專利名稱：核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及機械工程領(lǐng)域，尤其涉及一種核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，用于控制棒驅(qū)動機構(gòu)部件支撐筒的表面處理工作。
背景技術(shù)：
支撐筒表面處理包括小孔鍍硬鉻，內(nèi)圓鍍硬鉻，外圓鍍硬鉻，屬于局部電鍍，其中小孔與內(nèi)圓電鍍后需要經(jīng)過上海電氣的磨削加工，磨削完畢后還需要經(jīng)過PT無損探傷。其中在支撐筒的“L”型外表面，要求“L”型外表面的鍍層要均勻一致，對電鍍工藝要求非?？梁J。因此，急需一種控制棒驅(qū)動機構(gòu)部件支撐筒的電鍍工藝以及電鍍保護工裝，來填補了國內(nèi)核電行業(yè)針對局部電鍍硬鉻產(chǎn)品的空白。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置。本實用新型采用的技術(shù)方案是:核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，包括上壓板、下壓板、支撐連接柱和支撐筒，所述支撐連接柱上套有兩個支撐筒，所述支撐連接柱和支撐筒設(shè)于上壓板和下壓板之間，所述上壓板和下壓板與支撐連接柱之間通過螺栓連接，所述支撐筒上設(shè)有窗口和小孔，所述窗口和小孔上設(shè)有擋塊，所述擋塊通過螺釘與支撐連接柱固定連接。所述兩個支撐筒之間設(shè)有墊圈。本實用新型的優(yōu)點是:兩個支撐筒工裝設(shè)計，提高了電鍍效率；小孔電鍍時陽極與電鍍面距離非常近，極大地提高了電鍍效率；小孔同心圓設(shè)計，保證鍍層的均勻致密；兩個電鍍零件之間的保護措施，防止零件磕碰傷，同時可以有效阻鍍。
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步詳細(xì)描述。
圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。其中:1、上壓板，2、下壓板，3、支撐連接柱，4、支撐筒，5、螺栓，6、窗口，7、小孔，8、擋塊，9、螺釘，10、墊圈。
具體實施方式
如
圖1所示，本實用新型的核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，包括上壓板1、下壓板2、支撐連接柱3和支撐筒4，所述支撐連接柱3上套有兩個支撐筒4，所述支撐連接柱3和支撐筒4設(shè)于上壓板I和下壓板2之間，所述上壓板I和下壓板2與支撐連接柱3之間通過螺栓5連接，所述支撐筒4上設(shè)有窗口 6和小孔7，所述窗口 6和小孔7上設(shè)有擋塊8，所述擋塊8通過螺釘9與支撐連接柱3固定連接，所述兩個支撐筒4之間設(shè)有墊圈10，兩個支撐筒4工裝設(shè)計，提高了電鍍效率，小孔7電鍍時陽極與電鍍面距離非常近，極大地提高了電鍍效率，小孔7同心圓設(shè)計，保證鍍層的均勻致密，兩個電鍍零件之間的保護措施，防止零件磕碰傷，同時可以有效阻鍍。
權(quán)利要求1.反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，其特征在于:包括上壓板、下壓板、支撐連接柱和支撐筒，所述支撐連接柱上套有兩個支撐筒，所述支撐連接柱和支撐筒設(shè)于上壓板和下壓板之間，所述上壓板和下壓板與支撐連接柱之間通過螺栓連接，所述支撐筒上設(shè)有窗口和小孔，所述窗口和小孔上設(shè)有擋塊，所述擋塊通過螺釘與支撐連接柱固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，其特征在于:所述兩個支撐筒之間設(shè)有墊圈。
專利摘要本實用新型公開了核反應(yīng)堆堆內(nèi)構(gòu)件表面處理工藝裝置，其特征在于包括上壓板、下壓板、支撐連接柱和支撐筒，所述支撐連接柱上套有兩個支撐筒，所述支撐連接柱和支撐筒設(shè)于上壓板和下壓板之間，所述上壓板和下壓板與支撐連接柱之間通過螺栓連接，所述支撐筒上設(shè)有窗口和小孔，所述窗口和小孔上設(shè)有擋塊，所述擋塊通過螺釘與支撐連接柱固定連接，所述兩個支撐筒之間設(shè)有墊圈。本實用新型的優(yōu)點是兩個支撐筒工裝設(shè)計，提高了電鍍效率；小孔電鍍時陽極與電鍍面距離非常近，極大地提高了電鍍效率；小孔同心圓設(shè)計，保證鍍層的均勻致密；兩個電鍍零件之間的保護措施，防止零件磕碰傷，同時可以有效阻鍍。
文檔編號C25D7/00GK202925122SQ201220555719
公開日2013年5月8日 申請日期2012年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月28日
發(fā)明者仇士學(xué), 張建峰, 東永華 申請人:南通市申海工業(yè)技術(shù)科技有限公司