專利名稱：一種防止鍍液積累的鍍件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于電鍍領(lǐng)域，尤其是涉及一種防止鍍液積累的鍍件。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有的技術(shù)中，電鍍件在電鍍完成后出槽子時(shí)，會(huì)有鍍液覆蓋在鍍件表面，尤其是有孔的鍍件更為嚴(yán)重，存在鍍液損害鍍件耐腐蝕功能的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種防止鍍液積累的鍍件，尤其適合有孔的鍍件。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種防止鍍液積累的鍍件，包括鍍件本體和阻鍍?nèi)?，所述鍍件本體包括底板和設(shè)在底板上的開有孔的支座，所述阻鍍?nèi)ㄅc鍍件本體的開孔大小一致的塞子。進(jìn)一步的，所述支座上的孔位于支座下端與底板連接處。進(jìn)一步的，所述阻鍍?nèi)€包括位于所述塞子的上方與塞子相連的塞帽。本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案，電鍍前將阻鍍?nèi)迦脲兗拈_孔處，有效防止鍍件在電鍍過程中鍍件底板與鍍件支座連接處的鍍液的積累，增強(qiáng)鍍件的韌性；具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，加工成本低、電鍍效果好等優(yōu)點(diǎn)。
圖1是本實(shí)用新型一種防止鍍液積累的鍍件的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:1、底板2、支座3、塞子4、塞帽
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型一種防止鍍液積累的鍍件，包括鍍件本體和阻鍍?nèi)?，所述鍍件本體包括底板I和設(shè)在底板I上的開有孔的支座2，所述阻鍍?nèi)ㄅc鍍件本體的開孔大小一致的塞子3，所述支座上的孔位于支座2下端與底板I連接處，所述阻鍍?nèi)€包括位于所述塞子3的上方與塞子3相連的塞帽4。本實(shí)例的工作過程:電鍍前，將阻鍍?nèi)迦脲兗拈_孔處，有效防止鍍件在電鍍過程中鍍件的底板I與鍍件的支座2連接處的鍍液的積累，增強(qiáng)鍍件的相關(guān)功能測(cè)試。以上對(duì)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本實(shí)用新型的實(shí)施范圍。凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本實(shí)用新型的專利涵蓋范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種防止鍍液積累的鍍件，其特征在于:包括鍍件本體和阻鍍?nèi)?，所述鍍件本體包括底板和設(shè)在底板上的開有孔的支座，所述阻鍍?nèi)ㄅc鍍件本體的開孔大小一致的塞子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防止鍍液積累的鍍件，其特征在于:所述支座上的孔位于支座下端與底板連接處。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防止鍍液積累的鍍件，其特征在于:所述阻鍍?nèi)€包括位于所述塞子的上方與塞子相連的塞帽。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種防止鍍液積累的鍍件，包括鍍件本體和阻鍍?nèi)鲥兗倔w包括底板和設(shè)在底板上的開有孔的支座，所述支座上的孔位于支座下端與底板連接處，所述阻鍍?nèi)ㄅc鍍件本體的開孔大小一致的塞子和位于所述塞子的上方與塞子相連的塞帽。本實(shí)用新型的有益效果是電鍍前，將阻鍍?nèi)迦脲兗拈_孔處，有效防止鍍件在電鍍過程中鍍件底板與鍍件支座連接處的鍍液的積累，增強(qiáng)鍍件的韌性；具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，加工成本低、電鍍效果好等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C25D5/02GK202954116SQ20122055599
公開日2013年5月29日 申請(qǐng)日期2012年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月26日
發(fā)明者曹恒海, 宿治國(guó) 申請(qǐng)人:天津市精美特表面技術(shù)有限公司