液配比是:硬脂酸鈉5~30份,偏鋁酸鈉5~20份,十二烷基苯磺酸鈉1~5份,質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的乙醇20~50份,去離子水20~50份。其將鎂合金工件浸泡在封孔液中,封孔溫度25~30℃,浸泡時(shí)間1~5h。該方法工藝要求高,工藝比較復(fù)雜,浸滲液中酒精易揮發(fā),從而難以保證封孔效果。
8、中國(guó)專(zhuān)利cn202010843617.5提出一種鋁合金陽(yáng)極氧化無(wú)氟無(wú)鎳的石墨烯封孔方法,包括:氧化石墨烯40~50份、異氰酸酯10~20份、丙烯酰胺2~10份、環(huán)氧樹(shù)脂15~25份、片狀鋁粉2~5份、十二烷基磺酸鈉5~10份、固化劑5~10份、有機(jī)酸5~10份、阻燃劑5~10份、無(wú)水乙醇10~20份、水20~30份。該封孔劑主要用于鋁合金的陽(yáng)極氧化,且溶液配比復(fù)雜,雖不含鎳,但多為有機(jī)溶劑,且添加酒精易揮發(fā)。
9、具體可參考下表。
10、
11、針對(duì)目前技術(shù)存在的不足之處,需要尋找一種新的封孔工藝,在低成本、工藝流程簡(jiǎn)潔易于工業(yè)化、對(duì)環(huán)境和人體無(wú)危害的情況下,還具有很好的封孔效果和更久的保護(hù)時(shí)間,有效提高鎂和鎂合金微弧氧化處理后的耐蝕性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、為解決上述課題,本發(fā)明提供了一種微弧氧化層表面封孔液、封孔方法,不僅可以提高鎂合金等微弧氧化層表面的封孔效果,封孔工藝操作簡(jiǎn)便,而且材料易于獲得且對(duì)環(huán)境和人體的污染和危害較低,可以充分改進(jìn)現(xiàn)有的鎂合金微弧氧化工藝,實(shí)現(xiàn)極佳的耐腐蝕性能。進(jìn)一步地,本發(fā)明還提供一種具有來(lái)源于本發(fā)明的微弧氧化層表面封孔液封孔材料的復(fù)合材料。
2、本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式涉及微弧氧化層表面封孔液,其特征在于,含有:選自硅酸鹽、碳酸鹽、磷酸鹽或硫酸鹽中的至少一種的無(wú)機(jī)鹽,以及氧化石墨烯。
3、優(yōu)選地,相對(duì)于微弧氧化層表面封孔液總量,所述無(wú)機(jī)鹽的含量為0.5~5.0質(zhì)量%,更優(yōu)選為1.0~3.5質(zhì)量%,所述氧化石墨烯的含量為0.1~0.5質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.2~0.3質(zhì)量%。在含有多種無(wú)機(jī)鹽的情況下,該含量系各無(wú)機(jī)鹽的總含量。優(yōu)選地,所述無(wú)機(jī)鹽包含硅酸鈉和/或磷酸鋁。
4、優(yōu)選地,微弧氧化層表面封孔液還含有分散介質(zhì),相對(duì)于微弧氧化層表面封孔液的總量,分散介質(zhì)的含量為80~99質(zhì)量%,優(yōu)選為90~98質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為95~97質(zhì)量%。
5、優(yōu)選地,所述分散介質(zhì)為水。
6、優(yōu)選地,所述微弧氧化層為鎂或鎂合金表面的微弧氧化層。
7、本發(fā)明的另一實(shí)施方式涉及微弧氧化層表面封孔方法,其特征在于,包括:將表面具備微弧氧化層的材料浸沒(méi)于上述封孔液中的浸沒(méi)工序。
8、優(yōu)選地,浸沒(méi)工序的溫度為20~30℃,時(shí)間為10~15分鐘。
9、優(yōu)選地,所述浸沒(méi)工序后,將材料對(duì)材料進(jìn)行加熱固化的工序,加熱溫度為90~120℃,時(shí)間為30~60分鐘。
10、優(yōu)選地,在所述浸沒(méi)工序前,依次用純水、無(wú)水乙醇清洗并吹干干燥的預(yù)處理工序。
11、優(yōu)選地,所述表面具備微弧氧化層的材料為鎂或鎂合金。
12、本發(fā)明的另一實(shí)施方式涉及復(fù)合材料,其特征在于,具備:金屬基材,形成于金屬基材上的微弧氧化層,所述微弧氧化層的表面及微孔中覆有封孔材料,所述封孔材料來(lái)源于上述微弧氧化層表面封孔液。
13、優(yōu)選地,所述金屬基材為鎂或鎂合金。
14、與現(xiàn)有技術(shù)相比較,本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于:本發(fā)明的微弧氧化層表面封孔液通過(guò)同時(shí)含有特定無(wú)機(jī)鹽和石墨烯,可與基體及微弧氧化層結(jié)合良好,提供致密、平整的表面,有效阻隔了腐蝕性物質(zhì)進(jìn)入金屬基體內(nèi)部,從而提高鎂合金的耐蝕性。同時(shí),不改變陶瓷氧化膜層表面的陶瓷質(zhì)感,提高了鎂合金等微弧氧化膜層的硬度,具有較好的耐磨、耐熱、抗污等性能。本發(fā)明具有制備工藝簡(jiǎn)單,封孔液易配比,操作方便,可以有效提升鎂合金等表面的防護(hù)能力。
1.一種微弧氧化層表面封孔液,其特征在于,含有:選自硅酸鹽、碳酸鹽、磷酸鹽或硫酸鹽中的至少一種無(wú)機(jī)鹽,以及氧化石墨烯。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,相對(duì)于微弧氧化層表面封孔液總量,所述無(wú)機(jī)鹽的含量為0.5~5.0質(zhì)量%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,相對(duì)于微弧氧化層表面封孔液總量,所述氧化石墨烯的含量為0.1~0.5質(zhì)量%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,所述無(wú)機(jī)鹽包含硅酸鈉和/或磷酸鋁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,還含有分散介質(zhì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,相對(duì)于微弧氧化層表面封孔液的總量,分散介質(zhì)的含量為90~98質(zhì)量%。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,所述分散介質(zhì)為水。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化層表面封孔液,其中,所述微弧氧化層為鎂或鎂合金表面的微弧氧化層。
9.一種微弧氧化層表面封孔方法,其特征在于,包括:將表面具備微弧氧化層的材料浸沒(méi)于權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的封孔液中的浸沒(méi)工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微弧氧化層表面封孔方法,其中,浸沒(méi)工序的溫度為20~30℃,時(shí)間為10~15分鐘。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微弧氧化層表面封孔方法,其中,進(jìn)一步包括以下工序:所述浸沒(méi)工序后,對(duì)材料進(jìn)行加熱固化的工序,加熱溫度為90~120℃,時(shí)間為30~60分鐘。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微弧氧化層表面封孔方法,其中,進(jìn)一步包括以下工序:在所述浸沒(méi)工序前,依次用純水、無(wú)水乙醇清洗材料并吹干干燥的預(yù)處理工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微弧氧化層表面封孔方法,其中,所述表面具備微弧氧化層的材料為鎂或鎂合金。
14.一種復(fù)合材料,其特征在于,具備:金屬基材,形成于金屬基材上的微弧氧化層,且所述微弧氧化層的表面及微孔中覆有封孔材料,所述封孔材料來(lái)源于權(quán)利要求1~8中任一項(xiàng)所述的微弧氧化層表面封孔液。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的復(fù)合材料,所述金屬基材為鎂或鎂合金。