專利名稱：Za43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種ZA43高鋁鋅基合金氧化裝置，主要用于對ZA43高鋁鋅基合 金進行氧化處理，使ZA43高鋁鋅基合金表面生成氧化膜。屬于金屬材料表面加工技術領 域。
背景技術：
高鋁鋅基合金以其比強度高和導熱性好的特性而為人們所熟知，但硬度低、耐磨 性差又限制了它的應用。過去人們已發現通過陽極氧化等方法能解決這一問題，但陽極氧 化和電鍍前處理要求嚴，陽極氧化膜比較薄、致密性差，耐磨性差；電鍍層必須進行特殊的 中間處理，且均鍍能力差，耐磨性和耐腐蝕性差，易污染環境；而熱噴涂所得陶瓷層均勻性 差、脆性大和易于剝落等。這些問題的存在，使得這些技術在工業上的應用受到一定的限 制。
發明內容本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種耐磨性和耐腐蝕性好的ZA43高 鋁鋅基合金微弧氧化裝置。本實用新型的目的是這樣實現的一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，包括 電解槽，電解槽內放置有電解液、不銹鋼鋼板和工件,在所沭電解槽外設置有微弧氧化電源 裝置，該微弧氧化電源裝置的正極與所述不銹鋼鋼板相連，微弧氧化電源裝置的負極與所 述工件相連。本實用新型ZA43高鋁鐸基合金微弧氧化裝置，所沭電解槽外還設置有循環冷卻 水槽和循環泵，所述循環泵的出液口通過一管路與電解槽相連通，且該管路中間段置于所 述循環冷卻水槽內，循環泵的進液口通過另一管路接入電解槽內。本實用新型的有益效果是1、本實用新型采用微弧氧化可以產生比陽極氧化膜厚得多的陶瓷氧化膜；且微弧 氧化陶瓷膜的硬度、耐磨性及耐腐蝕性等表面性能均比陽極氧化膜好。微弧氧化陶瓷膜與 基體金屬的結合力也比熱噴涂陶瓷膜的結合力大。微弧氧化膜具備了陽極氧化膜和陶瓷噴 涂層兩者的優點。2、電解液冷卻采用外置的循環冷卻水槽，電解液冷卻效果明顯，操作容易。3、電解液電解槽材料用不銹鋼，外表面用海綿包裹，以保證電解液溫度。4、ZA43高鋁鋅基合金采用微弧氧化表面強化技術，具有效率高、表面性能好且工 序簡單、無污染等特點，可在復雜形狀鋁合金零件的表面均勻生長出一層與基體結合良好 的高硬度的氧化鋁陶瓷層。
圖1為本實用新型ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置的結構示意圖。[0012]圖中附圖標記微弧氧化電源裝置1、電解槽2、不銹鋼鋼板3、工件4、循環泵5、循環冷卻水槽6、 進水口 6. 1、出水口 6. 2。
具體實施方式
參見圖1，圖1為本實用新型ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置的結構示意圖。由 圖1可以看出，本實用新型ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，包括電解槽2，電解槽2內 放置有電解液、不銹鋼鋼板3和工件4，不銹鋼鋼板3和工件4之間保持3 O 5 O mm間 隙,在所沭電解槽2外設置有微弧氧化電源裝置1，該微弧氧化電源裝置1的正極與所述不 銹鋼鋼板3相連，微弧氧化電源裝置1的負極與所述工件4相連。電解槽2外還設置有循 環冷卻水槽6和循環泵5，所述循環泵5的出液口通過一管路與電解槽2相連通，且該管路 中間段置于所述循環冷卻水槽6內，循環泵5的進液口通過另一管路接入電解槽2內。微弧氧化是一個物理化學、電化學、等離子體化學同時存在的復雜過程。而影響微 弧氧化陶瓷膜層性能的工藝參數有許多，包括工作電壓、工作電流密度、電解液體系的組 成等等。有些因素直接影響到是否能生成微弧氧化陶瓷膜，而另一些因素則可能影響陶瓷 膜的性能。其中對陶瓷膜的形成起到直接且重要影響的因素是微弧氧化的電參數和電解 液體系的組成。所述微弧氧化電源裝置1頻率為50Hz，電壓為0 500V，最大功率為15KVA。微弧 氧化電源裝置1電路上還連接有電壓表和電流表。
權利要求1.一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，包括電解槽( ，電解槽O)內放置有電 解液、不銹鋼鋼板C3)和工件G)，其特征在于在所述電解槽( 外設置有微弧氧化電源 裝置(1)，該微弧氧化電源裝置(1)的正極與所述不銹鋼鋼板C3)相連，微弧氧化電源裝置 (1)的負極與所述工件(4)相連。
2.根據權利要求1所述的一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，其特征在于所述電 解槽( 外還設置有循環冷卻水槽(6)和循環泵(5)，所述循環泵( 的出液口通過一管路 與電解槽( 相連通，且該管路中間段置于所述循環冷卻水槽(6)內，循環泵( 的進液口 通過另一管路接入電解槽O)內。
3.根據權利要求1或2所述的一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，其特征在于所 述不銹鋼鋼板⑶和工件⑷之間保持3 O 5 O mm間隙。
4.根據權利要求1或2所述的一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，其特征在于所 述微弧氧化電源裝置(1)頻率為50Hz，電壓為0 500V，最大功率為15KVA。
5.根據權利要求1或2所述的一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，其特征在于所 述微弧氧化電源裝置(1)電路上還連接有電壓表和電流表。
專利摘要本實用新型涉及一種ZA43高鋁鋅基合金微弧氧化裝置，主要用于對ZA43高鋁鋅基合金進行氧化處理，使ZA43高鋁鋅基合金表面生成氧化膜。包括電解槽(2)，電解槽(2)內放置有電解液、不銹鋼鋼板(3)和工件(4)，在所述電解槽(2)外設置有微弧氧化電源裝置(1)，該微弧氧化電源裝置(1)的正極與所述不銹鋼鋼板(3)相連，微弧氧化電源裝置(1)的負極與所述工件(4)相連。本實用新型采用微弧氧化可以產生比陽極氧化膜厚得多的陶瓷氧化膜；且微弧氧化陶瓷膜的硬度、耐磨性及耐腐蝕性等表面性能均比陽極氧化膜好。
文檔編號C25D11/34GK201915159SQ20102064510
公開日2011年8月3日 申請日期2010年12月7日 優先權日2010年12月7日
發明者崔聯合, 曹紅衛 申請人:江陰職業技術學院