專利名稱：一種鎂電解槽支撐結構的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種鎂電解槽的支撐結構，特別涉及一種大型的、大電流的鎂電解槽 的安裝支撐結構。
背景技術：
目前，現有的鋁電解槽支撐結構方式多采用在土建基礎上放置絕緣座(板)，在絕 緣座上放置橫梁，最后將帶搖籃架的電解槽放置于橫粱上。現在隨著電解槽容量的逐漸加 大，電解槽生產的重量，電流及熱膨脹的位移量也開始變大。因此，由于膨脹所引起的摩擦 力也變大，相關構件和土建基礎承載著較大的摩擦力，對砼基礎的水平推力大，對該基礎的 穩定性產生不利影響；同時由于電流變化產生的感應電流，對絕緣支座的絕緣性能和強度 也要求更高。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種電解槽支撐結構和絕緣支座(板)，該支 撐結構使得鎂電解槽在生產過程中的熱應變位移產生的水平推力能均勻的傳在一個水平 支撐系統上，以減小對砼基礎的水平推力，克服現有技術的不足。為了解決上述技術問題，本發明采取以下基本技術方案在砼基礎上放置絕緣支 座，在絕緣支座上放置水平支撐系統，在水平支撐系統上直接放置帶搖籃架的鎂電解槽。水平支撐系統由主梁、第一次梁、第二次梁和斜撐組成。主梁支撐在絕緣座上，第 一次梁放在主梁5，第二次梁放在第一次梁中間，斜撐與第一次梁連接。水平支撐系統通過 絕緣支座把水平推力均勻的傳到砼基礎上。與現有技術相比，本發明采用了水平支撐系統，使得電解槽由于膨脹所引起的摩 擦水平推力通過支撐系統轉變為垂直力均勻的傳到砼基礎上。從而減少了砼基礎的水平推 力，增加了基礎的穩定性。本發明的基本技術方案改變了傳統的支撐方式，使傳到基礎上的水平推力大幅度 的減少，從而增加了基礎的穩定性。
圖1是本發明支撐結構立面示意圖；圖2 本發明支撐結構平面示意圖。
具體實施例方式實施例1，如圖1所示該支撐結構包括鎂電解槽1、水平支撐系統2、絕緣支座3和 砼基礎4，先按傳統的方法施工鋼筋混凝土砼基礎4 ；且找平，然后在鋼筋混凝土砼基礎4放 置絕緣支座3 ；上在地面上加工好水平支撐系統2，在絕緣支座3上放置水平支撐系統2，在 水平支撐系統2放置帶搖籃架的鎂電解槽1。
水平支撐系統2由主梁5、第一次梁6、第二次梁7和斜撐8組成，主梁5支撐在絕 緣座3上，第一次梁6放在主梁5上，第二次梁7放在第一次梁6中間，斜撐8與第一次梁6 連接。水平支撐系統通過絕緣支座把水平推力均勻的傳到砼基礎上，從而減少了砼基礎的 水平推力，增加了基礎的穩定性。
權利要求
1.一種鎂電解槽的支撐結構，其特征在于它包括鎂電解槽(1)、水平支撐系統O)、絕 緣支座C3)和砼基礎G)，在砼基礎(4)上放置絕緣支座(3)，在絕緣支座C3)上放置水平 支撐系統O)，在水平支撐系統( 放置鎂電解槽(1)。
2.根據權利要求1所述的鎂電解槽的支撐結構，其特征在于水平支撐系統O)由主 梁(5)、第一次梁(6)、第二次梁(7)和斜撐⑶組成，主梁(5)支撐在絕緣座(3)上，第一 次梁(6)放在主梁(5)上，第二次梁(7)放在第一次梁(6)中間，斜撐⑶與第一次梁(6) 連接。
全文摘要
本發明公開了一種鎂電解槽的支撐結構，在砼基礎(4)上放置絕緣支座(3)，在絕緣支座(3)上水平支撐系統(2)，在水平支撐系統(2)直接放置鎂電解槽(1)。在上述技術方案中的絕緣支座(3)應有足夠的抗壓強度和絕緣電阻率；水平支撐結構(2)由上主梁(5)、次梁(6)、次梁(7)、斜撐(8)組成，各構件的大小通過計算確定。本發明采用了水平支撐系統，使得電解槽由于膨脹所引起的摩擦水平推力通過支撐系統轉變為垂直力均勻的傳到砼基礎上。從而減少了砼基礎的水平推力，增加了基礎的穩定性。
文檔編號C25C3/04GK102121115SQ20101030009
公開日2011年7月13日 申請日期2010年1月7日 優先權日2010年1月7日
發明者劉建軍, 吳長華, 宋競寧 申請人:貴陽鋁鎂設計研究院